專(zhuān)利名稱(chēng)：一種羰基化反應(yīng)釜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種羰基化反應(yīng)釜，屬于化工設(shè)備領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
醋酸與醋酸酐是重要的有機(jī)化工原料，廣泛用作醫(yī)藥、染料、香料和有機(jī)合成的原料，它們的工業(yè)合成一般采用羰基化的方法。具體為采用甲醇、CO為原料與催化劑進(jìn)行羰基化反應(yīng)得到醋酸；以乙酸甲酯、甲醇和一氧化碳為原料，在銠系催化劑作用下反應(yīng)制得醋酐。由于醋酸與醋酸酐的羰基化是多相化學(xué)反應(yīng)，為了使反應(yīng)物混合均勻，一般采用帶有攪拌器的反應(yīng)釜，但由于帶有攪拌器的反應(yīng)釜密封性差，耗費(fèi)能源大，且產(chǎn)生故障后不易拆卸而影響反應(yīng)進(jìn)度，因此近年來(lái)多采用無(wú)攪拌裝置的反應(yīng)釜來(lái)進(jìn)行羰基化反應(yīng)。上述無(wú)攪拌器的羰基化反應(yīng)釜，諸如日本專(zhuān)利JP8188M7A，其公開(kāi)了一種內(nèi)循環(huán)式羰基化反應(yīng)釜，包括釜體，釜體內(nèi)有一圓柱形兩端開(kāi)口的內(nèi)筒；在釜體底部且位于所述內(nèi)筒的下方設(shè)置有液體進(jìn)口、氣體進(jìn)口及噴嘴，在釜體的上部設(shè)置有將催化劑從液體中進(jìn)行分離的分離室，分離后的液態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物從設(shè)置與所述分離室側(cè)壁的液體出口處排出；此外， 在分離室頂部還設(shè)有氣體出口，氣體出口連接冷凝器；該技術(shù)中的羰基化反應(yīng)釜在運(yùn)行時(shí)， 催化劑事先分布在反應(yīng)釜中，由液體進(jìn)口和氣體噴嘴向內(nèi)筒內(nèi)導(dǎo)入液體和氣體，液體和氣體帶動(dòng)催化劑流動(dòng)，從而在內(nèi)筒內(nèi)形成催化劑、氣體和液體向上流動(dòng)的混合物流體，在釜體與內(nèi)筒之間的間隙處形成向下的流體，從而在整體上構(gòu)成料液流動(dòng)的循環(huán)，最后，反應(yīng)產(chǎn)物經(jīng)分離室分離后由液體出口排出，未反應(yīng)的氣體和產(chǎn)生的尾氣由氣體出口排出。上述技術(shù)中，由于在該反應(yīng)釜中，氣體和液體的出口均設(shè)置在內(nèi)筒的底端，工作時(shí)內(nèi)筒中的反應(yīng)混合物需要在氣體原料向上噴射力的帶動(dòng)下向上運(yùn)動(dòng)，但當(dāng)氣體原料的噴射力不足時(shí)則不能有效地帶動(dòng)反應(yīng)混合物向上運(yùn)動(dòng)至內(nèi)筒的頂端，更無(wú)法實(shí)現(xiàn)反應(yīng)混合物自?xún)?nèi)筒頂端向下循環(huán)的順利進(jìn)行。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是現(xiàn)有技術(shù)中的羰基化反應(yīng)釜?dú)怏w和液體的出口均設(shè)置在內(nèi)筒的底端，工作時(shí)內(nèi)筒中的反應(yīng)混合物需要在氣體原料向上噴射力的帶動(dòng)下向上運(yùn)動(dòng)，但當(dāng)氣體原料的噴射力不足時(shí)則不能有效地帶動(dòng)反應(yīng)混合物向上運(yùn)動(dòng)至內(nèi)筒的頂端，更無(wú)法實(shí)現(xiàn)反應(yīng)混合物自?xún)?nèi)筒頂端向下循環(huán)的順利進(jìn)行；進(jìn)而提出一種能夠在反應(yīng)釜中形成快速有效的反應(yīng)混合物循環(huán)的羰基化反應(yīng)釜。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種羰基化反應(yīng)釜，其包括
釜體，連接設(shè)置在所述釜體內(nèi)的隔板將所述釜體分隔成兩端相通的上行區(qū)與下行區(qū)； 在所述釜體上設(shè)有液體進(jìn)口、液體出口和氣體進(jìn)口，頂部設(shè)有氣體出口 ；與所述液體進(jìn)口相連接，在所述釜體內(nèi)設(shè)置有液體分布器，所述液體分布器上設(shè)有液體噴射口 ；與所述氣體進(jìn)口相連接，在所述釜體內(nèi)設(shè)置有氣體分布器，所述氣體分布器上設(shè)有氣體噴射微孔；所述液體分布器的設(shè)置位置高于所述氣體分布器，所述液體分布器的至少一個(gè)第一液體噴射口位于所述上行區(qū)內(nèi)或位于所述上行區(qū)朝向頂部的縱向延伸區(qū)內(nèi)，且液體分布器的至少一個(gè)第二液體噴射口位于所述下行區(qū)內(nèi)或位于所述下行區(qū)朝向頂部的縱向延伸區(qū)內(nèi)；所述第一液體噴射口的開(kāi)口向上，所述第二液體噴射口的開(kāi)口向下；所述氣體分布器的氣體噴射微孔位于所述上行區(qū)內(nèi)或位于所述上行區(qū)朝向底部的縱向延伸區(qū)內(nèi)，所述氣體噴射微孔的開(kāi)口向上。所述液體分布器的設(shè)置位置不高于所述隔板的頂端，所述氣體分布器的設(shè)置位置不低于所述隔板的底端。所述隔板以所述釜體的軸線(xiàn)為中心軸線(xiàn)環(huán)繞連接形成圓柱形。所述氣體分布器的氣體噴射微孔以所述釜體的軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)置。所述第一液體噴射口以所述釜體的軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)置，所述第二液體噴射口以所述釜體的軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)置。所述隔板為圓弧形曲面，所述隔板與所述釜體內(nèi)壁相連接，從所述隔板的上端與所述釜體相接處開(kāi)始向下傾斜設(shè)有第一開(kāi)口截面，從所述隔板的下端與所述釜體相接處開(kāi)始向上傾斜設(shè)有第二開(kāi)口截面。所述第一開(kāi)口截面與所述釜體軸線(xiàn)的夾角為20-90°。所述夾角為45°。所述第二開(kāi)口截面與所述釜體軸線(xiàn)的夾角為20-90°。所述夾角為60°。其中，本發(fā)明所述的氣體噴射微孔中所述微孔是指孔的直徑達(dá)微米級(jí)。所述氣體噴射微孔的直徑為5-20微米。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)方案相比具有以下有益效果
(1)本發(fā)明所述的羰基化反應(yīng)釜中，所述液體分布器的設(shè)置位置高于所述氣體分布器， 所述液體分布器的至少一個(gè)第一液體噴射口位于所述上行區(qū)內(nèi)或位于所述上行區(qū)朝向頂部的縱向延伸區(qū)(將隔板沿軸向延伸，延伸出的隔板將釜體分割成上行區(qū)的縱向延伸區(qū)與下行區(qū)的縱向延伸區(qū))內(nèi)，且液體分布器的至少一個(gè)第二液體噴射口位于所述下行區(qū)內(nèi)或位于所述下行區(qū)朝向頂部的縱向延伸區(qū)內(nèi)；所述第一液體噴射口的開(kāi)口向上，所述第二液體噴射口的開(kāi)口向下；所述氣體分布器的氣體噴射微孔位于所述上行區(qū)內(nèi)或位于所述上行區(qū)朝向底部的縱向延伸區(qū)內(nèi)，所述氣體噴射微孔的開(kāi)口向上；液體原料與液體催化劑由液體進(jìn)口及液體噴射口輸入到釜體中，同時(shí)氣體原料由氣體進(jìn)口及氣體噴射微孔輸入到上行區(qū)或上行區(qū)朝向頂部的縱向延伸區(qū)中，氣體噴射微孔開(kāi)口向上，噴出的氣體與上行區(qū)或上行區(qū)縱向延伸區(qū)中的液體混合后形成均勻的反應(yīng)混合物并進(jìn)行反應(yīng)，且反應(yīng)混合物在氣體噴射微孔噴射力的帶動(dòng)下自下而上運(yùn)動(dòng)，當(dāng)達(dá)到上行區(qū)或上行區(qū)朝向頂部的縱向延伸區(qū)中的第一液體噴射口附近時(shí)，第一液體噴射口向上的噴射力能夠補(bǔ)充提供動(dòng)力帶動(dòng)反應(yīng)混合物繼續(xù)向上運(yùn)動(dòng)，當(dāng)反應(yīng)混合物進(jìn)入到下行區(qū)或下行區(qū)朝向頂部的縱向延伸區(qū)中受重力的影響向下運(yùn)動(dòng)時(shí)，由第二液體噴射口噴出的液體原料與液體催化劑補(bǔ)充進(jìn)反應(yīng)混合物中， 為羰基化反應(yīng)提供新的反應(yīng)物，同時(shí)第二液體噴射口向下的噴射力提供動(dòng)力帶動(dòng)反應(yīng)混合物向下運(yùn)動(dòng)回到上行區(qū)或上行區(qū)朝向底部的縱向延伸區(qū)中繼續(xù)參與反應(yīng)與循環(huán)，進(jìn)而使反應(yīng)混合物在釜體中形成了快速有效的循環(huán)。
(2)本發(fā)明所述的羰基化反應(yīng)釜中，所述液體分布器的設(shè)置位置不高于所述隔板的頂端，所述氣體分布器的設(shè)置位置不低于所述隔板的底端；反應(yīng)混合物在上行區(qū)與下行區(qū)的軸向延伸區(qū)中進(jìn)行循環(huán)時(shí)，由于沒(méi)有隔板的隔離，上行與下行的反應(yīng)混合物容易相遇并發(fā)生混合而使向上或向下的噴射力相抵消，從而較弱了循環(huán)的進(jìn)行，將反應(yīng)混合物的循環(huán)限定在上行區(qū)與下行區(qū)之間避免了這種情況的發(fā)生，而且縮短了循環(huán)的運(yùn)行距離，加快了循環(huán)的進(jìn)行。(3)本發(fā)明所述的羰基化反應(yīng)釜中，所述隔板以所述釜體的軸線(xiàn)為中心軸線(xiàn)環(huán)繞連接形成圓柱形，所述氣體分布器的氣體噴射微孔以所述釜體的軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)置，所述第一液體噴射口以所述釜體的軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)置，所述第二液體噴射口以所述釜體的軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)置；上行區(qū)與下行區(qū)之間反應(yīng)混合物的循環(huán)在各個(gè)方向上均勻進(jìn)行，從而保證了反應(yīng)混合物在上行區(qū)中的分布均勻，在整個(gè)上行區(qū)中均能進(jìn)行羰基化反應(yīng)，提高了反應(yīng)的效率和產(chǎn)率。(4)本發(fā)明所述的羰基化反應(yīng)釜中，所述隔板為圓弧形曲面，所述隔板與所述釜體內(nèi)壁相連接，從所述隔板的上端與所述釜體相接處開(kāi)始向下傾斜設(shè)有第一開(kāi)口截面，從所述隔板的下端與所述釜體相接處開(kāi)始向上傾斜設(shè)有第二開(kāi)口截面。所述隔板與釜體的內(nèi)壁相接將釜體分隔為上行區(qū)與下行區(qū)，這樣節(jié)省了反應(yīng)釜的制造材料，而且方便釜體內(nèi)不同區(qū)域的修整與清洗，向下傾斜與向上傾斜的開(kāi)口截面使得反應(yīng)混合物在上行區(qū)與下行區(qū)間的循環(huán)距離縮短，從而無(wú)需很大的動(dòng)力就能構(gòu)成反應(yīng)混合物的循環(huán)，使得循環(huán)更易實(shí)現(xiàn)。


為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被理解，本發(fā)明結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明的內(nèi)容進(jìn)行進(jìn)一步的說(shuō)明；
圖1為本發(fā)明實(shí)施例一的羰基化反應(yīng)釜沿軸線(xiàn)的剖面圖； 圖2為本發(fā)明實(shí)施例二的羰基化反應(yīng)釜沿軸線(xiàn)的剖面圖； 圖3為本發(fā)明實(shí)施例三的羰基化反應(yīng)釜的主視圖； 圖4為本發(fā)明實(shí)施例三的羰基化反應(yīng)釜的俯視其中附圖標(biāo)記為1-釜體，2-隔板，3-氣體出口，4-液體進(jìn)口，5-液體噴射口，6-氣體進(jìn)口，7-氣體噴射微孔，8-液體出口，9-支撐桿，10-圓弧形區(qū)域，11-第一開(kāi)口截面， 12-第二開(kāi)口截面。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例一
本發(fā)明所述的羰基化反應(yīng)釜結(jié)構(gòu)如圖1所示，包括釜體1，在所述釜體1內(nèi)部設(shè)置有隔板2，所述隔板2以所述釜體1的軸線(xiàn)為中心軸線(xiàn)環(huán)繞連接圍成圓柱形，所述隔板2通過(guò)4根對(duì)稱(chēng)連接在釜體1側(cè)壁上的支撐桿9進(jìn)行固定，所述隔板2包圍的圓柱形區(qū)域?yàn)橄滦袇^(qū)，所述隔板2外壁與釜體1內(nèi)壁之間形成上行區(qū)，上行區(qū)與下行區(qū)的兩端相通，所述釜體1與下行區(qū)的內(nèi)徑比為1. 5-2，釜體1底部設(shè)有液體出口 8，用于排出反應(yīng)生成的液體，釜體1的頂部設(shè)有氣體出口 3，用于排出反應(yīng)尾氣及未反應(yīng)的氣體；在釜體1的上部設(shè)有一液體進(jìn)口 4，用于輸入液體反應(yīng)原料與液體催化劑，液體進(jìn)口 4沿水平方向連接有托盤(pán)形的液體分布器伸入到釜體1中，液體分布器的高度低于隔板2上端100-200mm，液體分布器在上行區(qū)中以釜體1軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)有8個(gè)開(kāi)口向上的液體噴射口 5，并且在下行區(qū)中以釜體1軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)有5個(gè)開(kāi)口向下的液體噴射口 5 ；在釜體1的下部設(shè)有一氣體進(jìn)口 6，用于輸入氣體原料，氣體進(jìn)口 6位于液體進(jìn)口 4的正下方，氣體進(jìn)口 6沿水平方向連接有托盤(pán)形的氣體分布器伸入到釜體1中，氣體分布器位于液體分布器的正下方，氣體分布器的高度高于隔板2下端100-200mm，氣體分布器在上行區(qū)中以釜體1軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)有8 個(gè)開(kāi)口向上的氣體噴射微孔7。實(shí)施例二
本實(shí)施例所述的羰基化反應(yīng)釜結(jié)構(gòu)如圖2所示，包括所述隔板2包圍的圓柱形區(qū)域?yàn)樯闲袇^(qū)，所述隔板2外壁與釜體1內(nèi)壁之間形成下行區(qū)，上行區(qū)與下行區(qū)的兩端相通，所述釜體1與上行區(qū)的內(nèi)徑比為1. 5-2，液體分布器在上行區(qū)中以釜體1軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)有5 個(gè)開(kāi)口向上的液體噴射口 5，并且在下行區(qū)中以釜體1軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)有4個(gè)開(kāi)口向下的液體噴射口 5，氣體分布器在上行區(qū)中以釜體1軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)有5個(gè)開(kāi)口向上的氣體噴射微孔7 ；其余部分的結(jié)構(gòu)與實(shí)施例一相同。實(shí)施例三
本實(shí)施例所述的羰基化反應(yīng)釜結(jié)構(gòu)如圖3、4所示，包括釜體1，所述釜體1內(nèi)有一呈圓弧形曲面的隔板2與所述釜體1內(nèi)壁相連接，同時(shí)從隔板2的上端與釜體1相接處開(kāi)始向下傾斜形成第一開(kāi)口截面11，所述第一開(kāi)口截面11與釜體1軸線(xiàn)的夾角為45°，且從所述隔板2的下端與所述釜體1相接處開(kāi)始向上傾斜形成第二開(kāi)口截面12，所述第二開(kāi)口截面12與釜體1軸線(xiàn)的夾角為60° ；所述隔板2內(nèi)壁與所述釜體1內(nèi)壁圍成的圓弧形區(qū)域 10為下行區(qū)，所述隔板2外壁與所述釜體1內(nèi)壁形成的區(qū)域?yàn)樯闲袇^(qū)，上行區(qū)與下行區(qū)的兩端相通，液體進(jìn)口 4沿水平方向連接有線(xiàn)形的液體分布器伸入到釜體1中，液體分布器的高度低于隔板2上端100-200mm，液體分布器在上行區(qū)中設(shè)有1個(gè)開(kāi)口向上的液體噴射口 5， 并且在下行區(qū)中設(shè)有1個(gè)開(kāi)口向下的液體噴射口 5，氣體進(jìn)口 6沿水平方向連接有線(xiàn)形的氣體分布器伸入到上行區(qū)中，氣體分布器位于液體分布器的正下方，氣體分布器的高度高于隔板2下端100-200mm，氣體分布器在上行區(qū)中設(shè)有2個(gè)開(kāi)口向上的氣體噴射微孔7 ；其余部分的結(jié)構(gòu)與實(shí)施例一相同。上述實(shí)施例中所述氣體噴射微孔7可以根據(jù)實(shí)際需要選擇任意微米級(jí)的直徑，其中優(yōu)選的微孔直徑為5-20微米。本發(fā)明所述的羰基化反應(yīng)釜的工作過(guò)程如下
將液體原料與液體催化劑由液體進(jìn)口 4及液體噴射口 5輸入到釜體1中，同時(shí)氣體原料由氣體進(jìn)口 6及氣體噴射微孔7輸入到上行區(qū)中，氣體噴射微孔7開(kāi)口向上，噴出的氣體與上行區(qū)中的液體混合后形成均勻的反應(yīng)混合物并進(jìn)行反應(yīng)；反應(yīng)混合物在氣體噴射微孔 7向上噴射力的帶動(dòng)下向上運(yùn)動(dòng)，當(dāng)反應(yīng)混合物運(yùn)動(dòng)至上行區(qū)中的液體噴射口 5附近時(shí)，由于上行區(qū)中的液體噴射口 5開(kāi)口向上，液體噴射口 5向上的噴射力帶動(dòng)反應(yīng)混合物繼續(xù)向上運(yùn)動(dòng)，直至到達(dá)下行區(qū)的頂端后向下運(yùn)動(dòng)，下行區(qū)中開(kāi)口向下的液體噴射口 5噴出的液體原料與液體催化劑為羰基化反應(yīng)的進(jìn)行提供了新鮮的反應(yīng)物，同時(shí)液體噴射口 5向下的噴射力為反應(yīng)混合物在下行區(qū)中的運(yùn)動(dòng)提供了動(dòng)力，帶動(dòng)反應(yīng)混合物在下行區(qū)中由上向下運(yùn)動(dòng)，直至流出下行區(qū)進(jìn)入上行區(qū)中繼續(xù)參加反應(yīng)與循環(huán)，由此在釜體1內(nèi)的上行區(qū)與下行區(qū)之間形成了反應(yīng)混合物的循環(huán)，延長(zhǎng)了反應(yīng)物的混合時(shí)間使反應(yīng)混合物更均勻，提高了反應(yīng)物的利用率，同時(shí)提高了產(chǎn)率。 雖然本發(fā)明已經(jīng)通過(guò)上述具體實(shí)施例對(duì)其進(jìn)行了詳細(xì)闡述，但是，本專(zhuān)業(yè)普通技術(shù)人員應(yīng)該明白，在此基礎(chǔ)上所做出的未超出權(quán)利要求保護(hù)范圍的任何形式和細(xì)節(jié)的變化，均屬于本 發(fā)明所要保護(hù)的范圍。
權(quán)利要求
1.一種羰基化反應(yīng)釜反應(yīng)釜，包括釜體(1)，連接設(shè)置在所述釜體(1)內(nèi)的隔板(2)將所述釜體(1)分隔成兩端相通的上行區(qū)與下行區(qū)；在所述釜體(1)上設(shè)有液體進(jìn)口(4)、液體出口(8)和氣體進(jìn)口(6)，頂部設(shè)有氣體出口(3)；與所述液體進(jìn)口(4)相連接，在所述釜體(1)內(nèi)設(shè)置有液體分布器，所述液體分布器上設(shè)有液體噴射口(5);與所述氣體進(jìn)口(6)相連接，在所述釜體(1)內(nèi)設(shè)置有氣體分布器，所述氣體分布器上設(shè)有氣體噴射微孔(7);其特征在于，所述液體分布器的設(shè)置位置高于所述氣體分布器，所述液體分布器的至少一個(gè)第一液體噴射口(5)位于所述上行區(qū)內(nèi)或位于所述上行區(qū)朝向頂部的縱向延伸區(qū)內(nèi)，且液體分布器的至少一個(gè)第二液體噴射口(5)位于所述下行區(qū)內(nèi)或位于所述下行區(qū)朝向頂部的縱向延伸區(qū)內(nèi)；所述第一液體噴射口(5)的開(kāi)口向上，所述第二液體噴射口(5)的開(kāi)口向下；所述氣體分布器的氣體噴射微孔(7)位于所述上行區(qū)內(nèi)或位于所述上行區(qū)朝向底部的縱向延伸區(qū)內(nèi)，所述氣體噴射微孔(7)的開(kāi)口向上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的羰基化反應(yīng)釜反應(yīng)釜，其特征在于，所述液體分布器的設(shè)置位置不高于所述隔板(2)的頂端，所述氣體分布器的設(shè)置位置不低于所述隔板(2)的底端。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的羰基化反應(yīng)釜，其特征在于，所述隔板(2)以所述釜體 (1)的軸線(xiàn)為中心軸線(xiàn)環(huán)繞連接形成圓柱形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的羰基化反應(yīng)釜，其特征在于，所述氣體分布器的氣體噴射微孔(7)以所述釜體(1)的軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一所述的羰基化反應(yīng)釜，其特征在于，所述第一液體噴射口 (5)以所述釜體(1)的軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)置，所述第二液體噴射口(5)以所述釜體(1)的軸線(xiàn)為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的羰基化反應(yīng)釜，其特征在于，所述隔板(2)為圓弧形曲面，所述隔板(2)與所述釜體(1)內(nèi)壁相連接，從所述隔板(2)的上端與所述釜體(1)相接處開(kāi)始向下傾斜設(shè)有第一開(kāi)口截面(11)，從所述隔板(2)的下端與所述釜體(1)相接處開(kāi)始向上傾斜設(shè)有第二開(kāi)口截面(12 )。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的羰基化反應(yīng)釜，其特征在于，所述第一開(kāi)口截面(11)與所述釜體(1)軸線(xiàn)的夾角為20-90°。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的羰基化反應(yīng)釜，其特征在于，所述夾角為45°。
9.根據(jù)權(quán)利要求6或7或8所述的羰基化反應(yīng)釜，其特征在于，所述第二開(kāi)口截面 (12)與所述釜體(1)軸線(xiàn)的夾角為20-90°。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的羰基化反應(yīng)釜，其特征在于，所述夾角為60°。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-10任一所述的羰基化反應(yīng)釜，其特征在于，所述氣體噴射微孔 (7)的直徑為5-20微米。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種羰基化反應(yīng)釜，包括釜體與設(shè)置在所述釜體內(nèi)的隔板將所述釜體分隔成兩端相通的上行區(qū)與下行區(qū)；在所述釜體的底部設(shè)有液體出口，頂部設(shè)有氣體出口；在所述釜體的上部設(shè)有液體進(jìn)口與液體分布器，所述液體分布器的至少一個(gè)開(kāi)口向上的液體噴射口設(shè)于所述上行區(qū)內(nèi)或位于所述上行區(qū)朝向頂部的縱向延伸區(qū)內(nèi)，且液體分布器的至少一個(gè)開(kāi)口向下的液體噴射口設(shè)于所述下行區(qū)內(nèi)或位于所述下行區(qū)朝向頂部的縱向延伸區(qū)內(nèi)；在所述釜體的下部設(shè)有氣體進(jìn)口與氣體分布器，所述氣體分布器的氣體噴射微孔位于所述上行區(qū)內(nèi)或位于所述上行區(qū)朝向底部的縱向延伸區(qū)內(nèi)且開(kāi)口向上；所述液體分布器的設(shè)置位置高于所述氣體分布器。
文檔編號(hào)C07C51/56GK102430381SQ201110289090
公開(kāi)日2012年5月2日 申請(qǐng)日期2011年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月27日
發(fā)明者唐應(yīng)吉, 尚建選, 張蕾, 王振宇, 馬曉迅 申請(qǐng)人:陜西煤業(yè)化工技術(shù)開(kāi)發(fā)中心有限責(zé)任公司