一種玻璃貼膜工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種玻璃貼膜工藝，包括如下步驟：(1)提供合格的玻璃基片；(2)在玻璃基片表面沉積一層或多層功能膜系層，采用磁控濺射沉積的方式，在真空級(jí)數(shù)為0.1Pa級(jí)的工作氣氛下，N2/O2比例不超過8的條件下進(jìn)行的；(3)在一層或多層功能膜系層表面沉積一層鋯混合摻雜膜層，采用磁控濺射沉積的方式，在真空級(jí)數(shù)為0.12Pa級(jí)的工作氣氛下，N2/O2比例不超過8的條件下進(jìn)行的，采用磁控濺射沉積的方式，沉積功能膜系層以及鋯混合摻雜膜層，鋯摻雜薄膜具有高硬度且抗氧化性強(qiáng)，膜層可避免使用PE有機(jī)貼膜等一系列問題，同時(shí)對(duì)基片膜層起到很好的保護(hù)效果，在運(yùn)輸和儲(chǔ)藏的過程中，可以防止基片膜層劃傷、延緩銀層氧化速度。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及玻璃貼膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種玻璃貼膜工藝。 一種玻璃貼膜工藝
【背景技術(shù)】
[0002] 玻璃本體，尤其是普通平板玻璃本體具有的性能有限，應(yīng)用受到限制。因此，常需 要對(duì)玻璃進(jìn)行深加工處理，以改善和提高其性能。而在各種玻璃深加工技術(shù)中，玻璃表面鍍 膜是一種常用的方法，通過鍍不同的膜，可以改善玻璃的光學(xué)、熱學(xué)、電學(xué)、化學(xué)和力學(xué)等性 能。此外，有些膜還具有裝飾功能，所以鍍膜玻璃的應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛。
[0003] 玻璃表面鍍膜技術(shù)的歷史也非常久遠(yuǎn)[1-2]，早在12世紀(jì)末和13世紀(jì)初就出現(xiàn)了 背面涂金屬膜的玻璃鏡，15世紀(jì)到16世紀(jì)威尼斯大量生產(chǎn)玻璃鏡，1817年制造出第一批鍍 制的薄膜，1912年和1933年分別研制成功真空蒸發(fā)沉積法鍍金屬銀膜和鋁膜。20世紀(jì)50年 代，玻璃幕墻開始大量運(yùn)用于高層建筑，但當(dāng)時(shí)主要為整體著色玻璃。隨著鍍膜技術(shù)的發(fā) 展，尤其是磁控濺射在大面積玻璃上鍍膜技術(shù)的發(fā)展，建筑行業(yè)開始逐漸大量使用各種鍍 膜玻璃。
[0004] 鍍膜玻璃由于其優(yōu)良的性能已經(jīng)在各個(gè)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，然而其在運(yùn)輸和 儲(chǔ)藏的過程中，基片膜層容易劃傷、磨損，并且其銀層容易被破壞。另外，鍍膜玻璃在進(jìn)行各 種冷加工和熱處理，如切片、磨邊，夾層等處理后，物理化學(xué)性能容易發(fā)生改變，針對(duì)此問 題，目前國(guó)內(nèi)大部分玻璃深加工企業(yè)使用PE有機(jī)貼膜保護(hù)基片膜層，它可以起到一定的保 護(hù)效果。然而，使用基片時(shí)，需人工揭膜，而且保護(hù)膜不能重復(fù)利用，單位平米的玻璃就需要 單位平米的PE膜，成本較高。批量使用會(huì)造成大量的固體廢物，且不易降解，對(duì)環(huán)境造成了 嚴(yán)重的負(fù)面影響。
[0005] 目前使用PE有機(jī)膜貼膜的方法大致分為手動(dòng)貼膜和自動(dòng)貼膜。手動(dòng)貼膜時(shí)，人工 將PE膜貼在玻璃上，玻璃表面容易形成很多的氣泡，氣泡內(nèi)為空氣，此部分的空氣若長(zhǎng)時(shí)間 地存在于玻璃表面將會(huì)給玻璃膜層帶來氧化的風(fēng)險(xiǎn)。人工貼膜操作是不能保證每片都能貼 平整，若玻璃上有貼不平整的，可能會(huì)造成局部壓傷。自動(dòng)貼膜方法是在玻璃下片前用上下 滾壓的方法將玻璃和PE膜貼在一起，該方法能解決貼不平整和有氣泡的問題，但不能最終 解決環(huán)境污染問題，因此，使用PE膜不是一個(gè)合理解決鍍膜玻璃保護(hù)的方式。
[0006] 另外，在最外層鍍類金剛石膜的方法在玻璃不鋼化時(shí)雖然可以對(duì)玻璃起到很大的 保護(hù)作用但是在玻璃鋼化過程中會(huì)與氧氣反應(yīng)而氣化，在后續(xù)加工和運(yùn)輸過程中失去對(duì)功 能層的保護(hù)作用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 針對(duì)以上問題，本發(fā)明提供了一種玻璃貼膜工藝，采用磁控濺射沉積的方式，沉積 功能膜系層以及鋯混合摻雜膜層，鋯摻雜薄膜具有高硬度且抗氧化性強(qiáng)，膜層可避免使用 PE有機(jī)貼膜等一系列問題，同時(shí)對(duì)基片膜層起到很好的保護(hù)效果，在運(yùn)輸和儲(chǔ)藏的過程中， 可以防止基片膜層劃傷、延緩銀層氧化速度。鋯膜層的玻璃鋼化后不僅透過率高，而且膜層 不會(huì)被燃燒掉，在玻璃運(yùn)輸、儲(chǔ)藏的過程中能更好地保護(hù)玻璃，防止劃傷，延緩氧化，具有較 強(qiáng)的實(shí)際應(yīng)用價(jià)值，可以有效解決【背景技術(shù)】中的問題。
[0008] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:一種玻璃貼膜工藝，包括如下步 驟： (1) 提供合格的玻璃基片； (2) 在玻璃基片表面沉積一層或多層功能膜系層，采用磁控濺射沉積的方式，在真空級(jí) 數(shù)為0.1 Pa級(jí)的工作氣氛下，N2/02比例不超過8的條件下進(jìn)行的； (3) 在一層或多層功能膜系層表面沉積一層鋯混合摻雜膜層，采用磁控濺射沉積的方 式，在真空級(jí)數(shù)為0.12Pa級(jí)的工作氣氛下，N 2/02比例不超過8的條件下進(jìn)行的。
[0009] 根據(jù)上述技術(shù)方案，所述步驟(2)中功能膜系層包括NiCr、Ag、AgCu、Si3N4、Ti 3N4、 T i O2、SnO2、S i O2、ZnO 或 SnZnO3、Al ZnOx、NbOx 中的一種或多種的材料膜層。
[0010] 根據(jù)上述技術(shù)方案，所述步驟（2)中功能膜系層最外層為SiO2,沉積厚度為10~ 40nm〇
[0011]根據(jù)上述技術(shù)方案，所述步驟(3)中錯(cuò)混合摻雜膜層的材料為SiNx和ZrSiOxNy的 混合物，沉積厚度為5~50nm;沉積鋯混合摻雜膜層的靶材選自ZrSiAl和SiAl，沉積時(shí)將靶 材ZrSiAl和SiAl置于同一腔室進(jìn)行濺射，通過調(diào)節(jié)2個(gè)靶材的安裝角度、擋板寬度，控制最 終形成膜層中SiNx所占重量比例。
[0012] 根據(jù)上述技術(shù)方案，所述功能膜系層自玻璃基片向外依次為： 鍍制在玻璃基板上的基層電介質(zhì)層，其膜層材料為氧化鈦，厚度為12nm; 鍍制在基層電介質(zhì)層上的第1阻擋層，其膜層材料為鎳鉻合金，厚度為4nm; 鍍制在第1阻擋層上的功能層，其膜層材料為單質(zhì)銀，厚度為12nm; 鍍制在功能層上的第2阻擋層，其膜層材料為鎳鉻合金，厚度為lnm; 鍍制在第2阻擋層上面的頂層電介質(zhì)層，其膜層材料為氧化硅，厚度為IOnm; 鍍制在頂層電介質(zhì)層上面的鋯混合摻雜膜層。
[0013] 本發(fā)明的有益效果： 本發(fā)明采用磁控濺射沉積的方式，沉積功能膜系層以及鋯混合摻雜膜層，鋯摻雜薄膜 具有高硬度且抗氧化性強(qiáng)，膜層可避免使用PE有機(jī)貼膜等一系列問題，同時(shí)對(duì)基片膜層起 到很好的保護(hù)效果，在運(yùn)輸和儲(chǔ)藏的過程中，可以防止基片膜層劃傷、延緩銀層氧化速度。 鋯膜層的玻璃鋼化后不僅透過率高，而且膜層不會(huì)被燃燒掉，在玻璃運(yùn)輸、儲(chǔ)藏的過程中能 更好地保護(hù)玻璃，防止劃傷，延緩氧化，具有較強(qiáng)的實(shí)際應(yīng)用價(jià)值。
【具體實(shí)施方式】
[0014] 為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明 進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于 限定本發(fā)明。
[0015] 實(shí)施例1: 一種玻璃貼膜工藝，包括如下步驟： (1) 提供合格的玻璃基片； (2) 在玻璃基片表面沉積一層或多層功能膜系層，采用磁控濺射沉積的方式，在真空級(jí) 數(shù)為0.1 Pa級(jí)的工作氣氛下，N2/02比例不超過8的條件下進(jìn)行的；其中功能膜系層包括NiCr、 △8、厶8(：11、513他、113他、11〇2、311〇2、31〇2、211〇或511211〇3、厶1211(^、恥(^中的一種或多種的材料膜 層;功能膜系層最外層為Si〇2,沉積厚度為10~40nm; (3)在一層或多層功能膜系層表面沉積一層鋯混合摻雜膜層，采用磁控濺射沉積的方 式，在真空級(jí)數(shù)為〇.12Pa級(jí)的工作氣氛下，N2/02比例不超過8的條件下進(jìn)行的；其鋯混合摻 雜膜層的材料為SiNx和ZrSiOxNy的混合物，沉積厚度為5~50nm;沉積錯(cuò)混合摻雜膜層的革巴 材選自ZrSiAl和SiAl，沉積時(shí)將靶材ZrSiAl和SiAl置于同一腔室進(jìn)行濺射，通過調(diào)節(jié)2個(gè)靶 材的安裝角度、擋板寬度，控制最終形成膜層中SiNx所占重量比例。
[0016] 實(shí)施例2: 一種玻璃貼膜工藝，包括如下步驟： (1) 提供合格的玻璃基片； (2) 在玻璃基片表面沉積一層或多層功能膜系層，采用磁控濺射沉積的方式，在真空級(jí) 數(shù)為0.1 Pa級(jí)的工作氣氛下，N2/02比例不超過8的條件下進(jìn)行的；其中功能膜系層包括NiCr、 △ 8、厶8(：11、513他、113他、11〇2、311〇2、31〇2、211〇或511211〇3、厶1211(^、恥(^中的一種或多種的材料膜 層;所述功能膜系層自玻璃基片向外依次為： 鍍制在玻璃基板上的基層電介質(zhì)層，其膜層材料為氧化鈦，厚度為12nm; 鍍制在基層電介質(zhì)層上的第1阻擋層，其膜層材料為鎳鉻合金，厚度為4nm; 鍍制在第1阻擋層上的功能層，其膜層材料為單質(zhì)銀，厚度為12nm; 鍍制在功能層上的第2阻擋層，其膜層材料為鎳鉻合金，厚度為lnm; 鍍制在第2阻擋層上面的頂層電介質(zhì)層，其膜層材料為氧化硅，厚度為IOnm; 鍍制在頂層電介質(zhì)層上面的鋯混合摻雜膜層。
[0017] (3)在一層或多層功能膜系層表面沉積一層鋯混合摻雜膜層，采用磁控濺射沉積 的方式，在真空級(jí)數(shù)為〇. 12Pa級(jí)的工作氣氛下，N2/02比例不超過8的條件下進(jìn)行的；其鋯混 合摻雜膜層的材料為SiNx和ZrSiOxNy的混合物，沉積厚度為5~50nm;沉積鋯混合摻雜膜層 的靶材選自ZrSiAl和SiAl，沉積時(shí)將靶材ZrSiAl和SiAl置于同一腔室進(jìn)行濺射，通過調(diào)節(jié)2 個(gè)靶材的安裝角度、擋板寬度，控制最終形成膜層中SiNx所占重量比例。
[0018] 本發(fā)明對(duì)實(shí)施例1至實(shí)施例2所得產(chǎn)品進(jìn)行測(cè)試，測(cè)試的指標(biāo)有:透光率、強(qiáng)度、彈 件樽量和泊柃比，涮試結(jié)里加下弄：
由上表可知，實(shí)施例1至實(shí)施例2所得成品的各項(xiàng)性能明顯優(yōu)異與標(biāo)準(zhǔn)品。
[0019] 基于上述，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于，本發(fā)明采用磁控濺射沉積的方式，沉積功能膜系層 以及鋯混合摻雜膜層，鋯摻雜薄膜具有高硬度且抗氧化性強(qiáng)，膜層可避免使用PE有機(jī)貼膜 等一系列問題，同時(shí)對(duì)基片膜層起到很好的保護(hù)效果，在運(yùn)輸和儲(chǔ)藏的過程中，可以防止基 片膜層劃傷、延緩銀層氧化速度。鋯膜層的玻璃鋼化后不僅透過率高，而且膜層不會(huì)被燃燒 掉，在玻璃運(yùn)輸、儲(chǔ)藏的過程中能更好地保護(hù)玻璃，防止劃傷，延緩氧化，具有較強(qiáng)的實(shí)際應(yīng) 用價(jià)值。
[0020]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精 神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種玻璃貼膜工藝，其特征在于，包括如下步驟： (1) 提供合格的玻璃基片； (2) 在玻璃基片表面沉積一層或多層功能膜系層，采用磁控濺射沉積的方式，在真空級(jí) 數(shù)為0.1 Pa級(jí)的工作氣氛下，N2/02比例不超過8的條件下進(jìn)行的； (3) 在一層或多層功能膜系層表面沉積一層鋯混合摻雜膜層，采用磁控濺射沉積的方 式，在真空級(jí)數(shù)為0.12Pa級(jí)的工作氣氛下，N 2/02比例不超過8的條件下進(jìn)行的。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種玻璃貼膜工藝，其特征在于，所述步驟(2)中功能膜系層 包括附(>、厶8、厶8〇1、513他、113他、11〇2、311〇2、31〇2、211〇或511211〇3、厶1211(^、恥(^中的一種或多 種的材料膜層。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種玻璃貼膜工藝，其特征在于，所述步驟(2)中功能膜系層 最外層為Si02,沉積厚度為10~40nm〇4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種玻璃貼膜工藝，其特征在于，所述步驟(3)中鋯混合摻雜 膜層的材料為SiNx和ZrSiOxNy的混合物，沉積厚度為5~50nm;沉積錯(cuò)混合摻雜膜層的革巴材 選自ZrSiAl和SiAl，沉積時(shí)將靶材ZrSiAl和SiAl置于同一腔室進(jìn)行濺射，通過調(diào)節(jié)2個(gè)靶材 的安裝角度、擋板寬度，控制最終形成膜層中SiNx所占重量比例。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種玻璃貼膜工藝，其特征在于，所述功能膜系層自玻璃基片 向外依次為： 鍍制在玻璃基板上的基層電介質(zhì)層，其膜層材料為氧化鈦，厚度為12nm; 鍍制在基層電介質(zhì)層上的第1阻擋層，其膜層材料為鎳鉻合金，厚度為4nm; 鍍制在第1阻擋層上的功能層，其膜層材料為單質(zhì)銀，厚度為12nm; 鍍制在功能層上的第2阻擋層，其膜層材料為鎳鉻合金，厚度為lnm; 鍍制在第2阻擋層上面的頂層電介質(zhì)層，其膜層材料為氧化硅，厚度為10nm; 鍍制在頂層電介質(zhì)層上面的鋯混合摻雜膜層。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK106007398SQ201610318260
【公開日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2016年5月12日
【發(fā)明人】李錦亮
【申請(qǐng)人】東莞泰升玻璃有限公司