專利名稱：四脒基金屬(iv)化合物及其在氣相沉積中的用途的制作方法
四脒基金屬(IV)化合物及其在氣相沉積中的用途
相關申請的交叉參考\ 1(苯^6+少量CD3OD，ppm): 3.1 (d， 4， NCi/2)， 1.9(m， 2, C//(CH3)2), 1.7 (s, 3， CC亂1.0 (d， 12， CH(C恥)。
實施例2 合成四(N，N，-二異丁基乙脒基)鋯(IV)， Zr('Bu-AMD)4[0037j將0.8g(3mmol)四(二甲基氨基)鋯(IV)Zr(NMe2)4溶解于10mL曱苯中，并隨后冷卻到-30。C保持30分鐘。往該溶液中加入2.3g(13.5mmo1) N，N，-二異丁基乙脒''Bu-AMD,并將混合物在90。C下加熱過夜(配體交換反應)。冷卻到-3(TC之后，無色的晶體材料沉淀并將其濾出。產(chǎn)率1.85g (80%)。力匪R (苯-^， ppm): 3.10 (d， 16， 《/= 6.9 Hz，NC好2)， 1.89 (m， 8， CR(CH3)2)， 1.71 (s， 12， CC//3)， 1.00 (d， 48， / = 6.6Hz， d， CH(CH3)2)。 13C NMR (苯-</6， ppm): 174 (CCH3)， 55.76 (NCH2)，31.74 (CH(CH3)2)， 21.134 (CH(CH3)2， 12.10 (CCH3)。對于C40H84N8Zr的分析計算C 62.53， H 11.02， N 14.58。發(fā)現(xiàn)C 62.76， H 11.25， N14.50。
00381采用X-射線晶體學確定圖2中所示四(N，N，-二異丁基乙脒基)鋯(IV)的分子結構，其中原子表示為50%熱橢圓體且為了清楚而忽略了氫原子。每個分子含有由四個脒基配體中的8個氮原子包圍的一個鋯原子。
[0Q391熱重分析(TG)期間一半產(chǎn)物氣化時的溫度Tm為240°C，在大氣壓下流動的氮氣中測量。該TG實驗還證實了該化合物具有高熱穩(wěn)定性，且完全氣化留下可忽略的殘留物。
實施例3 合成四(N，N，-二異丁基乙脒基)鉿(IV)， Hf(''Bu-AMD)00401以用于Zr('Bu-AMD)4的實施例2中所述相同的方式，由3mmo1四(二甲基氨基)鉿(IV) Hf(NMe2)4出發(fā)，制備該化合物。分離出 白色粉末的產(chǎn)物。產(chǎn)率2.17g(85%)。 ^ NMR (苯^/6， ppm): 3.15 (d， 16， /= 7.2 Hz， NC好2)， 1.87 (m， 8， C〃(CH3)2)， 1.70 (s， 12， CC刷，0.99 (d， 48， /= 6.8 Hz， CH(C恥)。對于C40H84HfN8的分析計算C 56.15， H 9.90， N13.lt)。發(fā)現(xiàn)55.85， H 9.77， N 13.30。
0041該鉿配合物的TG性能類似于實施例2中所述鋯配合物的 那些性能。
實施例4合成N，N，-二曱基乙脒及其鋰鹽
0042將無水三氟甲磺酸鑭(3.00g， 5.12mmol)置于壓力容器中。 將干燥乙腈(23.3g， 0.568mol)冷凝到冷容器中。將容器用液氮冷卻并加 入干燥甲胺(53.1g， 1.71mol)。將容器密封并使其升溫到室溫。每日釋 放出副產(chǎn)物氨氣。3天之后反應基本上完成。隨后通過在2(TC和0.04 托下升華除去副產(chǎn)物N-曱基乙脒，分離出無色的N，N，-二甲基乙脒。 1H NMR (苯-A， ppm): 2.60 (s， 6， NC/f3)， 1.40 (s， 3， CCi73)。
0043通過將1體積的N，N，-二曱基乙脒溶解于5體積的干燥乙 醚并將溶液冷卻到-78。C，制備N，N，-二甲基乙脒的鋰鹽。攪拌的同時 緩慢加入等摩爾量溶于己烷中的丁基鋰。使反應混合物升溫到室溫。 減壓下除去乙醚和戊烷。隨后將白色固體殘留物溶于干燥二氧雜環(huán)己 烷。所獲N，N，-二甲基乙脒基鋰在二氧雜環(huán)己烷中的溶液用于如下實 施例中的一些。
實施例5合成四(N，N，-二曱基乙脒基)鋯(IV)
00441以用于Zrf'Bu-AMD)4的實施例2中所述相同的方式，使 用N，N，-二甲基乙脒代替N，N，-二異丁基乙脒，通過配體交換制得該化 合物。替換地，使ZrCU與溶于二氧雜環(huán)己烷的N,N，-二甲基乙脒的鋰 鹽反應(鹽復分解反應)。將該反應混合物加熱到回流8小時。蒸發(fā)二 氧雜環(huán)己烷之后，用戊烷萃取固體殘留物。將懸浮液潷析以除去沉淀 的氯化鋰之后，在減壓下蒸發(fā)戊烷以獲得粗產(chǎn)物，隨后通過在60。C和 40mbar壓力下升華將其純化。也可以將其在160。C下大氣壓下升華。 在小規(guī)模下進行合成時，升華之后產(chǎn)率為24%。 ^NMR(苯-rf6， ppm):3.03 (s， 24， NC仏)，1.57 (s， 12， CCi/3)。 13C匪R (苯乂， ppm): 175.99 (s， (XH3)， 34.55 (s， NCH3)， 9.84 (s， CCH3)。對于C16H36N8Zr的計算分析 C 44.51， H 8.40， N 25.95。發(fā)現(xiàn)C 45.31， H 7.92， N 25.60或，在第二次 分析中C 43.30， H 8.76， N 24.87。該產(chǎn)物比實施例2的產(chǎn)物四(N，N，-二 異丁基乙脒基)鋯(IV)揮發(fā)性更高，因為其TG曲線中T^值為216°C， 具有0.6%殘留物。其熔點為約168°C。
實施例6 合成四(N，N，-二曱基乙脒基)鉿(IV)
0045通過實施例5中所述的鹽復分解反應，由HfCl4制得該化 合物。，H NMR (苯-</6， ppm): 3.07 (s， 24， NC/73)， 1.55 (s， 12， CC/T3)。 13C 醒R (苯-</6， ppm):. 175.69 (s， CCH3)， 34.31 (s， NCH3)， 10.09 (s， CCH3)。對于<:16113611 \8的分析計算C 37.03, H 6.99， N 21.59。發(fā)現(xiàn) 37.00， H 6.89， N 21.34。該產(chǎn)物比實施例3的產(chǎn)物四(N，N，-二異丁基乙 脒基)鉿(IV)揮發(fā)性更高，因為其TG曲線中T^值為221°C。氣化之 后其殘留物可忽略不計，小于1%，且其熔點為約171。C。
實施例7 合成四(N，N，-二甲基丙脒基)鋯(IV)
[0046通過實施例4中所述的方法，使用丙腈代替乙腈，制備 N，N，-二甲基丙脒基鋰的二氧雜環(huán)己烷溶液。隨后以實施例5中所述的 鹽復分解反應將該溶液與ZrCl4 —起使用以制得四(N，N，-二甲基丙脒 基)鋯(IV)。也可以通過類似于實施例2中所述相同的配體交換反應來 制備該化合物。力NMR (苯-^， ppm): 3.07 (s， 24， NCi/3)， 2.10 (q， 8， / =7.6 Hz， Ci/2CH3)， 0.96 (t， 12， /= 7.6 Hz， CH2C〃3)。 13C NMR (苯國^， ppm): 180.12 (s， CCH2CH3), 33.92 (s， NCH3)， 17.31 (s， CCH2CH3)， 10.41 (s， CCH2CH3)。對于C2。H44N8Zr的分析計算C 49.24， H 9.09， N 22.97。發(fā)現(xiàn)49.42， H 9.04， N 22.43。其熔點為109°C，該熔點足夠低， 使得其在高到足以使其在起泡器中氣化的溫度下為液體。其TG曲線 中T^值為245°C，具有0.6%可忽略不計的殘留物。
實施例8 合成四(N，N，-二甲基丙脒基)鉿(IV)
[0047通過實施例7中所述的鹽復分解反應，由HfCl4制得該化 合物。其也可以通過類似于實施例1中所述相同的配體交換反應來制
15備。力NMR (苯畫A， ppm): 3.10 (s， 24， NCi73)， 2.08 (q， 8， / = 7.6 Hz， C/f2CH3)， 0.95 (t， 12， / = 7.6 Hz， CH2C/T3)。 13C NMR (苯-</6， ppm): 179.75 (s， CCH2CH3)， 33.71 (s， NCH3)， 17.51 (s， CCH2CH3)， 10.40 (s， CCH2CH3)。對于C2。H44HfNs的分析計算:C 41.77， H 7.71， N 19.48。 發(fā)現(xiàn)42.32， H 8.11， N 19.18。其熔點為114。C,該熔點足夠低，使得 其在高到足以使其在起泡器中氣化的溫度下為液體。其TG曲線中T1/2 值為252°C，具有可忽略不計的非揮發(fā)性殘留物。釆用X-射線晶體學 確定圖3中所示四(N，N，-二甲基丙脒基)鉿(IV)的分子結構，其中原子 表示為50%熱橢圓體且為了清楚而忽略了氫原子。每個分子含有由四 個脒基配體中的8個氮原子包圍的一個鉿原子。
實施例9 合成四(N，N，-二甲基丁脒基)鋯(IV)
0048通過實施例4中所述的方法，使用丁腈代替乙腈，制備 N，N，-二甲基丁脒基鋰的二氧雜環(huán)己烷溶液。隨后以實施例5中所述的 鹽復分解反應將該溶液與ZrCl4 —起使用以制得四(N，N，-二曱基丁脒 基)鋯(IV)。也可以通過類似于實施例1中所述相同的配體交換反應來 制備該化合物。該化合物在室溫下為液體，由此通過蒸餾代替升華來 對其進行純化。NMR (苯^/6， ppm): 3.11 (s， 24， NCH3)， 2.15 (t， 8， / = 8.0 Hz， CC〃2CH2CH3)， 1.49 (m， 8， CCH2C//2CH3)， 0.90 (t， 12， /= 6.8 Hz， CCH2CH2C//3)。 13C醒R (苯-&， ppm): 179.27 (s， CCH2CH2CH3)， 34.28 (s， NCH3)， 26.14 (s， CCH2CH2CH3)， 19.82 (s， CCH2CH2CH3)， 14.47 (s， CCH2CH2CH3)。對于C24HS2N8Zr的分析計算C 52.99， H 9.63， N 20.60。發(fā)現(xiàn)53.63， H 9.87, N 20.89。其11/2值為246。C且其氣化留 下可忽略不計的殘留物。
實施例10 合成四(N，N，-二甲基丁脒基)鉿(IV)
0049j通過實施例9中所述的鹽復分解反應，由HfCLt制得該化 合物。其也可以通過類似于實施例1中所述相同的配體交換反應來制 備。該化合物在室溫下為液體，由此通過蒸餾代替升華來對其進行純 化。'H醒R (苯《ppm): 3.15 (s， 24， NC亂2.13 (t， 8， / = 8.0 Hz， CCJ^2CH2CH3)， 1.49 (m， 8， CCH2Ci/2CH3)， 0.89 (t， 12， / = 6.8 Hz，
16CCH2CH2C#3)。 13C匪R (苯畫4 ppm): 178.87 (s， (XH2CH2CH3)， 34.08 (s， NCH3)， 26.29 (s， CCH2CH2CH3)， 19.82 (s， CCH2CH2CH3)， 14.41 (s， CCH2CH2CH3)。對于(:24115211!1\8的分析計算C 45.67， H 8.30， N 17.75。發(fā)現(xiàn)45.31， H 8.81， N 17.61。其1/2值為252。C且其氣化留 下可忽略不計的殘留物。
實施例11 合成四(N，N，-二乙基乙脒基)鋯(IV)
[0050通過實施例4中所述的方法，使用乙胺代替甲胺，制備 N，N，-二乙基乙脒基鋰的二氧雜環(huán)己烷溶液。隨后以實施例5中所述的 鹽復分解反應將該溶液與ZrCl4 —起使用以制得四(N，N，-二乙基乙脒 基)鋯(IV)。也可以通過類似于實施例1中所述相同的配體交換反應來 制備該化合物。，H NMR (苯-A， ppm): 3.32 (q， 16， / = 7.2 Hz， NC/72CH3)， 1.63 (s， 12， CC仏)，1.10 (t, 24， /= 7.2 Hz， NCH2Ci/3)。 13C NMR (苯-A， ppm): 173.59 (s， CCH3)， 41.38 (s， NCH2CH3)， 18.00 (s， NCH2CH3)， 10.20 (s， CCH3)。對于C24H52N8Zr的分析計算C 52.99， H 9.63， N 20.60。發(fā)現(xiàn)52.86， H 9.40， N 20.99。其11/2值為242。C且其氣 化留下可忽略不計的殘留物。
實施例12 合成四(N，N，-二乙基乙脒基)鉿(IV)
0051通過實施例11中所述的鹽復分解反應，由HfCU制得該化 合物。其也可以通過類似于實施例1中所述相同的配體交換反應來制 備。& NMR (苯-A， ppm):. 3.32 (q， 16， /= 7.2 Hz， NC#2CH3)， 1.63 (s， 12， CCH3)， 1.10 (t， 24， / = 7.2 Hz， NCH2Ci73)。 13C NMR (苯-</6， ppm): 173.07 (s， CCH3)， 41.08 (s， NCH2CH3)， 18.00 (s， NCH2CH3)， 10.59 (s, CCH3)。對于C24H52N8Hf的分析計算C 45.67， H 8.30， N 17.75。發(fā)現(xiàn): 46.17， H 7.93， N 17,27。其11/2值為264。C且其氣化留下可忽略不計的 殘留物。
實施例13 合成四(N，N，-二乙基乙脒基)鉭(IV)
00521以兩個步驟由五氯化鉭制備該化合物。第一步包括在氮氣 下-78。C下將五氯化鉭的乙醚溶液(0.95mmo1， 20mL乙醚中331mg)加 到N，N，-二乙基乙脒基鋰溶液(20mL乙醚中2mmo1，由脒和正丁基鋰
17的己烷溶液(2.6M)原位制得)中。中間體，暫時描述為三氯-雙(N，N，-二乙基乙脒基)鉭(V)，部分可溶于乙醚，獲得橙色溶液。加入一些二 氧雜環(huán)己烷以幫助溶解該中間體，并在室溫下加入兩倍多當量的N，N，-二乙基乙脒基鋰(20mL乙醚中2mmo1，由脒和正丁基鋰的己烷溶液 (2.6M)原位制得)。還加入1當量的鈉汞齊(22.8mg，汞齊中具有 0.645wt。/。鈉，3.53g)將該溶液在室溫下攪拌過夜。該溶液在12小時之 內(nèi)變?yōu)榘底仙?。真空下除去乙醚，并加入戊?20mL)。將紫色溶液潷 析并與汞和不溶材料分離。將其在真空下干燥并獲得產(chǎn)物，紫色固體， 其可以暫時描述為四(N，N，-二乙基乙脒基)鉭(IV)?？梢詫⒃摦a(chǎn)物在真 空下升華，并且也可以將升華部分在150。C下O.OlmmHg壓力下無分 解地再次升華。雖然該產(chǎn)物含有雜質(zhì)，但是其顏色和其可以在真空下 無分解地升華的事實表明，其很可能是揮發(fā)性脒基鉭(IV)。 實施例14 合成其他四脒基金屬(IV)
0053以類似于實施例3中所述那些的方式，通過使用適宜的金 屬源代替ZrCl4,可以制得含有其他金屬中心的化合物。例如，使用 氯化鎢(IV)WCl4制備四(N，N，-二甲基乙脒基)鎢(IV);使用氯化錫(IV) SnCl4制備四(N，N，-二甲基乙脒基)錫(IV);由TeCU制備四(N，N，-二甲 基乙脒基)碲(IV);和使用氯化鈾UC14制備四(N，N，-二甲基乙脒基)鈾 (IV)。
實施例15 由四(N，N，-二甲基丁脒基)鉿(IV)和臭氧原子層沉積氧
化鉿
[00541以10托-秒的暴露，由200。C下直接液體噴射系統(tǒng)以 lOnmol cn^的劑量引入四(N,N，-二甲基丁脒基)鉿(IV)蒸氣到400。C下 的ALD反應器中，交替地以lO托-秒的暴露、20nmo1 cm^劑量引入 臭氧一起。在具有80:1高縱橫比的窄孔隙中共形地沉積氧化鉿膜。
實施例16 由四(N，N，-二甲基丁脒基)鉿(IV)和水蒸氣原子層沉積 氧化鉿
[00551以10托-秒的暴露，由200。C下直接液體噴射系統(tǒng)以 lOnmol cn^的劑量引入四(N，N，-二甲基丁脒基)鉿(IV)蒸氣到400。C下的ALD反應器中，交替地以10托-秒的暴露、20nmol cm^劑量引入 水蒸氣。在具有80:1高縱橫比的窄孔隙中共形地沉積氧化鉿膜。
實施例17 由四(N，N，-二曱基丁脒基)鉿(IV)和氨原子層沉積氮化
鉿
[0056以10托-秒的暴露，由200。C下直接液體噴射系統(tǒng)以 lOnmol cn^的劑量引入四(N，N，-二甲基丁脒基)鉿(IV)蒸氣到400。C下 ALD反應器中，交替地以10托-秒的暴露、20nmoIcmJ劑量引入氨。 在具有80:1高縱橫比的窄孔隙中共形地沉積氮化鉿膜。
實施例18 合成N，N，-二甲基甲脒
0057在封閉壓力容器中-196。C下，將過量干燥甲胺(39g， 1.26mol)冷凝到干燥氰化鈉(30.2g， 0.617mol)、干燥甲胺鹽酸鹽(41.6g， 0.617mol)和三氟甲磺酸鑭(5.2g，8.88mmol)的混合物之上。使該混合物 升溫到室溫并隨后在40-50。C下超聲處理72小時。使揮發(fā)性氣體在室 溫下從反應容器中溢出，并將千燥曱胺(10g， 0.322mol)冷凝到冷卻的反 應混合物之上。重復該氣化、添加甲胺和超聲處理循環(huán)兩次以上。通 過在室溫下使反應容器緩慢放氣，最終釋放出所有揮發(fā)物。加入乙醚 (50mL)，并將反應混合物在氮氣下倒入大燒瓶中。在真空下通過蒸氣 的瓶-到-瓶(bulb-to-bulb)轉(zhuǎn)移，將所有揮發(fā)物在室溫下從反應混合物 中轉(zhuǎn)移到-196。C下的大Schlenk燒瓶中。獲得N，N，-二甲基甲脒在乙醚 中的無色溶液。,H匪R (苯《+少量CD3OD， ppm): 7.29 (s， 1， C外 2.65 (br， 6， NCi73)。
實施例19 合成N，N，-二甲基甲脒
將甲胺的鉀鹽加熱到約100°C,直到其分解以獲得與實施例18相 同的產(chǎn)物N，N，-二甲基甲脒。
實施例20合成四(N，N，-二甲基甲脒基)鉿(IV)
[0058將1.16g (3.29mmol)四(二甲基氨基)鉿(IV) Hf(NMe2)4溶解 于20mL乙醚中，并隨后冷卻到-30。C保持30分鐘。往該溶液中加入 在20mL乙醚中的0.968g (13.4mmo1) N，N，-二甲基甲脒并將混合物在 室溫下攪拌過夜。沉淀出少量白色副產(chǎn)物(可能由于二甲基甲脒中的單甲基甲脒雜質(zhì))。將透明上清液潷析并在減壓下氣化以獲得白色晶體的
產(chǎn)物。其熔點為140-142。C。力NMR (苯-</6， ppm): 3.03 (s， 24， NCH3)， 8.00 (s， 4， CH)。 13C匪R (苯畫A， ppm): 171.60 (CH)， 38.67 (NCH3)。其 T"2值187'C，且其氣化留下可忽略不計的殘留物。
圖4中對比了四種不同脒基鉿(實施例6、 8、 10和19)的氣化速率 的等溫熱重分析。這些測量顯示，每個溫度下四(N，N，-二甲基甲脒基) 鉿(IV)(實施例20)具有最高的氣化速率。在高于142。C(其熔點)的起泡 器溫度下其為液體，使得其高氣化速率重現(xiàn)性極高。由此許多應用中， 四(N，N，-二甲基甲脒基)鉿(IV)是用于氣相沉積含鉿材料的優(yōu)選前體。 在要求室溫下其為液體的應用下，可以將其以在具有相同沸點的溶劑 中的液體溶液來提供。適宜溶劑包括多醚，如三甘醇二甲醚或四甘醇 二曱醚。替換地，室溫液體四(N，N，-二甲基丁脒基)鉿(IV)可以用于純 液體釋放到氣化系統(tǒng)。
實施例21 合成四(N，N，-二甲基曱脒基)鋯(IV)
采用四(二甲基氨基)鋯(IV) Zr(NMe2)4代替四(二甲基氨基)鉿(IV) Hf(NMe2)4，重復實施例20的步驟。獲得四(N，N，-二甲基甲脒基)鋯 (IV)，其具有類似于四(N，N，-二曱基甲脒基)鉿(IV)的性能。
00591合成方法的其他變化和其他脒基金屬(IV)化合物對于本領 域技術人員來說是顯而易見的。
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權利要求
1、具有如下結構式的化合物其中，M為+4氧化態(tài)的金屬，且R1到R12各自獨立地選自氫、烴基、取代的烴基和其他非金屬原子的基團。
1 其中，M為+4氧化態(tài)的金屬，且W到R"各自獨立地選自氫、烴基、取代的烴基和其他非金屬原子的基團。
2、 權利要求l的化合物，其中烴基選自烷基、環(huán)烷基、烯基、環(huán)烯基、炔基和環(huán)炔基以及由烴的氟化衍生物組成的取代的烴基。
3、 權利要求1的化合物，其中包含非金屬原子的基團選自烷基甲硅烷基和烷基氨基。
4、 權利要求l的化合物，其中金屬M選自鋯、鉿、錫、鉭、鈮、鴒、鉬、鈾、錸、鉑、鋨、銥、釕、鈀、鈦、銠、釩、鈰和鉛。
5、 權利要求l的化合物，其中金屬M選自鉿、鋯、鉭、鈮、鎢、鉬、錫、碲和鈾。
6、 權利要求l的化合物，其中金屬M為鋯。
7、 權利要求l的化合物，其中金屬M為鉿。2
8、 權利要求1的化合物，其中W到1112中至少一個為具有5個或更少碳的低級烷基。
9、 權利要求1的化合物，其中W到1112選自具有5個或更少碳的低級烷基和氫。
10、 權利要求1的化合物，其中R1、 R3、 R4、 R6、 R7、 R9、 R10和1112是在a-位非支化的烷基。
11、 一種形成包含金屬的薄膜的方法，包括使加熱的表面暴露于一種或多種揮發(fā)性四脒基金屬化合物的蒸氣。
12、 權利要求11的方法，其中該四脒基金屬化合物具有如下結構式<formula>formula see original document page 3</formula>其中，M為+4氧化態(tài)的金屬，且R"到R"各自獨立地選自氫、烴基、取代的烴基和其他非金屬原子的基團。
13、權利要求12的方法，其中烴基選自烷基、環(huán)烷基、烯基、環(huán)烯基、炔基和環(huán)炔基以及它們的氟化物衍生物。
14、 權利要求12的方法，其中包含非金屬原子的基團選自烷基甲硅烷基和烷基氨基。
15、 權利要求12的方法，其中金屬M選自鋯、鉿、錫、鉭、鈮、鴒、鉬、鈾、錸、柏、鋨、銥、釘、鈀、鈦、銠、釩、鈰、碲和鉛。
16、 權利要求12的方法，其中金屬M選自鉿、梏、鉭、鈮、鎢、鉬、錫、碲和鈾。
17、 權利要求12的方法，其中金屬M為鋯。
18、 權利要求12的方法，其中金屬M為鉿。
19、 權利要求12的方法，其中R'到R"中至少一個為具有5個或更少碳的低級烷基。
20、 權利要求12的方法，其中W到R"選自具有5個或更少碳的低級烷基和氫。
21、 權利要求ll的方法，其中還使襯底暴露于氧源，且該薄膜包含金屬氧化物。
22、 權利要求21的方法，其中氧源包括水蒸氣。
23、 權利要求21的方法，其中氧源包括分子氧。
24、 權利要求21的方法，其中氧源包括臭氧。
25、 權利要求ll的方法，其中還使襯底暴露于氮源，且該薄膜包含金屬氮化物。
26、 權利要求25的方法，其中氮源包括氨。
27、 權利要求ll的方法，其中在CVD工藝中沉積該膜。
28、 權利要求ll的方法，其中在ALD工藝中沉積該膜。
29、 權利要求11的方法，其中通過使固體四脒基金屬化合物氣化 獲得該蒸氣。
30、 權利要求11的方法，其中通過使液體四脒基金屬化合物氣化 獲得該蒸氣。
31、 權利要求11的方法，其中通過使四脒基金屬化合物在 100-25(TC的溫度范圍下氣化獲得該蒸氣。
32、 權利要求ll的方法，其中該表面在約200-500。C的溫度范圍下。
全文摘要
合成并表征了四(N，N’-二烷基脒基)金屬(IV)。示例性金屬包括鉿、鋯、鉭、鈮、鎢、鉬、錫和鈾。這些化合物是揮發(fā)性，高熱穩(wěn)定的，且適用于金屬與它們的氧化物、氮化物和其他化合物的氣相沉積。
文檔編號C07C257/14GK101500989SQ200780029810
公開日2009年8月5日 申請日期2007年6月26日 優(yōu)先權日2006年6月28日
發(fā)明者H·李, J-S·萊恩, R·G·戈登 申請人:哈佛學院院長等