一種光學(xué)玻璃熔煉坩堝的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及光學(xué)領(lǐng)域制造領(lǐng)域，具體是一種用于制造光學(xué)玻璃的坩堝。
【背景技術(shù)】
[0002]鉬坩堝可熔煉質(zhì)量較高、對(duì)粘土坩堝有嚴(yán)重侵蝕作用的玻璃，如重冕、重鋇火石、稀土玻璃和氟磷玻璃。鉬坩堝用電加熱，一般采用硅碳棒或硅鑰棒電爐。但制造析晶傾向大、要求迅速降溫以及對(duì)氣氛有一定要求的玻璃，則可采用高頻加熱。
[0003]光學(xué)玻璃的成型法有古典破堝法、滾壓法和澆注法，但目前越來(lái)越廣泛地采用漏料成型，用單坩堝或連熔流出料液，能直接拉棒或滴料壓型或漏料成型大尺寸的毛坯，提高料滴利用率和成品率。
[0004]傳統(tǒng)方式的光學(xué)玻璃的單坩堝生產(chǎn)多采用槳葉式攪拌器攪拌，并且堝體采用單一圓柱型設(shè)計(jì)，但單一圓柱型堝體設(shè)計(jì)，會(huì)使攪拌器露出玻璃液時(shí)的玻璃液殘留量變多，從而影響產(chǎn)品的良品率。另外，對(duì)于某些揮發(fā)性較強(qiáng)的玻璃品種，敞開式的單堝體設(shè)計(jì)，會(huì)導(dǎo)致坩堝內(nèi)玻璃液上下層存在成分差異，從而影響光學(xué)玻璃的內(nèi)部均勻性和產(chǎn)品的穩(wěn)定性。
[0005]此外，光學(xué)玻璃的熔制溫度一般均在1000度以上高溫，所以坩堝需要采用耐高溫的材質(zhì)制成，60年代以來(lái)，各國(guó)相繼采用內(nèi)襯鉬的連續(xù)池窯熔煉，使光學(xué)玻璃的產(chǎn)量大大提高，質(zhì)量也好，這是目前光學(xué)玻璃生產(chǎn)工藝發(fā)展的主要趨勢(shì)。但鉬金材質(zhì)價(jià)格昂貴，要求投資大，難易承受。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的目的是提供一種能夠使單坩堝內(nèi)部與大氣密封隔絕的，同時(shí)能夠提高玻璃均化效果的密閉型光學(xué)玻璃熔煉坩堝且成本低的用于生產(chǎn)光學(xué)玻璃的?甘禍。
[0007]本實(shí)用新型一種光學(xué)玻璃熔煉坩堝的具體技術(shù)方案是:
[0008]一種光學(xué)玻璃熔煉坩堝，包括堝體，所述的堝體包括大堝腔及該大堝腔底部中央下凹的小堝腔；大堝腔的上端口設(shè)有密封槽及與該密封槽配合的密封蓋；還包括攪拌器，攪拌器的葉片位于小堝腔內(nèi)；小堝腔底部設(shè)有漏料管；大堝腔上設(shè)有通氣管；所述鍋體包括最外層的金屬基體層、最內(nèi)層的耐高溫層、及設(shè)置在該耐高溫層與金屬基體層之間的真空腔體層。
[0009]所述的大堝腔及小堝腔均為圓柱型體。
[0010]所述的通氣管橫向設(shè)置在大堝腔下部側(cè)壁上。
[0011 ] 所述的密封槽位于大堝腔上端口的外側(cè)。
[0012]所述的耐高溫層的厚度為5?20mm。
[0013]所述的金屬基體層與耐高溫層一體成型。
[0014]本實(shí)用新型的有益效果:
[0015]本實(shí)用新型在現(xiàn)有由堝體、漏料管、攪拌器構(gòu)成的光學(xué)玻璃熔煉坩堝的基礎(chǔ)上，將堝體設(shè)計(jì)成大堝腔及位于大堝腔底部中央的小鍋腔，大鍋腔的上端口設(shè)有密封槽及密封蓋，攪拌器葉片位于小鍋腔內(nèi)，漏料管設(shè)置在小鍋腔的底面上，大鍋腔上設(shè)有通氣管，因而在進(jìn)行光學(xué)玻璃熔煉時(shí)向大鍋腔上端口密封槽內(nèi)加入與堝體內(nèi)所熔煉玻璃相同品種的玻璃(多采用玻璃渣加入)，在密封槽內(nèi)玻璃熔化成玻璃液時(shí)可實(shí)現(xiàn)坩堝內(nèi)部與大氣密封隔絕，同時(shí)，攪拌器葉片在小鍋腔中攪拌，可避免在出爐過程中攪拌器葉片會(huì)因玻璃液逐漸減少而過早露出，增強(qiáng)攪拌效果，提高產(chǎn)品的良品率。本實(shí)用新型具有使單坩堝內(nèi)部與大氣密封隔絕，又同時(shí)能夠提高玻璃均化效果的特點(diǎn)。
[0016]另外，堝在金屬基體層內(nèi)設(shè)置耐高溫層，并在金屬基體層與耐高溫層之間采用真空層隔離，使得坩堝既能滿足耐高溫要求，而且降低了材料成本，耐熱性能也得到提高。
【附圖說明】
[0017]圖1為本實(shí)用新型一種光學(xué)玻璃熔煉坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]其中，1、大鍋腔；2、小鍋腔；3、密封槽；4、鍋蓋；5、攪拌器；6、攪拌葉；7、漏料管；8、排氣管；9、金屬基體層；10、耐高溫層；11、真空腔體層。
【具體實(shí)施方式】
[0019]現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖，僅以示意方式說明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。
[0020]如圖1所示，本實(shí)用新型一種光學(xué)玻璃熔煉坩堝，包括堝體，所述的堝體包括大堝腔I及該大堝腔底部中央下凹的小堝腔2 ;大堝腔I的上端口設(shè)有密封槽3及與該密封槽3配合的密封蓋4 ;還包括攪拌器5，攪拌器5的葉片6位于小堝腔2內(nèi)；小堝腔2底部設(shè)有漏料管7 ;大堝腔I上設(shè)有通氣管8 ;所述鍋體包括最外層的金屬基體層9、最內(nèi)層的耐高溫層10、及設(shè)置在該耐高溫層10與金屬基體層9之間的真空腔體層11。
[0021]進(jìn)一步的，所述的大堝腔I及小堝腔2均為圓柱型體。
[0022]進(jìn)一步的，所述的通氣管8橫向設(shè)置在大堝腔I下部側(cè)壁上。
[0023]進(jìn)一步的，所述的密封槽3位于大堝腔I上端口的外側(cè)。
[0024]進(jìn)一步的,所述的耐高溫層10的厚度為5?20mm。
[0025]進(jìn)一步的，所述的金屬基體層9與耐高溫層10 —體成型。
[0026]以上述依據(jù)本實(shí)用新型的理想實(shí)施例為啟示，通過上述的說明內(nèi)容，相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項(xiàng)實(shí)用新型技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)實(shí)用新型的技術(shù)性范圍并不局限于說明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來(lái)確定其技術(shù)性范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種光學(xué)玻璃熔煉坩堝，包括堝體，其特征在于:所述的堝體包括大堝腔(I)及該大堝腔底部中央下凹的小堝腔(2);大堝腔(I)的上端口設(shè)有密封槽(3)及與該密封槽(3)配合的密封蓋(4);還包括攪拌器(5)，攪拌器(5)的葉片(6)位于小堝腔(2)內(nèi)；小堝腔(2)底部設(shè)有漏料管(7);大堝腔(I)上設(shè)有通氣管(8);所述鍋體包括最外層的金屬基體層(9)、最內(nèi)層的耐高溫層(10)、及設(shè)置在該耐高溫層(10)與金屬基體層(9)之間的真空腔體層(11)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)玻璃熔煉坩堝，其特征在于，所述的大堝腔(I)及小堝腔(2)均為圓柱型腔體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)玻璃熔煉坩堝，其特征在于，所述的通氣管(8)橫向設(shè)置在大堝腔(I)下部側(cè)壁上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)玻璃熔煉i甘禍，其特征在于，所述的密封槽(3)位于大堝腔(I)上端口的外側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)玻璃熔煉坩堝，其特征在于，所述的耐高溫層(10)的厚度為5?20mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)玻璃熔煉坩堝，其特征在于:所述的金屬基體層(9)與耐高溫層(10)—體成型。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及光學(xué)領(lǐng)域制造領(lǐng)域，具體是一種用于制造光學(xué)玻璃的坩堝。一種光學(xué)玻璃熔煉坩堝，包括堝體，所述的堝體包括大堝腔及該大堝腔底部中央下凹的小堝腔；大堝腔的上端口設(shè)有密封槽及與該密封槽配合的密封蓋；還包括攪拌器，攪拌器的葉片位于小堝腔內(nèi)；小堝腔底部設(shè)有漏料管；大堝腔上設(shè)有通氣管；所述鍋體包括最外層的金屬基體層、最內(nèi)層的耐高溫層、及設(shè)置在該耐高溫層與金屬基體層之間的真空腔體層。本實(shí)用新型具有使單坩堝內(nèi)部與大氣密封隔絕，又同時(shí)能夠提高玻璃均化效果的特點(diǎn)，而且降低了材料成本，耐熱性能也得到提高。
【IPC分類】C03B5-08
【公開號(hào)】CN204385040
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420446017
【發(fā)明人】湯志平
【申請(qǐng)人】南通晶鑫光學(xué)玻璃有限公司
【公開日】2015年6月10日
【申請(qǐng)日】2014年8月8日