超白玻璃的減反射膜及超白玻璃制品的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及超白玻璃技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種超白玻璃的減反射膜及超白玻璃制品。
【背景技術(shù)】
[0002]當(dāng)前，通常會在超白玻璃表面形成減反射膜，可減少太陽光反射?，F(xiàn)有的在超白玻璃表面形成減反射膜的方式是使用輥涂機(jī)把減反射溶液涂敷于玻璃基板的表面。這種生產(chǎn)方式形成的減反射膜由于減反射溶液的液體特性，形成的膜層多有缺陷:膜層涂敷不均勻致使膜面出現(xiàn)彩虹現(xiàn)象、由于溶液的表面張力使玻璃邊部的膜層出現(xiàn)帶狀不均勻現(xiàn)象、使用機(jī)器宏觀不易控制膜層厚度和溶液的最佳使用時間等生產(chǎn)問題。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種超白玻璃的減反射膜，便于批量生產(chǎn)，且能有效消除膜厚不均勻?qū)е碌牟屎纭⑸什痪热毕荨?br>[0004]本實用新型進(jìn)一步所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種超白玻璃制品，其便于批量生產(chǎn)，且能有效消除膜厚不均勻?qū)е碌牟屎纭⑸什痪热毕荨?br>[0005]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供如下技術(shù)方案:一種超白玻璃的減反射膜，所述減反射膜是通過磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成的T1-S1-O膜層。
[0006]進(jìn)一步地，所述T1-S1-O膜層結(jié)構(gòu)由里到外依次為ZnO膜、S1j莫、TiS1 J莫及T1J1
[0007]進(jìn)一步地，所述ZnO膜的膜厚為10?20nm，折射率為1.45?1.59。
[0008]進(jìn)一步地，所述S1J莫的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0009]進(jìn)一步地，所述TiS1J莫的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0010]進(jìn)一步地，所述T1J莫的膜厚為10?20nm，折射率為1.20?1.35。
[0011]另一方面，本實用新型還提供一種超白玻璃制品，包括超白玻璃基板以及形成于超白玻璃基板表面的減反射膜，所述減反射膜是如上任一項所述的減反射膜。
[0012]進(jìn)一步地，所述超白玻璃基板是超白壓花玻璃。
[0013]采用上述技術(shù)方案后，本實用新型至少具有如下有益效果:本實用新型使用磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成T1-S1-O膜層，所得減反射膜膜厚均勻，消除了由于膜厚不均勻出現(xiàn)的色彩不均現(xiàn)象，且容易控制減反射膜層厚度，批量生產(chǎn)過程操作簡單，且克服了膜層不均勻所致的彩虹、色彩不均等缺陷，膜層質(zhì)量好。
【附圖說明】
[0014]圖1是本實用新型超白玻璃制品的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0015]需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互結(jié)合，下面結(jié)合附圖和具體實施例對本申請作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0016]如圖1所示，本實用新型提供一種超白玻璃制品，包括超白玻璃基板I以及形成于超白玻璃基板I表面的減反射膜2。
[0017]在一個實施例中，所述超白玻璃基板I可以采用超白壓花玻璃制成。
[0018]所述減反射膜2是通過磁控濺射工藝在超白玻璃基板I表面形成的T1-S1-O膜層。在如圖1所示的優(yōu)選實施例中，所述T1-S1-O膜層結(jié)構(gòu)由里到外依次為ZnO膜20、Si0x膜 22、TiS1J莫 24 及 T1 ^莫 26。
[0019]優(yōu)選地，所述ZnO膜20的膜厚為10?20nm，折射率為1.45?1.59。
[0020]優(yōu)選地，所述S1J莫22的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0021]優(yōu)選地，所述TiS1J莫24的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0022]優(yōu)選地，所述T1J莫26的膜厚為10?20nm，折射率為1.20?1.35。
[0023]本實用新型超白玻璃制品及減反射膜的生產(chǎn)過程如下:
[0024]1、采用常規(guī)超白玻璃生產(chǎn)工藝生產(chǎn)超白玻璃基板；
[0025]2、采用磁控濺射工藝在超白玻璃基板的表面依次濺射形成減反射膜2由內(nèi)至外的各層結(jié)構(gòu)，濺射時，濺射裝備的本地真空度低于3.0E-6mbar，超白玻璃基板溫度為100?150°C，超白玻璃基板傳送走速為320cm/min，形成各層結(jié)構(gòu)時的具體濺射參數(shù)為:
[0026]ZnO膜:使用鋅靶材(純度為99.9% )，用高純(純度為99.999%)氣體OjPAr的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術(shù)參數(shù):濺射功率40KW ;氬氣流量600sCCm ;氧氣流量900sCCm ；
[0027]S1x膜:使用硅靶材(純度為99.9 % )，用高純(純度為99.999 % )氣體02和Ar的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術(shù)參數(shù):濺射功率200KW ;氬氣流量600sCCm ;氧氣流量700sccm ；
[0028]TiS1x膜:使用氧化硅(摻10%的鈦)鈀材，用高純(純度為99.999%)氣體02和Ar的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術(shù)參數(shù):濺射功率4200KW ;氬氣流量600sCCm ;氧氣流量700sccm ；
[0029]T1x膜:使用氧化鈦靶材，用高純(純度為99.999%)氣體OjPAr的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術(shù)參數(shù):濺射功率功率35KW ;氬氣流量1200SCCm ;氧氣流量lOOsccm。
[0030]盡管已經(jīng)示出和描述了本實用新型的實施例，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本實用新型的原理和精神的情況下可以對這些實施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本實用新型的范圍由所附權(quán)利要求及其等同范圍限定。
【主權(quán)項】
1.一種超白玻璃的減反射膜，包括，其特征在于，所述減反射膜是通過磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成的T1-S1-O膜層。
2.如權(quán)利要求1所述的超白玻璃的減反射膜，其特征在于，所述T1-S1-O膜層結(jié)構(gòu)由里到外依次為ZnO膜、S1J莫、TiS1 x膜及T1 x膜。
3.如權(quán)利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特征在于，所述ZnO膜的膜厚為10?20nm，折射率為1.45?1.59。
4.如權(quán)利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特征在于，所述S1J莫的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
5.如權(quán)利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特征在于，所述TiS1x膜的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
6.如權(quán)利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特征在于，所述T1J莫的膜厚為10?20nm，折射率為1.20?1.35。
7.一種超白玻璃制品，包括超白玻璃基板以及形成于超白玻璃基板表面的減反射膜，其特征在于，所述減反射膜是如權(quán)利要求1飛中任一項所述的減反射膜。
8.如權(quán)利要求7所述的超白玻璃制品，其特征在于，所述超白玻璃基板是超白壓花玻璃。
【專利摘要】本實用新型提供一種超白玻璃的減反射膜，所述減反射膜是通過磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成的Ti-Si-O膜層。所述Ti-Si-O膜層結(jié)構(gòu)由里到外依次為ZnO膜、SiOX膜、TiSiOX膜及TiOX膜。本實用新型還提供一種超白玻璃制品，包括超白玻璃基板以及形成于超白玻璃基板表面的減反射膜，所述減反射膜是如上述的減反射膜。所述玻璃基板是超白壓花玻璃。本實用新型使用磁控濺射工藝在玻璃表面形成Ti-Si-O膜層，所得減反射膜膜厚均勻，消除了由于膜厚不均勻出現(xiàn)的色彩不均現(xiàn)象，且容易控制減反射膜層厚度，批量生產(chǎn)過程操作簡單，且克服了膜層不均勻所致的彩虹、色彩不均等缺陷，膜層質(zhì)量好。
【IPC分類】C03C17-23
【公開號】CN204281595
【申請?zhí)枴緾N201420646329
【發(fā)明人】董清世, 黃石娟
【申請人】信義光伏產(chǎn)業(yè)(安徽)控股有限公司
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2014年10月31日