專利名稱：一種提高電子化學(xué)品潔凈度的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及化工行業(yè)的電子化學(xué)品技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說是一種高純度、超潔凈 化學(xué)品純化的方法。
背景技術(shù)：
新型光致抗蝕荊微電子工業(yè)的核心技術(shù)是微細(xì)加工技術(shù)，它是微電子工業(yè)的靈 魂。微細(xì)加工技術(shù)，主要是指用光刻的方法進(jìn)行加工的技術(shù)。光致抗蝕劑是進(jìn)行微細(xì)加工 用的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料之一，微細(xì)加工的尺寸不同，所用的抗蝕劑也不同。一般加工0. 5微米以 上線寬的工藝采用紫外線抗蝕劑。加工0.5以下線寬的工藝則要用激光和輻射線抗蝕劑， 應(yīng)是近期研究開發(fā)的重點(diǎn)。早在幾年前，美國林肯實(shí)驗(yàn)室和1MB公司就開始合作研制激光 抗蝕劑，現(xiàn)在他們臺作研制的甲基丙烯酸酯三元共聚物作為193nm激光抗蝕劑已開始用作 193nm光系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)測試。Ben實(shí)驗(yàn)室正在研制的正型和負(fù)型激光抗蝕劑可望用于248nm 和193nm激光光刻技術(shù)中。還有近年來開發(fā)的以硅材料為基礎(chǔ)的微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)， 業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為它可能成為21世紀(jì)的一項(xiàng)革命性技術(shù)，其中耐酸型光致抗蝕劑和耐強(qiáng)堿型 光致抗蝕劑是其重要的加工用新材料，因此有廣闊的發(fā)展前景。另外，據(jù)日本科學(xué)家預(yù)測， 在2020年之前可能實(shí)現(xiàn)微米電子學(xué)中單原子存儲技術(shù)的突破，因此，微米技術(shù)加工工藝所 用的抗蝕劑也將是重要的發(fā)展領(lǐng)域.隨著電子封裝技術(shù)的不斷更新，相適應(yīng)的電子封裝材料也不斷開發(fā)出來.現(xiàn)已成 為一項(xiàng)新興產(chǎn)業(yè)，其中，電子塑料封裝用材料發(fā)展更快。業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為，它是實(shí)現(xiàn)電子產(chǎn)品 小型化、輕型化和低成本化的一類關(guān)鍵配套材料。因此，引起了人們的濃厚興趣。目前采用 的電子塑料封裝材料中，環(huán)氧婁塑封料用量最大，其次是有機(jī)硅類?，F(xiàn)在環(huán)氧塑封料世界年 產(chǎn)量已超過10萬t.成為當(dāng)代電子塑封料的主流。近年來，隨著集成電路的集成度越來越 高，布線日益精細(xì)化，芯片尺寸大型化、封裝密度迅速提高。因而環(huán)氧塑封料也需要不斷改 進(jìn)，關(guān)鍵是提高耐熱性、耐濕性，應(yīng)具有高純度、低應(yīng)力、低線膨脹系數(shù)、低α射線和更高的 玻璃化轉(zhuǎn)變溫度等特性，才能適應(yīng)未來電子封裝的要求。為此.首先要開發(fā)生產(chǎn)高品質(zhì)的 原材料，如鄰甲酚線型酚醛環(huán)氧塒脂的水解氯含量就降至45 X 10_6以下，鈉離子和氯離子 的臺量也要降至1Χ10_6左右；還要研制、開發(fā)、生產(chǎn)新型環(huán)氧樹脂，如二苯基型環(huán)氧樹脂、 雙環(huán)戌二烯型低牯度環(huán)氧樹脂和萘系耐熱環(huán)氧樹脂等；同時，也要開發(fā)、生產(chǎn)高純度球型二 氧化硅等關(guān)鍵填料。另外，改性聚酰亞胺和液晶聚合物等也有望成為重要的電子塑封材料。彩色等離子體平扳顯示屏(PDP)專用光刻系列裝料彩色PDP是近年來開發(fā)的有巨 大發(fā)展?jié)摿Φ囊环N平板顯示器。它與陰極射線管fCRT)和液晶等顯示器相比有許多突出的 優(yōu)點(diǎn)(1)亮度高；(2)分辯率高；(3)易于實(shí)現(xiàn)大屏幕化；(4)可靠性高；(5)顯示速度快； (6)可在嚴(yán)酷的環(huán)境中使用(如震動、沖擊、嚴(yán)寒和高溫等)，它在未來軍用和民用領(lǐng)域中均 有廣闊的發(fā)展前景

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是公開了一種提高電子化學(xué)品潔凈度的制備方法。本發(fā)明用于制備高純度、超潔凈化學(xué)品的制備方法在于將0. 1% -1 % EDTA螯 合劑加到被有機(jī)溶劑溶解的電子化學(xué)品中，捕集溶液中存在的各種金屬離子形成螯合物沉 淀，經(jīng)過一次或二次超微濾裝置過濾，同時除去并控制銅、鉛、鋅、錳、鎂、鐵等金屬離子雜質(zhì) 含量1. OXIO-"1;非金屬雜質(zhì)顆粒(彡0. 2um，彡0. 5um)控制為彡5個/mL。螯合劑的 加入量一般為電子化學(xué)品的0. 1_1%，同時依據(jù)電子化學(xué)品中所含金屬離子含量的多少適 當(dāng)加以調(diào)整。本發(fā)明所述的螯合劑為EDTA螯合劑，絡(luò)合的金屬離子可以是Cu，Pb，Cd，Zn等金
屬離子。金屬螯合劑與金屬離子(Cu，Pb，Cd，Zn，Ni等)形成共價鍵型螯合物，且其與不同 金屬鍵價軌道的金屬離子可以形成張力較小的空間結(jié)構(gòu)。本發(fā)明所述的有機(jī)溶劑為甲醇、乙醇、丙酮、DMF、甲苯、二甲苯、乙腈、四氫呋喃或 它們的混合物。本發(fā)明所研究的高純度、超潔凈化學(xué)品-多羥基二苯甲酮系列產(chǎn)品主要應(yīng)用于線 路成像用光致抗蝕劑及陽圖印刷電路板、光刻膠等。屬于高沸點(diǎn)有機(jī)固體物，利用通常的處 理方法無法得到滿意的結(jié)果。使用一種特制螯合劑能在有機(jī)溶液或水溶液中去與被溶解的 有機(jī)物和溶劑本身中所含的多種重金屬離子同時形成不溶性的顆粒狀物質(zhì)，以螯合物沉淀 從溶液中析出，進(jìn)而通過微濾的方式將其過濾出溶液體系。經(jīng)過0. 1-0. 3MPa的壓力或真空 下完成微濾，將大于0.2im的顆粒同時除去。由于本項(xiàng)目采用膜分離法技術(shù)是一項(xiàng)新興的 處理工藝，經(jīng)過一次或二次微過濾能同時除去并控制銅、鉛、鋅、錳、鎂、鐵等金屬離子雜質(zhì) 含量，達(dá)到降低金屬離子含量的目的，這種技術(shù)對水和溶劑可以進(jìn)行循環(huán)利用，重金屬螯合 物回收集中處理，可以實(shí)現(xiàn)重金屬和廢水的“零排放”或“超微排放”，能使生產(chǎn)成本大大降 低。避免了對環(huán)境的污染，是現(xiàn)代綠色清潔生產(chǎn)技術(shù)。本發(fā)明的微電子及應(yīng)用于線路成像用光致抗蝕劑及陽圖印刷電路板、光刻膠、印 刷電路板加工用的化學(xué)品，化學(xué)品的純化重點(diǎn)不在其含量，而金屬離子含量和顆粒含量達(dá) 到國際半導(dǎo)體設(shè)備和材料協(xié)會所要求的SEMI-C12規(guī)格，滿足印刷電路板使用要求是至關(guān) 重要的。本發(fā)明的產(chǎn)品經(jīng)南京大學(xué)現(xiàn)代分析中心、復(fù)旦大學(xué)化學(xué)系ICP實(shí)驗(yàn)室檢測和客戶 試用后回饋結(jié)果達(dá)到國際SEMI-C12的標(biāo)準(zhǔn)，符合印刷電路板化學(xué)品使用條件。本發(fā)明執(zhí)行國際半導(dǎo)體設(shè)備和材料組織SEMI-C12標(biāo)準(zhǔn)，其具體標(biāo)準(zhǔn)如下
權(quán)利要求
1.一種提高電子化學(xué)品潔凈度的方法，其特征在于將0. 1%。_1% EDTA螯合劑加到 被有機(jī)溶劑溶解的電子化學(xué)品中，捕集溶液中存在的各種金屬離子形成螯合物沉淀，經(jīng) 過一次或二次超微濾裝置過濾，同時除去并控制銅、鉛、鋅、錳、鎂、鐵金屬離子雜質(zhì)含量 彡1.0X10"10 ；0. 2um彡非金屬雜質(zhì)顆粒彡0. 5um,控制為彡5個/mL。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于所述的有機(jī)溶劑為甲醇、乙醇、丙酮、DMF、甲 苯、二甲苯、乙腈或四氫呋喃。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種提高電子化學(xué)品潔凈度的制備方法，其特征在于將EDTA螯合劑加到被有機(jī)溶劑溶解的電子化學(xué)品中，捕集溶液中存在的各種金屬離子形成螯合物沉淀，經(jīng)過一次或二次超微濾裝置過濾，同時除去并控制銅、鉛、鋅、錳、鎂、鐵金屬離子雜質(zhì)。本發(fā)明研制的高純度、超潔凈印刷電路板用化學(xué)品，金屬雜質(zhì)含量≤1.0×10-10；非金屬雜質(zhì)顆粒(≥0.2um，≤0.5um)控制為≤5個/mL。達(dá)到了SEMI-C12的標(biāo)準(zhǔn)，符合印刷電路板化學(xué)品使用要求。
文檔編號C07C49/83GK102059008SQ20091022826
公開日2011年5月18日 申請日期2009年11月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月16日
發(fā)明者范培柱 申請人:天津必佳藥業(yè)集團(tuán)有限公司