專利名稱：星形支化的硅氧烷聚合物作為涂布應(yīng)用的防霧添加劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用硅氧烷組合物涂布柔性材料或支持物如紙張或其它聚合材料，紡織的或非紡織的。本發(fā)明還涉及用包含一種或多種可交聯(lián)的聚有機(jī)硅氧烷的液體組合物涂布柔性材料或支持物，其中，該聚有機(jī)硅氧烷是通過加成反應(yīng)、縮合反應(yīng)、陽離子反應(yīng)或自由基反應(yīng)交聯(lián)的。本發(fā)明也涉及星形支化(star-branched)的聚有機(jī)硅氧烷(硅氧烷聚合物)，其在對(duì)柔性材料或支持物涂布硅氧烷組合物(聚有機(jī)硅氧烷)期間減少起霧。該柔性支持物可以為紙、紙板、塑料膜、金屬膜等。一些示范性的應(yīng)用有食品包裝紙、膠粘標(biāo)簽、膠粘帶、密封物等。
背景技術(shù)：
通常在高速連續(xù)操作的涂布設(shè)備上用液體硅氧烷進(jìn)行柔性支持物的涂布。這些設(shè)備一般包括由數(shù)個(gè)輥(特別包括壓力輥和涂布輥)構(gòu)成的涂布頭(coating head)，這些輥通過一系列相互相鄰放置的輥連續(xù)輸入可交聯(lián)的或不可交聯(lián)的硅氧烷組合物。在壓力輥和至少一個(gè)表面上待涂布的涂布輥之間，高速輸入欲涂布所需材料的柔性支持物帶。當(dāng)打算交聯(lián)硅氧烷涂層時(shí)，實(shí)施交聯(lián)反應(yīng)的裝置置于涂布頭的下游。例如，實(shí)施交聯(lián)的裝置可以是烤箱、輻射(如紫外(UV)輻射)發(fā)射器或電子束(EB)發(fā)射器。
用硅氧烷高速涂布柔性支持物涉及到從涂布輥傳送硅氧烷液體(或流體)至柔性支持物的有關(guān)問題，所述硅氧烷液體(或流體)向前移動(dòng)通過涂布裝置。與將硅氧烷液體(或流體)從涂布輥傳送至柔性支持物有關(guān)的具體問題之一是在緊靠涂布頭的附近和特別接近涂布輥和涂布的柔性支持物之間的接觸位置產(chǎn)生霧(fog)、煙霧(mist)或氣溶膠(aerosol)。通常，該霧、煙霧或氣溶膠的密度隨著用裝置涂布的柔性支持物的前進(jìn)速度的增加而增加。
該傳送問題的第一個(gè)影響是降低了實(shí)際傳送至柔性支持物的硅氧烷液體的量。第二個(gè)影響是包含霧、煙霧或氣溶膠的小滴冷凝在涂布輥下游的剛剛涂布的柔性支持物上，產(chǎn)生桔皮效應(yīng)(orange peel effect)。該桔皮效應(yīng)，或涂布不均勻引起與覆蓋、涂層的機(jī)械性質(zhì)如擦去(ruboff)和耐粘附性有關(guān)的問題。
另一個(gè)由涂布中不均勻性引起的問題涉及工業(yè)衛(wèi)生和在涂布設(shè)備附近操作涂布設(shè)備的人員的安全。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供在涂布柔性支持物期間減少起霧的組合物，其包括以下物質(zhì)的(hydrosilylation)氫化硅烷化反應(yīng)產(chǎn)物a)MaMHbDcDHdTeTHf；和b)α量的CH2＝CHR1其中，α+1≤b+d+f，且g≤b，h≤d，i≤f，同時(shí)1.5≤b+d+f≤100；2≤a+b≤12；0≤c+d≤1000；0≤e+f≤10，且R1是一價(jià)基團(tuán)，其選自鹵素、氫、C1～C60一價(jià)烴基、C1～C60一價(jià)聚酯基團(tuán)、C1～C60一價(jià)腈基、C1～C60一價(jià)烷基鹵化物基團(tuán)和C1～C60一價(jià)聚醚基團(tuán)，及其混合物；其中M＝R2R3R4SiO1/2；MH＝HR5R6SiO1/2；D＝R7R8SiO2/2；DH＝HR9SiO2/2；T＝R11SiO3/2；TH＝HSiO3/2；并且所述反應(yīng)產(chǎn)物具有通式M′gMaMHb-gDcD′hDHd-hTeT′iTHf-i，其中M′＝(CH2CHR1)R5R6SiO1/2；D′＝(CH2CHR1)R9SiO2/2；和T′＝(CH2CHR1)SiO3/2其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R11獨(dú)立地選自C1～C60一價(jià)烴基，其中下標(biāo)a、b、c、d、e、f、g、h和i為0或正數(shù)，受限于b+d+f-g-h-i＞0。
本發(fā)明還提供了在涂布柔性支持物期間減少起霧的組合物，其包含以下物質(zhì)的氫化硅烷化反應(yīng)產(chǎn)物a)M′gMaMHb-gDcD′hDHd-hTeT′iTHf-i和b)(MjMVikDlDVimTnTVio)pQp)q，其中下標(biāo)j、k、l、m、n、o和p為0或正數(shù)，受限于k+m+o＞0，k+m+o＜b+d+F-g-h-i，p為0.4～4.0，q不為0且為正數(shù)，受限于(b+d+f-g-h-i)/(((k+m+o)p)q)為4.59～0.25，其中Mvi＝RViR5R6SiO1/2；DVi＝RViR10SiO2/2；TVi＝RViSiO3/2；Q＝SiO4/2；其中R10獨(dú)立地選自C1～C60一價(jià)烴基團(tuán)，且各RVi獨(dú)立地選自C2～C60一價(jià)烯烴基團(tuán)。
具體實(shí)施例方式
在貴金屬氫化硅烷化催化劑存在下，制備本發(fā)明的星形支化的硅氧烷化合物，其為以下物質(zhì)的反應(yīng)產(chǎn)物M′gMaMHb-gDcD′hDH′d-hTeT′iTHf-i和(MjMVikDlDVimTnTVio)pQp)q，其中下標(biāo)a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、n、o、p為0或正數(shù)，q不為0且為正數(shù)，對(duì)于化合物的混合物，各下標(biāo)的平均值最可能為非整數(shù)；對(duì)于特定的化合物，下標(biāo)將是整數(shù)，其中k+m+o＞0，且k+m+o＜b+d+f-g-h-i，p為0.4～4.0，優(yōu)選為0.5～3.0，更優(yōu)選為0.5～2.5，最優(yōu)選為0.5～1.5，以及介于其間的所有子區(qū)間，而q為1～200，優(yōu)選為1～100，更優(yōu)選為1～75，最優(yōu)選為1～50，以及介于其間的所有子區(qū)間，其中含有氫化物的前體和含有乙烯基的前體的比率通過下列各前體的化學(xué)計(jì)量下標(biāo)之間的數(shù)學(xué)關(guān)系(b+d+f-g-h-i)/(((k+m+o)p)q)確定，為4.59～0.25，優(yōu)選為4.5～0.25，更優(yōu)選為4.5～0.25，最優(yōu)選為4.0～0.25，以及介于其間的所有子區(qū)間，并且特別包括3.5～0.25；3.0～0.25；2.5～0.25及2.0～0.25；其中化合物M′gMaMHb-gDcD′hDHd-hTeT′iTHf-i可以通過以下反應(yīng)獲得MaMHbDcDHdTeTHf+αCH2＝CHR1→M′gMaMHb-gDcD′hDHd-hTeT′iTHf-i其中α+1≤b+d+f，且g≤b，h≤d，i≤f，同時(shí)1.5≤b+d+f≤100；2≤a+b≤12；0≤c+d≤1000；0≤e+f≤10，且R1是一價(jià)基團(tuán)，其選自鹵素、氫、C1～C60一價(jià)烴基、C1～C60一價(jià)聚酯基團(tuán)、C1～C60一價(jià)腈基、C1～C60一價(jià)烷基鹵化物基團(tuán)和C1～C60一價(jià)聚醚基團(tuán)，及其混合物；其中
M＝R2R3R4SiO1/2；MH＝HR5R6SiO1/2；Mvi＝RViR5R6SiO1/2；D＝R7R8SiO2/2；DH＝HR9SiO2/2；DVi＝RViR10SiO2/2；T＝R11SiO3/2；TH＝HSiO3/2；TVi＝RViSiO3/2；Q＝SiO4/2；M′＝(CH2CHR1)R5R6SiO1/2；D′＝(CH2CHR1)R9SiO2/2；和T′＝(CH2CHR1)SiO3/2其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10和R11獨(dú)立地選自C1～C60一價(jià)烴基，并且各RVi獨(dú)立地選自C2～C60一價(jià)烯烴基團(tuán)；應(yīng)注意本發(fā)明的組合物要求b+d+f-g-h-i＞0。在美國專利5,817,729、美國專利5,399,614和美國專利2,676,182中描述了制備MQ樹脂如((MjMVikDlDVimTnTVio)pQ)q的方法，在此特別引入作為參考。短語C1～C60是指碳數(shù)范圍為1～60，且包括脂族和芳族基團(tuán)，例如苯乙烯基，該范圍也包括以下特定的子區(qū)間15～60，30～60，45～60，1～15，1～30，1～45，10～30，10～40，10～50，以及介于其間的所有子區(qū)間。
由于在將被反應(yīng)的各組分分子上用于反應(yīng)的氫化硅烷化位置的多樣性，以及將這種隨機(jī)化學(xué)反應(yīng)簡化至分析說明的困難，本發(fā)明的星形支化的硅氧烷化合物描述為以下兩種化合物的反應(yīng)產(chǎn)物M′gMaMHb-gDcD′hDHd-hTeT′iTHf-i和(MjMVikDlDVimTnTVio)pQ)q。
可通過凈反應(yīng)(neat reaction)或反應(yīng)物被溶劑稀釋的反應(yīng)來制備本發(fā)明的組合物。由于這些物質(zhì)中取代基的長鏈性質(zhì)，凈反應(yīng)，即不存在任何不參與反應(yīng)的溶劑(non-participating solvent)時(shí)進(jìn)行的反應(yīng)，將傾向于產(chǎn)生與此處分子描述一致的產(chǎn)物，但具有更雜亂的(entangled)宏觀結(jié)構(gòu)(macro-structure)。如果希望這些化合物的宏觀結(jié)構(gòu)不太雜亂，應(yīng)在合適的溶劑介質(zhì)，如環(huán)狀硅氧烷、惰性烴溶劑等中進(jìn)行這些制備反應(yīng)。
已知多種類型的貴金屬催化劑用于這種氫化硅烷化反應(yīng)，并且這些催化劑可用于本發(fā)明的反應(yīng)中。當(dāng)要求光學(xué)透明度時(shí)，優(yōu)選的催化劑是可溶于反應(yīng)混合物中的催化劑。至于貴金屬，申請(qǐng)人定義Ru、Rh、Pd、Os、Ir和Pt為貴金屬，在定義中還包括Ni，這是因?yàn)樗臍浠钚浴４呋瘎﹥?yōu)選為鉑化合物，且該鉑化合物可以選自如美國專利3,159,601中描述的通式為(PtCl2Olefin)和H(PtCl3Olefin)的那些，在此引入該專利作為參考。在上面兩式中示出的烯烴(olefin)可以為幾乎所有類型的烯烴，但優(yōu)選具有2～8個(gè)碳原子的亞烯烴(alkenylene)、5～7個(gè)碳原子的環(huán)亞烯烴(cycloalkenylene)或苯乙烯。在上式中可利用的具體烯烴有乙烯、丙烯、丁烯的各種異構(gòu)體、辛烯、環(huán)戊烯、環(huán)己烯、環(huán)庚烯等。
在本發(fā)明的組合物中可使用的另外的含鉑材料為美國專利3,159,662中描述的氯化鉑的環(huán)丙烷絡(luò)合物，在此引入該專利作為參考。
此外，如美國專利3,220,972中描述的，含鉑材料可以為由氯鉑酸和每克鉑高達(dá)2摩爾選自醇、醚、醛和上述物質(zhì)的混合物中的物質(zhì)形成的絡(luò)合物，在此引入該專利作為參考。
在Karstedt的美國專利3,715,334、3,775,452和3,814,730中描述了用于液體注塑組合物的優(yōu)選催化劑。關(guān)于本領(lǐng)域的其它背景技術(shù)可以在由Academic Press出版(New York，1979)，F(xiàn).G.A.Stone和R.West編輯，J.L.Spier的“Homogeneous Catalysis of Hydrosilation by Transition Metals，Advances in Organometallic Chemistrv，第17卷，pp.407-447中找到。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以容易地確定鉑催化劑的有效量。通常，用于氫化硅烷化的有效量為每百萬份總有機(jī)聚硅氧烷組合物大約0.1～50份，以及介于其間的所有子區(qū)間。
實(shí)施例作為實(shí)施例，在氮?dú)鈱?blanket)下將19.9克(0.083摩爾)C16-18α-烯烴與1000克(0.21摩爾)甲硅烷基氫化物封端的聚二甲基硅氧烷混合，并加入10ppm Pt作為Karstedt催化劑。在95℃加熱反應(yīng)并攪拌大約4小時(shí)，以使烯烴加成至硅氧烷聚合物。殘留SiH的定量化學(xué)分析表明在將烯烴連接至硅氧烷中已經(jīng)消耗了所需的氫量。任選可在進(jìn)一步反應(yīng)之前將產(chǎn)物分離出來。
將5.2克(0.05摩爾)((MVi)2Q)4樹脂加入第一步反應(yīng)的產(chǎn)物中。加入另外的10ppm Pt作為Karstedt催化劑，并且反應(yīng)攪拌和加熱至95℃約4小時(shí)。定量化學(xué)分析表明乙烯基和氫化物官能團(tuán)已經(jīng)反應(yīng)到需要的程度。分離產(chǎn)物并作為防霧添加劑進(jìn)行測(cè)試，結(jié)果報(bào)告在下面的表1和2中。
表1示出了基于上述路徑合成防霧添加劑的結(jié)構(gòu)的實(shí)施例。SiH/SiVinyl是用于反應(yīng)的甲硅烷基氫化物的摩爾數(shù)與用于反應(yīng)的甲硅烷基乙烯基的摩爾數(shù)的比率。在示出的化合物中，SiH/SiVinyl比率為0.2～2.75，但更大的可使用的范圍為0.22～4.5。
表2示出了本發(fā)明的防霧表現(xiàn)。使用導(dǎo)向涂布機(jī)(pilot coater)在2000ft/min的線速度下在2.5 mil SC Rhi-Liner 12的紙上運(yùn)行期間進(jìn)行測(cè)量。用含～2％防霧添加劑的標(biāo)準(zhǔn)硅氧烷脫膜紙制劑涂布該紙，目標(biāo)為每令0.6～0.9磅。使用DustTrack Aerosol Monitor測(cè)量霧量。將進(jìn)氣口(intake eport)安置在最高觀測(cè)的起霧區(qū)域，從而得到最高期望值。在所有的操作條件下，該位置既不反映正常的環(huán)境測(cè)試，也不能保證特定的值。測(cè)量為起霧材料(mg)/空氣(立方米)，較低的值更理想，因?yàn)樗鼈儽硎酒痨F較少。
測(cè)量結(jié)果表明，本發(fā)明得到的防霧材料相比于不含防霧添加劑的對(duì)照配制物在2000ft/min下降低了產(chǎn)生的霧量。十分意料不到的，霧量通常下降到原來的十分之一以下，常常下降到原來的約百分之一。

表2防霧測(cè)量

上述實(shí)施例僅僅是說明本發(fā)明，僅用來說明本發(fā)明的一些特征。所附的權(quán)利要求意指要求本發(fā)明如所設(shè)想的一樣寬，并且此處給出的實(shí)施例是說明從所有可行的實(shí)施方案的多種形式中選擇的實(shí)施方案。因此，申請(qǐng)人的目的是所附的權(quán)利要求不應(yīng)受限于用來說明本發(fā)明特征的實(shí)施例的選擇。正如在權(quán)利要求中所用的，開放式措詞“包含”和它的語法變化形式邏輯上也對(duì)著(subtend)并包含變化的和不同范圍的措詞，例如，但不限于“基本上包括”和“由......組成”。必要時(shí)，提供了范圍，那些范圍包括它們之間的所有子區(qū)間?？梢哉J(rèn)識(shí)到對(duì)本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，這些范圍內(nèi)的變化將顯示它們自身，并且在沒有對(duì)公知作出貢獻(xiàn)時(shí)，那些變化用可能地認(rèn)為被所附的權(quán)利要求覆蓋。還可以預(yù)料到科技的進(jìn)步使得等同物和替換物成為可能，這些等同物和替換物因語言的不精確目前未被注意過，并且這些變化也應(yīng)認(rèn)為可以被所附的權(quán)利要求覆蓋。附上在此所引用的所有美國專利，由此具體引入作為參考。
權(quán)利要求
1.一種在涂布柔性支持物期間減少起霧的組合物，其包括以下物質(zhì)的氫化硅烷化反應(yīng)產(chǎn)物a)MaMHbDcDHdTeTHf；和b)α量的CH2＝CHR1其中α+l≤b+d+f，同時(shí)1.5≤b+d+f≤100；2≤a+b≤12；0≤c+d≤1000；0≤e+f≤10，且R1是一價(jià)基團(tuán)，其選自鹵素、氫、C1～C60一價(jià)烴基、C1～C60一價(jià)聚酯基團(tuán)、C1～C60一價(jià)腈基、C1～C60一價(jià)烷基鹵化物基團(tuán)和C1～C60一價(jià)聚醚基團(tuán)，及其混合物；其中M＝R2R3R4SiO1/2；MH＝HR5R6SiO1/2；D＝R7R8SiO2/2；DH＝HR9SiO2/2；T＝R11SiO3/2；TH＝HSiO3/2；并且所述反應(yīng)產(chǎn)物具有通式M′gMaMHb-gDcD′hDHd-hTeT′iTHf-i，其中M′＝(CH2CHR1)R5R6SiO1/2；D′＝(CH2CHR1)R9SiO2/2；和T′＝(CH2CHR1)SiO3/2其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R11獨(dú)立地選自C1～C60一價(jià)烴基，其中下標(biāo)a、b、c、d、e、f、g、h和i為0或正數(shù)，受限于b+d+f-g-h-i＞0。
2.一種組合物，包含以下物質(zhì)的氫化硅烷化反應(yīng)產(chǎn)物a)權(quán)利要求1的反應(yīng)產(chǎn)物組合物和b)((MjMVikDlDVimTnTVio)pQp)q，其中下標(biāo)j、k、l、m、n、o和p為0或正數(shù)，受限于k+m+o＞0，k+m+o＜b+d+f-g-h-i，p為0.4～4.0，q不為0且為正數(shù)，受限于(b+d+f-g-h-i)/(((k+m+o)p)q)為4.59～0.25，其中Mvi＝RViR5R6SiO1/2；DVi＝RViR10SiO2/2；TVi＝RViSiO3/2；Q＝SiO4/2；其中R10獨(dú)立地選自C1～C60一價(jià)烴基團(tuán)，且各RVi獨(dú)立地選自C2～C60一價(jià)烯烴基團(tuán)。
3.權(quán)利要求2的組合物，其中R1選自C1～C60一價(jià)烴基、C1～C60一價(jià)聚酯基團(tuán)、C1～C60一價(jià)腈基、C1～C60一價(jià)烷基鹵化物基團(tuán)和C1～C60一價(jià)聚醚基團(tuán)。
4.權(quán)利要求2的組合物，其中R1選自C15～C60一價(jià)烴基、C15～C60一價(jià)聚酯基團(tuán)、C15～C60一價(jià)腈基、C15～C60一價(jià)烷基鹵化物基團(tuán)和C15～C60一價(jià)聚醚基團(tuán)。
5.權(quán)利要求2的組合物，其中R1選自C30～C60一價(jià)烴基、C30～C60一價(jià)聚酯基團(tuán)、C30～C60一價(jià)腈基、C30～C60一價(jià)烷基鹵化物基團(tuán)和C30～C60一價(jià)聚醚基團(tuán)。
6.權(quán)利要求3的組合物，其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10和R11是甲基。
7.權(quán)利要求4的組合物，其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10和R11是甲基。
8.權(quán)利要求5的組合物，其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10和R11是甲基。
9.權(quán)利要求2的組合物，其中R1是苯乙烯基。
10.權(quán)利要求9的組合物，其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10和R11是甲基。
11.一種組合物，其包括以下物質(zhì)的氫化硅烷化反應(yīng)產(chǎn)物a)MaMHbDcDHdTeTHf，和b)α量的CH2＝CHR1其中α+l＜b+d+f，且g≤b，h≤d，i≤f，同時(shí)1.5≤b+d+f≤100；2≤a+b≤12；0≤c+d≤1000；0≤e+f≤10，且R1是一價(jià)基團(tuán)，其選自鹵素、氫、C1～C60一價(jià)烴基、C1～C60一價(jià)聚酯基團(tuán)、C1～C60一價(jià)腈基、C1～C60一價(jià)烷基鹵化物基團(tuán)和C1～C60一價(jià)聚醚基團(tuán)；其中M＝R2R3R4SiO1/2；MH＝HR5R6SiO1/2；D＝R7R8iO2/2；DH＝HR9SiO2/2；T＝R11SiO3/2；TH＝HSiO3/2；并且所述反應(yīng)產(chǎn)物具有通式M′gMaMHb-gDcD′hDHd-hTeT′iTHf-i，其中M′＝(CH2CHR1)R5R6SiO1/2；D′＝(CH2CHR1)R9SiO2/2；和T′＝(CH2CHR1)SiO3/2其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R11獨(dú)立地選自C1～C60一價(jià)烴基，其中下標(biāo)a、b、c、d、e、f、g、h和i為0或正數(shù)，受限于g＞0；b-g＞0；h＞0和d-h＞0。
12.一種組合物，包含以下物質(zhì)的氫化硅烷化反應(yīng)產(chǎn)物a)權(quán)利要求11的反應(yīng)產(chǎn)物組合物和b)(MjMVikDlDVimTnTVio)pQp)q，其中下標(biāo)j、k、l、m、n、o和p為0或正數(shù)，受限于k+m+o＞0，k+m+o＜b+d+f-g-h-i，p為0.4～4.0，q不為0且為正數(shù)，受限于(b+d+f-g-h-i)/(((k+m+o)p)q)為4.59～0.25，其中Mvi＝RViR5R6SiO1/2；DVi＝RViR10SiO2/2；TVi＝RViSiO3/2；Q＝SiO4/2；其中R10獨(dú)立地選自C1～C60一價(jià)烴基團(tuán)，且各RVi獨(dú)立地選自C2～C60一價(jià)烯烴基團(tuán)。
13.權(quán)利要求12的組合物，其中R1選自C1～C60一價(jià)烴基、C1～C60一價(jià)聚酯基團(tuán)、C1～C60一價(jià)腈基、C1～C60一價(jià)烷基鹵化物基團(tuán)和C1～C60一價(jià)聚醚基團(tuán)。
14.權(quán)利要求12的組合物，其中R1選自C15～C60一價(jià)烴基、C15～C60一價(jià)聚酯基團(tuán)、C15～C60一價(jià)腈基、C15～C60一價(jià)烷基鹵化物基團(tuán)和C15～C60一價(jià)聚醚基團(tuán)。
15.權(quán)利要求12的組合物，其中R1選自C30～C60一價(jià)烴基、C30～C60一價(jià)聚酯基團(tuán)、C30～C60一價(jià)腈基、C30～C60一價(jià)烷基鹵化物基團(tuán)和C30～C60一價(jià)聚醚基團(tuán)。
16.權(quán)利要求13的組合物，其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10和R11是甲基。
17.權(quán)利要求14的組合物，其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10和R11是甲基。
18.權(quán)利要求15的組合物，其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10和R11是甲基。
19.權(quán)利要求12的組合物，其中R1是苯乙烯基。
20.權(quán)利要求19的組合物，其中各R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10和R11是甲基。
21.一種在柔性基底涂布中減少起霧的方法，所述方法包括制備用于涂布所述基底的涂布組合物和向其中加入權(quán)利要求11的組合物。
22.一種在柔性基底涂布中減少起霧的方法，所述方法包括制備用于涂布所述基底的涂布組合物和向其中加入權(quán)利要求12的組合物。
23.一種在柔性基底涂布中減少起霧的方法，所述方法包括制備用于涂布所述基底的涂布組合物和向其中加入權(quán)利要求13的組合物。
24.一種在柔性基底涂布中減少起霧的方法，所述方法包括制備用于涂布所述基底的涂布組合物和向其中加入權(quán)利要求14的組合物。
25.一種在柔性基底涂布中減少起霧的方法，所述方法包括制備用于涂布所述基底的涂布組合物和向其中加入權(quán)利要求15的組合物。
26.一種在柔性基底涂布中減少起霧的方法，所述方法包括制備用于涂布所述基底的涂布組合物和向其中加入權(quán)利要求16的組合物。
27.一種在柔性基底涂布中減少起霧的方法，所述方法包括制備用于涂布所述基底的涂布組合物和向其中加入權(quán)利要求17的組合物。
28.一種在柔性基底涂布中減少起霧的方法，所述方法包括制備用于涂布所述基底的涂布組合物和向其中加入權(quán)利要求18的組合物。
29.一種在柔性基底涂布中減少起霧的方法，所述方法包括制備用于涂布所述基底的涂布組合物和向其中加入權(quán)利要求19的組合物。
30.一種在柔性基底涂布中減少起霧的方法，所述方法包括制備用于涂布所述基底的涂布組合物和向其中加入權(quán)利要求20的組合物。
全文摘要
在貴金屬氫化硅烷化催化劑存在下制備在柔性支持物的涂布中適合作為防霧添加劑的星形支化的硅氧烷化合物，其為以下物質(zhì)M′
文檔編號(hào)C08L83/04GK1738879SQ200380108849
公開日2006年2月22日 申請(qǐng)日期2003年11月5日 優(yōu)先權(quán)日2002年11月15日
發(fā)明者約翰·A·基爾戈, 埃德溫·C·庫阿, 約翰·A·卡明斯 申請(qǐng)人:通用電氣公司