專利名稱：新的包含二苯并二氮芳辛單元的聚酰胺、聚酰亞胺或聚酰胺-酰亞胺的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及含有至少一個二苯并二氮芳辛重復單元的酰胺、酰亞胺、酰胺-酰亞胺或其衍生物的聚合物。本發(fā)明還涉及用于制備所述聚合物的方法，連同這些聚合物的用途。相關技術說明含有下列二苯并二氮芳辛重復單元的任一者或二者的聚合物
權利要求
1.聚合物(P)，其包含具有ー個或多個以下結(jié)構式的重復單元(I): -A-B-C-D- (I) 其中 A和C在彼此之間以及在一個結(jié)構式與另ー個結(jié)構式之間相同或不同，并獨立地表示下式的酰胺基
2.根據(jù)權利要求I所述的聚合物(P)，其中所述重復単元(I)具有至少ー種結(jié)構式
3.根據(jù)權利要求I或權利要求2所述的聚合物(P)，其中所述重復單元是具有至少兩種結(jié)構式-A-B-C-D-的重復單元的混合物。
4.根據(jù)以上權利要求中任一項所述的聚合物(P)，其中所述C4-C5tl烴基團是亞芳基、三價芳烴基團或四價芳烴基團。
5.根據(jù)以上權利要求中任一項所述的聚合物(P)，其中所述C12-C5tl基團選自下組，該組由以下各項組成
6.根據(jù)以上權利要求中任一項所述的聚合物(P)，其中在B或D中的所述ー個或多個含ニ苯并ニ氮芳辛的ニ價基團選自下組
7.根據(jù)以上權利要求中任一項所述的聚合物(P)，其中所述B和/或D具有下式
8.根據(jù)以上權利要求中任一項所述的聚合物(P)，其中所述聚合物的分子量是大于5 X IO3,優(yōu)選大于6 X IO3,更優(yōu)選大于10 X IO3,并且小于1000 X IO3,優(yōu)選小于500 X IO3,更優(yōu)選小于100X 103。
9.用于制備包含一個或多個ニ苯井二氮芳辛基團的聚合物的方法，該方法包括使下列4個單體集合(SI)、(S2)、(S3)和(S4)中的至少ー個集合發(fā)生縮聚反應 集合(SI) 至少ー種具有通式X-D-X的單體(Ml)，和 至少ー種具有通式Y(jié)-B-Y的單體(M2)， 集合(S2) 至少ー種具有通式X-B-X的單體(M3)，和 至少ー種具有通式Y(jié)-D-Y的單體(M4)， 集合(S3)單體 X-D-Y (M5)和 X-B-Y (M6) 集合(S4)X-D-Y(M5)其中 B在一個結(jié)構式與另ー個結(jié)構式之間相同或不同，并且獨立地選自由下列組成的集合 -C4-C50烴基團 -具有下列通式的C12-C5tl基團
10.根據(jù)權利要求9所述的方法，其中Y-B (或D) -Y和X-B (或D) -Y如下
11.聚合物組合物，其包含選自根據(jù)權利要求I至8中任一項所述的聚合物(P)以及根據(jù)權利要求9或10中任一項所述的方法制備的聚合物的至少ー種聚合物。
12.成形的制品或成形的制品零件，其包含選自根據(jù)權利要求11所述的聚合物組合物的至少ー種聚合物組合物，或者包含選自根據(jù)權利要求I至8中任一項所述的聚合物(P)以及根據(jù)權利要求9或10中任一項所述的方法制備的聚合物的至少ー種聚合物。
13.具有如下通式的単體G-D-G, 其中，D表示含ニ苯并ニ氮芳的ニ價基團，該基團選自下組，該組由以下各項組成
14.可通過使根據(jù)權利要求13所述的單體聚合制備的聚合物。
15.用于制備聚合物的方法，該方法包括使根據(jù)權利要求13所述的單體聚合。
全文摘要
本發(fā)明涉及酰胺、酰亞胺、酰胺-酰亞胺或其衍生物的聚合物(P)。包含具有一個或多個結(jié)構式的重復單元(I)的聚合物(P)-A-B-C-D-(I)，其中，A和C在彼此之間以及在一個結(jié)構式與另一個結(jié)構式之間相同或不同，并獨立地表示酰氨基、酰亞胺基或其混合物；B在一個結(jié)構式與另一個結(jié)構式之間相同或不同，并獨立地選自由下列組成的集合C4-C50烴基，C12-C50基團、含二苯并二氮芳辛的二價基團，及其混合物；D在一個結(jié)構式與另一個結(jié)構式之間相同或不同，并獨立地表示含二苯并二氮芳辛的二價基團。本發(fā)明還涉及用于制備所述聚合物的工藝。此外，本發(fā)明涉及含有所述聚合物的聚合物組合物、其成形制品或成形零件以及這些聚合物的應用。在其他方面，本發(fā)明涉及含有至少一種二苯并二氮芳辛的新單體。
文檔編號C07D245/04GK102803337SQ201080063911
公開日2012年11月28日 申請日期2010年12月17日 優(yōu)先權日2009年12月22日
發(fā)明者查爾斯·R·霍平 申請人:索維特殊聚合物有限責任公司