專利名稱：：聚合物及包含該聚合物的抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種聚合物及包含該聚合物的抗蝕劑組合物。
背景技術(shù)：
：用于采用光刻工藝的半導(dǎo)體微組裝(microfabrication)的抗蝕劑組合物含有產(chǎn)酸劑，該產(chǎn)酸劑包含可通過(guò)輻射而產(chǎn)生酸的化合物。在半導(dǎo)體微組裝中，人們期望形成具有高靈敏度和高分辨率、并且具有較好圖形輪廓比如圖形形狀的圖形，并且人們期待化學(xué)增幅抗蝕劑組合物可提供這樣的圖形。US2003/0099900Al公開(kāi)了一種具有由甲基丙烯酸(2_乙基-2-金剛烷)酯衍生的結(jié)構(gòu)單元和由對(duì)羥基苯乙烯衍生的結(jié)構(gòu)單元的聚合物，以及一種包含該聚合物的抗蝕劑組合物。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種聚合物以及含有該聚合物的抗蝕劑組合物。本發(fā)明涉及下述內(nèi)容〈1>一種聚合物，其包含由結(jié)構(gòu)式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元其中，R1代表氫原子或甲基，X代表直鏈或支鏈Cl-C6亞烷基、Z代表由結(jié)構(gòu)式(Ia)表示的基團(tuán)其中，！^在各種情況下獨(dú)立地是直鏈或支鏈C1-C6烷基，并且m代表0至15的整數(shù)；以及由結(jié)構(gòu)式(II)表示的結(jié)構(gòu)單元〇一Z4〇H其中，R3代表氫原子或甲基；R4在各種情況下獨(dú)立地是直鏈或支鏈Cl-C6烷基，并且n代表0至4的整數(shù)?！?>根據(jù)〈1>的聚合物，其中，該聚合物進(jìn)一步含有至少一種選自下組的結(jié)構(gòu)單元由苯乙烯衍生的結(jié)構(gòu)單元、除由結(jié)構(gòu)式(II)表示的結(jié)構(gòu)單元之外在其側(cè)鏈中具有一個(gè)以上羥基的結(jié)構(gòu)單元、以及具有內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元?！?〉根據(jù)〈2〉的聚合物，其中，所述除由結(jié)構(gòu)式(II)表示的結(jié)構(gòu)單元之外在其側(cè)鏈中具有一個(gè)以上羥基的結(jié)構(gòu)單元是由結(jié)構(gòu)式(III)表示的結(jié)構(gòu)單元工工I)其中，R31代表氫原子或甲基；R32和R33各自獨(dú)立地代表氫原子、甲基或羥基；R34代表甲基；n'代表0至10的整數(shù)；Z1代表單鍵或_(CH2)y-CO-0-并且y代表1至4的整數(shù)。〈4>根據(jù)〈2>或〈3>的聚合物，其中，具有內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元是由結(jié)構(gòu)式(IVa)、(IVb)或(IVc)表示的結(jié)構(gòu)單元(IVa)(IVb)(IVc)其中，R41代表氫原子或甲基；R9代表甲基；Z2代表單鍵或_(CH2)Z-C0_0-，z代表1至4的整數(shù)；R1Q在各種情況下獨(dú)立地是羧基、氰基、或Cl-C4脂肪烴基；1代表0至5的整數(shù)；l'代表0至9的整數(shù)；1〃代表0至9的整數(shù)?！?>根據(jù)〈2>或〈3>的聚合物，其中，所述具有內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元是由結(jié)構(gòu)式(IVb)表示的結(jié)構(gòu)單元5<formula>formulaseeoriginaldocumentpage6</formula>(ivb)其中，R41代表氫原子或甲基；Z2代表單鍵或-(CH2)z-C0-0-，z代表1至4的整數(shù)；R1Q在各種情況下獨(dú)立地是羧基、氰基、或Cl-C4脂肪烴基；并且1'代表0至9的整數(shù)。〈6>—種抗蝕劑組合物，其包含如〈1>至〈5>中任一項(xiàng)所述的聚合物和產(chǎn)酸劑。〈7>根據(jù)〈6>的抗蝕劑組合物，其中，所述產(chǎn)酸劑是由結(jié)構(gòu)式(V)表示的鹽其中，A+代表有機(jī)反荷離子；Y1和Y2各自獨(dú)立地代表氟原子或Cl-C6全氟化烷基；R12代表C1-C30烴基，所述烴基可以具有一個(gè)以上選自下組的取代基C1-C6烷氧基、Cl-C4全氟化烷基、Cl-C6羥烷基、羥基和氰基，并且所述烴基中的一個(gè)以上_CH2-可以被-co-或-o-取代?！?>如〈1>至〈5>中任一項(xiàng)所述的聚合物用于生產(chǎn)抗蝕劑組合物的用途，該抗蝕劑組合物用于遠(yuǎn)紫外光刻技術(shù)或者電子束平印術(shù)。〈9>根據(jù)〈6>或〈7>的抗蝕劑組合物用于遠(yuǎn)紫外光刻技術(shù)或者電子束平印術(shù)的應(yīng)用。具體實(shí)施例方式本發(fā)明的聚合物包含由結(jié)構(gòu)式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元〇、〇——Z(在下文中，簡(jiǎn)稱為結(jié)構(gòu)單元(I))以及由結(jié)構(gòu)式(II)表示的結(jié)構(gòu)單元6(在下文中，簡(jiǎn)稱為結(jié)構(gòu)單元(II))。在結(jié)構(gòu)式(I)中，RM戈表氫原子或甲基，并且X代表直鏈或支鏈C1-C6亞烷基。直鏈或支鏈C1-C6亞烷基的例子包括亞甲基、亞乙基、三亞甲基、四亞甲基、2_甲基亞丁基、五亞甲基和六亞甲基，并且優(yōu)選亞甲基和亞乙基。在結(jié)構(gòu)式(I)中，Z代表由結(jié)構(gòu)式(Ia)表示的基團(tuán)在結(jié)構(gòu)式(Ia)中，R2在各種情況下獨(dú)立地是直鏈或支鏈Cl-C6烷基，并且其例子包括甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基和己基，并且優(yōu)選Cl-C3烷基，更優(yōu)選甲基和乙基，尤其優(yōu)選甲基。在結(jié)構(gòu)式(Ia)中，m代表0至15的整數(shù)，優(yōu)選m是O或l，更優(yōu)選是O。優(yōu)選Z是由結(jié)構(gòu)式(Ib)表示的基團(tuán)其中，R6代表直鏈或支鏈Cl-C6烷基；R7在各種情況下獨(dú)立地是直鏈或支鏈C1-C6烷基；并且S代表0至14的整數(shù)。其中S是O的由結(jié)構(gòu)式(Ib)表示的基團(tuán)是優(yōu)選的。其中Re是甲基、乙基或異丙基的由結(jié)構(gòu)式(Ib)表示的基團(tuán)是優(yōu)選的。更優(yōu)選其中S是0、并且尺6是甲基、乙基或異丙基的由結(jié)構(gòu)式(Ib)表示的基團(tuán)。結(jié)構(gòu)單元(I)的例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage8</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula>其中，優(yōu)選由丙烯酸(2-烷基-2-金剛烷氧基羰基)甲酯衍生的結(jié)構(gòu)單元和由甲基丙烯酸(2_烷基_2-金剛烷氧基羰基)甲酯衍生的結(jié)構(gòu)單元；更優(yōu)選丙烯酸(2-甲基-2-金剛烷氧基羰基)甲酯、由甲基丙烯酸(2-甲基-2-金剛烷氧基羰基)甲酯衍生的結(jié)構(gòu)單元、丙烯酸(2-乙基-2-金剛烷氧基羰基)甲酯和由甲基丙烯酸(2-乙基-2-金剛烷氧基羰基)甲酯衍生的結(jié)構(gòu)單元。結(jié)構(gòu)單元(I)能夠由結(jié)構(gòu)式(1-1)表示的單體衍生而得到其中，W、X和Z的意義與如上限定的意義相同。由結(jié)構(gòu)式(1-1)表示的單體能夠通過(guò)如下方法制備在堿存在的條件下，使鹵代鏈烷酸金剛烷基酯與丙烯酸或甲基丙烯酸進(jìn)行反應(yīng)。由結(jié)構(gòu)式(1-1)表示的單體也能夠通過(guò)如下方法制備在堿存在的條件下，使羥基鏈烷酸金剛烷基酯與丙烯酰鹵或甲基丙烯酰鹵進(jìn)行反應(yīng)。在結(jié)構(gòu)式(II)中，^代表氫原子或甲基；^在各種情況下獨(dú)立地是直鏈或支鏈Cl-C6烷基。直鏈或支鏈Cl-C6烷基的例子包括如上所述的Cl-C6烷基，并且優(yōu)選是甲基。在結(jié)構(gòu)式(II)中，n代表0至4的整數(shù)，優(yōu)選n是0或l，更優(yōu)選n是0。在結(jié)構(gòu)式(II)中，羥基可以在鄰位、間位或?qū)ξ怀涉I。優(yōu)選由下述化學(xué)式表示的結(jié)構(gòu)單元HC=C、其中，R3、I^和n的意義與如上限定的意義相同。結(jié)構(gòu)單元(II)的例子包括下述其中，優(yōu)選由4-羥基苯乙烯衍生的結(jié)構(gòu)單元和由4羥基-a_苯乙烯衍生的結(jié)構(gòu)單元。結(jié)構(gòu)單元(II)能夠由結(jié)構(gòu)式(II-l)表示的單體衍生而得到R3工I一l)〇H其中，R^W和n的意義與如上限定的意義相同。本發(fā)明的聚合物可以含有兩種以上結(jié)構(gòu)單元(I)，并且可以含有兩種以上結(jié)構(gòu)單元(11)。考慮到分辨率和圖案輪廓，在本發(fā)明聚合物中結(jié)構(gòu)單元(I)對(duì)結(jié)構(gòu)單元(II)的摩爾比(結(jié)構(gòu)單元(I)/結(jié)構(gòu)單元(II))通常是10/90至90/10、優(yōu)選20/80至70/30。本發(fā)明的聚合物的重均分子量通常是1，000至500，000，優(yōu)選2，000至50，000。本發(fā)明的聚合物可以含有一種以上除結(jié)構(gòu)單元(I)和(II)之外的結(jié)構(gòu)單元。所述結(jié)構(gòu)單元的例子包括由苯乙烯衍生的結(jié)構(gòu)單元、除結(jié)構(gòu)單元(II)以外的在其側(cè)鏈中具有一個(gè)以上羥基的結(jié)構(gòu)單元、以及具有內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元。以所有結(jié)構(gòu)單元的總摩爾含量為基準(zhǔn)，所述結(jié)構(gòu)單元的含量通常是5至90mol%、優(yōu)選10至85mol%、更優(yōu)選15至80mol%。在本說(shuō)明書(shū)中，羧基中的-OH不是指羥基。本發(fā)明的聚合物優(yōu)選含有至少一種選自下組的結(jié)構(gòu)單元由苯乙烯衍生的結(jié)構(gòu)單元、除結(jié)構(gòu)單元(II)之外的在其側(cè)鏈中具有一個(gè)以上羥基的結(jié)構(gòu)單元、以及具有內(nèi)酯環(huán)的13結(jié)構(gòu)單元。當(dāng)本發(fā)明的聚合物含有由苯乙烯衍生的結(jié)構(gòu)單元時(shí)，以所有結(jié)構(gòu)單元的總摩爾含量為基準(zhǔn)，在本發(fā)明聚合物中由苯乙烯衍生的結(jié)構(gòu)單元的含量通常是5至90mol%、優(yōu)選10至85mol^、更優(yōu)選15到80mol%。在其側(cè)鏈中具有一個(gè)以上羥基的結(jié)構(gòu)單元的例子包括由丙烯酸(羥基取代)環(huán)烷酯衍生的結(jié)構(gòu)單元，比如丙烯酸羥基環(huán)戊酯和丙烯酸羥基環(huán)己酯；由甲基丙烯酸(羥基取代)環(huán)烷酯衍生的結(jié)構(gòu)單元，比如甲基丙烯酸羥基環(huán)戊酯和甲基丙烯酸羥基環(huán)己酯;由丙烯酸(羥基取代)多環(huán)烴酯衍生的結(jié)構(gòu)單元，比如丙烯酸羥基降冰片烷酯、丙烯酸羥基-l-金剛烷酯和丙烯酸羥基-2-金剛烷酯；以及由甲基丙烯酸(羥基取代)多環(huán)烴酯衍生的結(jié)構(gòu)單元，比如甲基丙烯酸羥基降冰片烷酯、甲基丙烯酸羥基-1-金剛烷酯和甲基丙烯酸羥基_2-金剛烷酯。在其側(cè)鏈中具有一個(gè)以上羥基的結(jié)構(gòu)單元當(dāng)中，優(yōu)選由結(jié)構(gòu)式(III)表示的結(jié)構(gòu)單元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula>其中，R31代表氫原子或甲基；R32和R33各自獨(dú)立地代表氫原子、甲基或羥基；R34代表甲基；n'代表0至10的整數(shù)；Z'代表單鍵或-(CH2)y-C0-0-，并且y代表1至4的整數(shù)。并且更優(yōu)選其中n'是0或1的由結(jié)構(gòu)式(III)表示的結(jié)構(gòu)單元。由結(jié)構(gòu)式(III)表示的結(jié)構(gòu)單元的例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>其中，考慮到分辨率，優(yōu)選丙烯酸(3-羥基-l-金剛烷)酉旨、甲基丙烯酸(3-基-l-金剛烷)酯、丙烯酸(3，5-二羥基-1-金剛烷)酯、甲基丙烯酸(3，5-二羥基-1-金烷)酯、丙烯酸(3，5-二羥基-1-金剛烷氧基羰基)甲酯和甲基丙烯酸(3，5-二羥基-1_剛烷氧基羰基)甲酯。由結(jié)構(gòu)式(III)表示的結(jié)構(gòu)單元能夠由下述化學(xué)式表示的單體衍生而得到其中，R31、R32、R33、R34、Z1和n'的意義與如上限定的意義相同,16H羥剛金〇R/C\c/Qc2本發(fā)明可以具有兩種以上由結(jié)構(gòu)式(III)表示的結(jié)構(gòu)單元。通過(guò)使對(duì)應(yīng)的含有羥基的金剛烷化合物與丙烯酰鹵或甲基丙烯酰鹵反應(yīng)，通常可以制備出由上述結(jié)構(gòu)式表示的單體。當(dāng)本發(fā)明的聚合物含有在其側(cè)鏈中具有一個(gè)以上羥基的結(jié)構(gòu)單元、比如由結(jié)構(gòu)式(III)表示的結(jié)構(gòu)單元時(shí)，以所有結(jié)構(gòu)單元的總摩爾含量為基準(zhǔn)，在本發(fā)明聚合物中在其側(cè)鏈中具有一個(gè)以上羥基的結(jié)構(gòu)單元的含量通常是3至40mol^、優(yōu)選5至35mol^、更優(yōu)選5至40mol%。具有內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元的例子包括具有P-丁內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元、具有Y-丁內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元、具有由環(huán)烷環(huán)和內(nèi)酯環(huán)組成的稠環(huán)(condensedring)的結(jié)構(gòu)單元、以及具有由降冰片烷環(huán)和內(nèi)酯環(huán)組成的稠環(huán)的結(jié)構(gòu)單元。在具有內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元當(dāng)中，優(yōu)選由結(jié)構(gòu)式(IVa)、(IVb)和(IVc)表示的結(jié)構(gòu)單元(IVa)(IVb)(工Vc〉其中，R"代表氫原子或甲基；R9代表甲基；Z2代表單鍵或_(CH2)Z-C0_0-，Z代表1至4的整數(shù)；R1Q在各種情況下獨(dú)立地是羧基、氰基、或Cl-C4脂肪烴基；1代表0至5的整數(shù)；l'代表0至9的整數(shù)；1〃代表0至9的整數(shù)。優(yōu)選Z2是單鍵或者_(dá)CH2-C0-0-，并且更優(yōu)選是單鍵。在結(jié)構(gòu)式(IVa)中，優(yōu)選1是0至2、更優(yōu)選是0或1。R1Q優(yōu)選是甲基、羧基或氰基，并且優(yōu)選r是o至2、更優(yōu)選是o或i。R"優(yōu)選是甲基、羧基或氰基，并且r'優(yōu)選是o至2、更優(yōu)選是0或1。在由結(jié)構(gòu)式(IVa)、(IVb)和(IVc)表示的結(jié)構(gòu)單元當(dāng)中，由結(jié)構(gòu)式(IVb)表示的結(jié)構(gòu)單元是優(yōu)選的。由結(jié)構(gòu)式(IVa)表示的結(jié)構(gòu)單元的例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage19</formula>由結(jié)構(gòu)式(IVb)表示的結(jié)構(gòu)單元的例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage20</formula>由結(jié)構(gòu)式(IVc)表示的結(jié)構(gòu)單元的例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage22</formula>其中，優(yōu)選丙烯酸(六氫2-氧代-3，5_甲撐-2H-環(huán)戊[b]呋喃-6-基)酉旨、甲基丙烯酸(六氫2-氧代-3，5-甲撐-2H-環(huán)戊[b]呋喃-6-基)酯、丙烯酸(四氫2-氧代_3-呋喃)S旨、甲基丙烯酸(四氫2-氧代-3-呋喃)S旨、丙烯酸(2-(5-氧代-4-氧雜三環(huán)[4.2.1.03'7]壬烷-2-基-氧基)-2-氧代乙)酯和甲基丙烯酸(2-(5-氧代-4-氧雜三環(huán)[4.2.1.03'7]壬烷-2-基-氧基)-2-氧代乙)酉旨。通過(guò)使對(duì)應(yīng)的含有羥基的內(nèi)酯化合物與丙烯酰鹵或甲基丙烯酰鹵反應(yīng)，可以制備出用于提供由結(jié)構(gòu)式(IVa)、(IVb)和(IV。)表示的結(jié)構(gòu)單元的單體。當(dāng)本發(fā)明的聚合物含有具有內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元時(shí)，以所有結(jié)構(gòu)單元的總摩爾含量為基準(zhǔn)，在本發(fā)明聚合物中具有內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元的含量通常是5至50mol^、優(yōu)選10至45mol%、更優(yōu)選15到40mol%。本發(fā)明的聚合物可以含有一種以上除結(jié)構(gòu)單元(I)和(II)之外的具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元。在本說(shuō)明書(shū)中，"酸不穩(wěn)定性基團(tuán)"是指這樣一種基團(tuán)其通過(guò)與酸相接觸而被裂解，從而被轉(zhuǎn)化為親水基團(tuán)比如羥基和羧基。酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的例子包括由結(jié)構(gòu)式(1)表示的基團(tuán)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage22</formula>其中，R'、R〃和R〃'各自獨(dú)立地代表直鏈或支鏈C1-C30脂肪烴基，并且和R'和R〃可以成鍵從而形成環(huán)(在下文中，簡(jiǎn)稱為酸不穩(wěn)定性基團(tuán)(l))。酸不穩(wěn)定性基團(tuán)(1)的例子包括1，1-二烷基烷氧羰基，比如叔丁氧羰基；2-烷基-2-金剛烷氧基羰基，比如2-甲基-2-金剛烷氧基羰基、2_乙基-2-金剛烷氧基羰基和2-異丙基-2-金剛烷氧基羰基；1-烷基環(huán)烷氧羰基，比如1-乙基環(huán)己氧羰基；以及1-(1-金剛烷基)-1-烷基烷氧羰基。具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元由具有碳-碳雙鍵和酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的單體衍生得到，并且優(yōu)選的單體例子包括具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的丙烯酸酯和具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的甲基丙烯酸酯。具有含有C5-C20脂環(huán)烴基的酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的單體是優(yōu)選的，因?yàn)楫?dāng)在本發(fā)明組合物中使用得到的樹(shù)脂時(shí)可以得到出色的分辯率。C5-C20脂環(huán)烴基的例子包括具有環(huán)烷環(huán)比如環(huán)戊烷環(huán)、環(huán)己烷環(huán)、環(huán)庚烷環(huán)和環(huán)辛烷環(huán)的單環(huán)飽和的脂肪烴基；以及具有橋烴環(huán)比如金剛烷環(huán)和降冰片烷環(huán)的多環(huán)脂肪烴基。具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元的例子包括由結(jié)構(gòu)式(a-l)和(a-2)表示的結(jié)構(gòu)單元其中，R51代表氫原子或甲基；R52代表直鏈或支鏈Cl-C8脂肪烴基或C3-C10飽和環(huán)烴基；u代表0至14的整數(shù)；并且v代表0至10的整數(shù)。在結(jié)構(gòu)式(a-l)和(a-2)中，R51優(yōu)選是甲基，R52優(yōu)選是直鏈或支鏈Cl-C6脂肪烴基或C3-C8飽和環(huán)烴基、更優(yōu)選直鏈或支鏈Cl-C6脂肪烴基或C3-C6飽和環(huán)烴基。直鏈或支鏈脂肪烴基的例子包括甲基、乙基、異丙基、叔丁基、2，2-二甲基乙基、丙基、1-甲基丙基、2，2-二甲基丙基、1-乙基丙基、丁基、1_甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、l-丙基丁基、戊基、1_甲基戊基、己基、1，4-二甲基己基、庚基、1-甲基庚基和辛基。飽和環(huán)烴基的例子包括環(huán)庚基、甲基環(huán)庚基、環(huán)己基、甲基環(huán)己基、二甲基環(huán)己基、降冰片烷基和甲基降冰片焼基。在結(jié)構(gòu)式(a-l)和(a-2)中，u優(yōu)選是0至3的整數(shù)、更優(yōu)選0或l，并且v優(yōu)選是0至3的整數(shù)、更優(yōu)選0或1。當(dāng)本發(fā)明的聚合物含有具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元時(shí)，以所有結(jié)構(gòu)單元其總摩爾含量為基準(zhǔn)，在本發(fā)明聚合物中具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元的含量通常是10至95mol^、優(yōu)選15至90mol^、更優(yōu)選20至85mol%。a-l)a-2)用于提供由結(jié)構(gòu)式(a-1)表示的結(jié)構(gòu)單元的單體的例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula>其中，優(yōu)選丙烯酸(2-甲基-2-金剛烷)酯、甲基丙烯酸(2-甲基-2-金剛烷)酯、丙烯酸(2-乙基-2-金剛烷)酉旨、甲基丙烯酸(2-乙基-2-金剛烷)酉旨、丙烯酸(2-異丙基_2-金剛烷)酯和甲基丙烯酸(2-異丙基-2-金剛烷)酯；更優(yōu)選甲基丙烯酸(2-甲基_2-金剛烷)酯、甲基丙烯酸(2-乙基-2-金剛烷)酯和甲基丙烯酸(2-異丙基-2-金剛烷)酯。用于提供由結(jié)構(gòu)式(a-2)表示的結(jié)構(gòu)單元的單體的例子包括下述其中，優(yōu)選丙烯酸(l-乙基-l-環(huán)己)酯和甲基丙烯酸(l-乙基-環(huán)己)酯，并且更優(yōu)選甲基丙烯酸(1-乙基-1-環(huán)己)酉旨。當(dāng)本發(fā)明其聚合物含有由結(jié)構(gòu)式(a-l)或(a-2)表示的結(jié)構(gòu)單元時(shí)，以所有結(jié)構(gòu)單元其總摩爾含量為基準(zhǔn)，在本發(fā)明聚合物中由結(jié)構(gòu)式(a-l)或(a-2)表示的結(jié)構(gòu)單元的含量通常是10至95mol^、優(yōu)選15至90mol^、更優(yōu)選20至85molX。通過(guò)使對(duì)應(yīng)的單體進(jìn)行聚合反應(yīng)，能夠制備出本發(fā)明的聚合物。通過(guò)使對(duì)應(yīng)的單體進(jìn)行低聚反應(yīng)、接著使得到的低聚體發(fā)生聚合，也可以制備本發(fā)明的聚合物。通常在自由基引發(fā)劑存在的條件下進(jìn)行聚合反應(yīng)。26自由基引發(fā)劑不受限制，其例子包括偶氮化合物，比如2，2'_偶氮二異丁腈、2，2'-偶氮二(2-甲基丁腈)、l，l'-偶氮二(環(huán)己烷-l-腈)、2，2'-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)、2，2'-偶氮二(2，4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2，2'-偶氮二(2-丙酸甲酯)和2，2'-偶氮二(2-羥甲基丙腈)；有機(jī)氫過(guò)氧化物，比如過(guò)氧化月桂酰、叔丁基氫過(guò)氧化物、過(guò)氧化苯甲酰、叔丁基過(guò)氧化苯甲酸酯、異丙基苯氫過(guò)氧化物、二異丙基過(guò)氧化二碳酸酯、二正丙基過(guò)氧化二碳酸酯、叔丁基過(guò)氧新癸酸酯、叔丁基過(guò)氧新戊酸酯和3，5，5-三甲基己酰過(guò)氧化物；以及無(wú)機(jī)過(guò)氧化物，比如過(guò)氧化二硫酸鉀、過(guò)氧化二硫酸銨和過(guò)氧化氫。其中，偶氮化合物是優(yōu)選的。這些自由基引發(fā)劑可以單獨(dú)使用，或者呈兩種以上的混合物的形式使用。當(dāng)使用兩種以上的混合物時(shí)，混合比率沒(méi)有特別限定?；谒袉误w或低聚體的摩爾含量，自由基引發(fā)劑的含量?jī)?yōu)選是1至20mol%。聚合溫度通常是0至15(TC，并且優(yōu)選40至IO(TC。聚合反應(yīng)通常在溶劑中進(jìn)行，并且優(yōu)選使用足以溶解單體、自由基引發(fā)劑和得到的聚合物的溶劑。其例子包括烴類，比如甲苯；醚類，比如1，4-二氧雜環(huán)己烷和四氫呋喃；酮類，比如甲基異丁基酮；醇類，比如異丙醇；環(huán)狀酯類，比如Y-丁內(nèi)酯；乙二醇醚酯，比如丙二醇單甲醚醋酸酯；以及非環(huán)酯類，比如乳酸乙酯。這些溶劑可以單獨(dú)使用，并且可以使用其混合物。溶劑的量不受限制，并且事實(shí)上，每1重量份所有單體或低聚體，優(yōu)選溶劑是1至5重量份。在聚合反應(yīng)完成之后，例如，通過(guò)將本發(fā)明的聚合物不溶于或微溶于其中的溶劑加入至得到的反應(yīng)混合物、并且過(guò)濾沉淀出的樹(shù)脂，能夠分離出所產(chǎn)生的聚合物。如有必要，例如，通過(guò)用合適的溶劑洗滌，可以對(duì)分離的聚合物進(jìn)行純化?？蛇x地，通過(guò)使用聚乙烯基苯酚，也能夠生產(chǎn)本發(fā)明的聚合物。聚乙烯基苯酚的例子包括可在市場(chǎng)上買到的聚乙烯基苯酚、根據(jù)JP2000-178325A等描述的方法生產(chǎn)的聚乙烯基苯酚。本發(fā)明的聚合物不溶于或微溶于堿性水溶液，但是在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液。本發(fā)明的抗蝕劑組合物包含本發(fā)明的聚合物和產(chǎn)酸劑。本發(fā)明的抗蝕劑組合物可以含有兩種以上本發(fā)明的聚合物。產(chǎn)酸劑是這樣一種物質(zhì)通過(guò)在該物質(zhì)本身或包含該物質(zhì)的抗蝕劑組合物上應(yīng)用輻射比如光、電子束等，其會(huì)被分解從而產(chǎn)生酸。由產(chǎn)酸劑產(chǎn)生的酸作用于本發(fā)明的聚合物，導(dǎo)致本發(fā)明的聚合物溶解在堿性水溶液中。產(chǎn)酸劑的例子包括鎗鹽化合物、有機(jī)鹵素化合物、砜類化合物和磺酸酯化合物等。優(yōu)選鎗鹽化合物。產(chǎn)酸劑的其他例子包括JP2003-5374Al中所述的產(chǎn)酸劑，比如由下述化學(xué)式表示的產(chǎn)酸劑<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula>由下述化學(xué)式表示的化合物也可用作產(chǎn)酸劑A+B—其中，A+代表有機(jī)反荷陽(yáng)離子，而B(niǎo)—代表反荷陰離子。所述反荷陰離子的例子包括BF4—、AsF6—、PF6—、SbF6—、SiF62—、C104—、全氟代烷磺酸陰離子比如CF3S03—、五氟苯磺酸陰離子、縮聚多環(huán)芳族磺酸陰離子比如萘-1-磺酸陰離子、蒽醌磺酸陰離子、以及含有磺酸基的染料。另外，JP2003-5374Al中所述的陰離子比如由下述化學(xué)式表示的陰離子<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula>也可作為反荷陰離子被列舉。優(yōu)選的產(chǎn)酸劑的例子包括由結(jié)構(gòu)式(V)表示的鹽<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula>其中，A+代表有機(jī)反荷離子；f和f各自獨(dú)立地代表氟原子或Cl-C6全氟化烷基；R12代表C1-C30烴基，該烴基可以具有一個(gè)以上選自下組的取代基C1-C6烷氧基、C1-C4全氟化烷基、Cl-C6羥烷基、羥基和氰基，并且該烴基中的一個(gè)以上-CH廠可以被-C0-或-0-取代(在下文中，簡(jiǎn)稱為鹽(V))。由Y1和Y2代表的Cl-C6全氟化烷基的例子包括三氟甲基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基、十一氟戊基和十三氟己基，并且優(yōu)選三氟甲基。優(yōu)選Y1和Y2各自獨(dú)立地是氟原子或三氟甲基，并且更優(yōu)選Y1和Y2是氟原子。Cl-C30烴基的例子包括直鏈或支鏈C1-C30烴基，比如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基和己基；C3-C30單環(huán)或多環(huán)烴基，比如具有環(huán)丁烷環(huán)的烴基、具有環(huán)戊烷環(huán)的烴基、具有環(huán)己烷環(huán)的烴基、具有環(huán)辛烷環(huán)的烴基、具有金剛烷環(huán)的烴基、具有苯環(huán)的烴基和具有降冰片烷環(huán)的烴基。該C3-C30單環(huán)或多環(huán)烴基可以具有脂環(huán)結(jié)構(gòu)，并且可以具有芳基。該C3-C30單環(huán)或多環(huán)烴基可以具有碳-碳雙鍵。該C1-C30烴基可以具有一個(gè)以上選自下組的取代基C1-C6烷氧基、C1-C4全氟化烷基、Cl-C6羥烷基、羥基和氰基。Cl-C6烷氧基的例子包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基和己氧基。C1-C4全氟化烷基的例子包括三氟甲基、五氟乙基、七氟丙基和九氟丁基。Cl-C6羥基、3-羥丙基、4-羥丁基和6-羥己基。鹽(V)的陰離子部分的具體例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage30</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage31</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage33</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage34</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage35</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage36</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage36</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage37</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage38</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage39</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage40</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage41</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage42</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage43</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage44</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage45</formula>在鹽(V)中，優(yōu)選由結(jié)構(gòu)式(VI)表示的鹽<formula>formulaseeoriginaldocumentpage46</formula>其中，Y1、f和A+的意義與如上限定的意義相同；Z'代表單鍵或Cl-C4亞烷基;X'代表具有羥基或羰基的C3-C30單環(huán)或多環(huán)烴基，并且在單環(huán)或多環(huán)烴基中一個(gè)以上氫原子可以被Cl-C6烷氧基、Cl-C4全氟化烷基、Cl-C6羥烷基、羥基或氰基取代(在下文中，簡(jiǎn)稱為鹽(VI))。在X'中Cl-C6烷氧基、C1-C4全氟化烷基和Cl-C6羥烷基的例子分別包括如上所述的相同基團(tuán)。在Z'中C1-C4亞烷基的例子包括亞甲基、亞乙基、三亞甲基和四亞甲基。Z'優(yōu)選是單鍵、亞甲基或亞乙基，并且更優(yōu)選是單鍵或亞甲基。X'的例子包括C4-C8環(huán)烷基，比如環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基和環(huán)辛基、金剛烷基、以及降冰片烷基，在所有的環(huán)烷基中，一個(gè)以上氫原子可以被下述基團(tuán)取代C1-C6烷氧基、Cl-C4全氟化烷基、Cl-C6羥烷基、羥基或氰基。X'的具體例子包括2-氧代環(huán)戊基、2-氧代環(huán)己基、3-氧代環(huán)戊基、3-氧代環(huán)己基、4_氧代環(huán)己基、2-羥基環(huán)戊基、2-羥基環(huán)己基、3-羥基環(huán)戊基、3-羥基環(huán)己基、4-羥基環(huán)己基、4-氧代-2-金剛烷基、3-羥基-1-金剛烷基、4-羥基-1-金剛烷基、5-氧代降冰片烷-2-基、l，7，7-三甲基-2-氧代降冰片烷-2-基、3，6，6-三甲基-2-氧代-二環(huán)[3.1.1]庚烷_(kāi)3-基、2-羥基-降冰片烷-3-基、1，7，7-三甲基-2-羥基降冰片烷-3-基、3，6，6-三甲基-2-羥基雙環(huán)[3.1.1]庚烷-3-基、以及下述基團(tuán)(在下述結(jié)構(gòu)式中，具有開(kāi)放端的直線顯示了從相鄰的基團(tuán)伸出的鍵)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage47</formula>鹽(VI)的陰離子部分的具體例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage48</formula>產(chǎn)酸劑的其他例子包括由結(jié)構(gòu)式(VIII)表示的鹽A—03S_R13(VIII)其中，R13代表直鏈或支鏈Cl-C6全氟化烷基；并且A+的意義與如上限定的意義相同(在下文中，簡(jiǎn)稱為鹽(VIII))。在鹽(VIII)中，直鏈或支鏈C1-C6全氟化烷基的例子包括三氟甲基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基、和十三氟己基。鹽(VIII)的陰離子部分的具體例子包括下述CF3_S03—CF3CF2CF2_S(VCF3CF2CF2CF2_S(VCF3CF2CF2CF2CF2CF2-S03—在鹽(V)、鹽(VI)和鹽(VIII)中，A+代表有機(jī)反荷離子。有機(jī)反荷離子的例子包括由結(jié)構(gòu)式(IXz)表示的陽(yáng)離子<formula>formulaseeoriginaldocumentpage49</formula>其中，Pa、pb和pe各自獨(dú)立地代表Cl-C30直鏈或支鏈烷基，其可以具有選自下組的至少一個(gè)取代基羥基、C3-C12環(huán)烴基和C1-C12烷氧基；或者代表C3-C30環(huán)烴基，其可以具有選自下組的至少一個(gè)取代基羥基和C1-C12烷氧基(在下文中，簡(jiǎn)稱為陽(yáng)離子(IXz));由結(jié)構(gòu)式(IXb)表示的陽(yáng)離子<formula>formulaseeoriginaldocumentpage49</formula>其中，P4和P5各自獨(dú)立地代表氫原子、羥基、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基(在下文中，簡(jiǎn)稱為陽(yáng)離子(IXb));由結(jié)構(gòu)式(IXc)表示的陽(yáng)離子<formula>formulaseeoriginaldocumentpage49</formula>其中，P6和P7各自獨(dú)立地代表C1-C12烷基或C3-C12環(huán)烷基；或者P6和P7成鍵從而形成C3-C12二價(jià)的非環(huán)狀烴基，其與相鄰的S+—起形成環(huán)，并且在該二價(jià)非環(huán)狀烴基中的一個(gè)以上_CH2-可以被-CO-、-0-或者-S-取代；P8代表氫原子；P9代表可以具有一個(gè)以上取代基的C1-C12烷基、C3-C12環(huán)烷基或者芳基；或者P8和P9成鍵從而形成二價(jià)的非環(huán)狀烴基，其與相鄰的-CHCO-—起形成2-氧代環(huán)烷基，并且在該二價(jià)非環(huán)狀烴基中的一個(gè)以上-CH廠可以被-CO-、-0-或-S-取代(在下文中，簡(jiǎn)稱為陽(yáng)離子(IXc));以及由結(jié)構(gòu)式(IXd)表示的陽(yáng)離子(工Xd)l/(t+l)49其中，P10、P11、P12、P13、P14、P15、P16、P17、P18、P19、P20和P21各自獨(dú)立地代表氫原子、羥基、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基；B代表硫原子或氧原子；并且t代表0或l(在下文中，簡(jiǎn)稱為陽(yáng)離子(IXd))。在陽(yáng)離子(IXz)、(IXb)和(IXd)中的C1-C12烷氧基的例子包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、己氧基、辛氧基和2-乙基己氧基。在陽(yáng)離子(IXz)中的C3-C12環(huán)烴基的例子包括環(huán)戊基、環(huán)己基、l-金剛烷基、2_金剛烷基、苯基、2_甲基苯基、4_甲基苯基、1-萘基和2-萘基。在陽(yáng)離子(IXz)中可以具有選自下組中至少一個(gè)取代基的C1-C30烷基的例子羥基、C3-C12環(huán)烴基和C1-C12烷氧基，包括甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、辛基、2_乙基己基和苯甲基。在陽(yáng)離子(IXz)中可以具有選自下組中至少一個(gè)取代基的C3-C30環(huán)烴基的例子羥基和C1-C12烷氧基，包括環(huán)戊基、環(huán)己基、1_金剛烷基、2_金剛烷基、雙環(huán)己烷、苯基、2-甲基苯基、4-甲基苯基、4-乙基苯基、4-異丙基苯基、4-叔丁基苯基、2，4-二甲基苯基、2，4，6-三甲基苯基、4-己基苯基、4-辛基苯基、1-萘基、2-萘基、荷基、4-苯基苯基、4_羥苯基、4-甲氧基苯基、4-叔丁氧基苯基和4-己氧基苯基。在陽(yáng)離子(IXb)、(IXc)和(IXd)中的C1-C12烷基的例子包括甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、辛基和2-乙基己基。在陽(yáng)離子(IXc)中的C3-C12環(huán)烷基的例子包括環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、環(huán)辛基和環(huán)癸基。通過(guò)P6和P7成鍵而形成的C3-C12二價(jià)非環(huán)狀烴基的例子包括三亞甲基、四亞甲基和五亞甲基。通過(guò)用相鄰的S+和二價(jià)非環(huán)狀烴基一起形成的環(huán)基的例子包括四亞甲基锍基、五亞甲基锍基和氧基二亞乙基锍基。在陽(yáng)離子(IXc)中的芳基的例子包括苯基、甲苯基、二甲苯基、4-丁基苯基、4-異丁基苯基、4_叔丁基苯基、4_環(huán)己基苯基、4_苯基苯基、1-萘基和2-萘基。芳基可以具有一個(gè)以上取代基，并且取代基的例子包括C1-C6烷氧基，比如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、叔丁氧基和己氧基；C2-C12酰氧基，比如乙酰氧基和1-金剛烷基羰氧基；以及硝基。通過(guò)P8和P9成鍵而形成的二價(jià)非環(huán)狀烴基的例子包括亞甲基、亞乙基、三亞甲基、四亞甲基和五亞甲基；而通過(guò)用相鄰的-CHC0-和二價(jià)非環(huán)狀烴基一起形成的2-氧代環(huán)烷基的例子包括2_氧代環(huán)戊基和2_氧代環(huán)己基。陽(yáng)離子(IXz)的例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage51</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>陽(yáng)離子(IXb)的具體例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage53</formula>陽(yáng)離子(IXc)的具體例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage54</formula>陽(yáng)離子(IXd)的具體例子包括下述<formula>formulaseeoriginaldocumentpage56</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage57</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage58</formula>(IXa)其中，P\P2和P3各自獨(dú)立地代表氫原子、羥基、C1-C12直鏈或支鏈烷基或C1-C12直鏈或支鏈烷氧基。C1-C12直鏈或支鏈烷基和C1-C12直鏈或支鏈烷氧基的例子包括如上所述的例子。而由A+表示的有機(jī)反荷離子，還優(yōu)選由結(jié)構(gòu)式(IXe)表示的陽(yáng)離子其中，P22、P23和P24各自獨(dú)立地代表氫原子或Cl-C4烷基。而鹽(VI)，優(yōu)選其中A+是由下述結(jié)構(gòu)式(IXe)表示的陽(yáng)離子、并且陰離子部分是下述的鹽以及其中A+是由下述結(jié)構(gòu)式(IXe)表示的陽(yáng)離子、并且陰離子部分是下述的鹽按照已知的方法，比如JP2007-249192Al中描述的方法，能夠制備出鹽(VI)。另外，還優(yōu)選由結(jié)構(gòu)式(Xd)和(Xe)表示的產(chǎn)酸劑N_〇jCH2CH2CH2CH3(xd)0(Xe),CH-CH3本發(fā)明的抗蝕劑組合物可以含有兩種以上產(chǎn)酸劑。以本發(fā)明的聚合物和產(chǎn)酸劑的總含量為基準(zhǔn)，本發(fā)明的抗蝕劑組合物優(yōu)選包含50至99.9wt^的本發(fā)明的聚合物和0.1至50wt^的產(chǎn)酸劑、優(yōu)選60至99wt^的本發(fā)明的聚合物和1至40wt^的產(chǎn)酸劑、更優(yōu)選60至97wt^的本發(fā)明的聚合物和3至40wt^的產(chǎn)酸劑。本發(fā)明的抗蝕劑組合物可以含有一種以上除本發(fā)明的聚合物之外的樹(shù)脂。優(yōu)選這樣的樹(shù)脂其包含具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元，并且不溶于或微溶于堿性水溶液，但是在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液(在下文中，簡(jiǎn)稱為"RESIN")。RESIN的酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的例子包括如上所述酸不穩(wěn)定性基團(tuán)。RESIN含有一種以上結(jié)構(gòu)單元，并且該結(jié)構(gòu)單元的例子包括結(jié)構(gòu)單元(H)、由結(jié)構(gòu)式(III)、(IVa)、(IVb)、(IVc)、(a-l)和(a_2)表示的結(jié)構(gòu)單元。當(dāng)RESIN含有結(jié)構(gòu)單元(II)時(shí)，以所有結(jié)構(gòu)單元的總摩爾含量為基準(zhǔn)，在RESIN中結(jié)構(gòu)單元(II)的含量通常是1至99mol^、優(yōu)選10至95mol^、更優(yōu)選20至85mol%。當(dāng)RESIN含有由結(jié)構(gòu)式(III)表示的結(jié)構(gòu)單元時(shí)，以所有結(jié)構(gòu)單元的總摩爾含量為基準(zhǔn)，在RESIN中由結(jié)構(gòu)式(III)表示的結(jié)構(gòu)單元的含量通常是3至40mol^、優(yōu)選5至35mol^、更優(yōu)選5至30molX。當(dāng)RESIN含有由結(jié)構(gòu)式(IVa)、(IVb)或(IVc)表示的結(jié)構(gòu)單元時(shí)，以所有結(jié)構(gòu)單元的總摩爾含量為基準(zhǔn)，在RESIN中由結(jié)構(gòu)式(IVa)、(IVb)或(IVc)表示的結(jié)構(gòu)單元的含量通常是5至50mol%、優(yōu)選10至45mol%、更優(yōu)選15至40mol%。在上述用于提供具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元的單體當(dāng)中，優(yōu)選丙烯酸(1-乙基-l-環(huán)己)酯和甲基丙烯酸(l-乙基-環(huán)己)酯，并且更優(yōu)選甲基丙烯酸(l-乙基-l-環(huán)己)酉旨。當(dāng)RESIN含有由結(jié)構(gòu)式(a_l)或(a_2)表示的結(jié)構(gòu)單元時(shí)，以所有結(jié)構(gòu)單元的總摩爾含量為基準(zhǔn)，在RESIN中由結(jié)構(gòu)式(a-1)或(a-2)表示的結(jié)構(gòu)單元的含量通常是10至95mol^、優(yōu)選15至90mol^、更優(yōu)選20至85mol%。優(yōu)選RESIN含有結(jié)構(gòu)單元(II)和由結(jié)構(gòu)式(a_l)表示的結(jié)構(gòu)單元。當(dāng)RESIN含有結(jié)構(gòu)單元(II)和由結(jié)構(gòu)式(a-1)表示的結(jié)構(gòu)單元時(shí)，在RESIN中結(jié)構(gòu)單元(II)對(duì)由結(jié)構(gòu)式(a-1)表示的結(jié)構(gòu)單元的摩爾比(結(jié)構(gòu)單元(II)/由結(jié)構(gòu)式(a-1)表示的結(jié)構(gòu)單元)通常是95/5至5/95，優(yōu)選90/10至20/80，更優(yōu)選85/15至50/50。當(dāng)本發(fā)明的抗蝕劑組合物含有RESIN時(shí)，以本發(fā)明的聚合物和RESIN的總含量為基準(zhǔn)，RESIN的含量通常是1至95wt^、優(yōu)選2至80wt^、更優(yōu)選5至50wt%。在本發(fā)明的抗蝕劑組合物中，通過(guò)加入有機(jī)堿化合物、特別是含氮有機(jī)堿化合物作為猝滅劑，能夠減小因酸的失活而引起的性能惡化，所述酸的失活由于曝光后遲滯而發(fā)生。本發(fā)明的抗蝕劑組合物可以含有兩種以上有機(jī)堿化合物。含氮有機(jī)堿化合物的具體例子包括由下述結(jié)構(gòu)式表示的胺類化合物其中，T1和T2獨(dú)立地代表氫原子、烷基、環(huán)烷基或芳基，并且在所述烷基、環(huán)烷基和芳基中的一個(gè)以上氫原子可以用選自于下組的基團(tuán)取代羥基、具有一個(gè)或兩個(gè)C1-C4烷基的氨基、或C1-C6烷氧基；f和f獨(dú)立地代表氫原子、烷基、環(huán)烷基、芳基或烷氧基，并且烷基、環(huán)烷基、芳基和烷氧基中的一個(gè)以上氫原子可以用選自于下組的基團(tuán)取代羥基、可以具有一個(gè)以上Cl-C4烷基的氨基、或Cl-C6烷氧基；或者T3和T4用碳原子彼此鍵合在一起從而形成芳香環(huán)；T5代表氫原子、烷基、環(huán)烷基、芳基、烷氧基或硝基，并且烷基、環(huán)烷基、芳基和烷氧基中的一個(gè)以上氫原子可以用選自于下組的基團(tuán)取代羥基、可以具有一個(gè)或兩個(gè)C1-C4烷基的氨基、或C1-C6烷氧基；Ts代表烷基或環(huán)烷基，并且烷基和環(huán)烷基中的一個(gè)以上氫原子可以用選自下組的基團(tuán)取代羥基、可以具有一個(gè)或兩個(gè)Cl-C4烷基的氨基、或Cl-C6烷氧基，并且W代表-CO-、-NH-、_S_、-S-S-、其上一個(gè)以上_CH2_可以被_0_取代的亞烷基、或者其上一個(gè)以上_CH2-可以被-0-取代的亞烯基、以及由下述結(jié)構(gòu)式表示的季銨堿其中，T7、T8、T9和T1Q獨(dú)立地代表烷基、環(huán)烷基或芳基，并且所述烷基、環(huán)烷基和芳基中的一個(gè)以上氫原子可以用選自下組的基團(tuán)取代羥基、可以具有一個(gè)或兩個(gè)C1-C4烷基的氨基、或C1-C6烷氧基。KUj^nnjlPT10中的烷基優(yōu)選具有約1至IO個(gè)碳原子，并且更優(yōu)選具有約1至6個(gè)碳原子?？梢跃哂幸粋€(gè)或兩個(gè)Cl-C4烷基的氨基的例子包括氨基、甲基氨基、乙基氨基、正丁氨基、二甲基氨基和二乙基氨基。其中一個(gè)以上氫原子可以用C1-C6烷氧基取代的Cl-C6烷氧基的例子包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、己氧基和2-甲氧乙氧基。其中一個(gè)以上氫原子可以用下述基團(tuán)取代的烷基的具體例子羥基、可以具有一個(gè)或兩個(gè)Cl-C4烷基的氨基、或其中一個(gè)以上氫原子可以用Cl-C6烷氧基取代的Cl-C6烷氧基，包括甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、叔丁基、戊基、己基、辛基、壬基、癸基、2-(2-甲氧乙氧基)乙基、2-羥乙基、2-羥丙基、2-氨乙基、4-氨丁基和6-氨己基。在T1、T2、T3、T4、T5、T6、T7、T8、T9和T10中的環(huán)烷基優(yōu)選具有約5至10個(gè)碳原子。其中一個(gè)以上氫原子可以用下述基團(tuán)取代的環(huán)烷基的具體例子羥基、可以具有一個(gè)或兩個(gè)Cl-C4烷基的氨基、或Cl-C6烷氧基，包括環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、和環(huán)辛基。在T1、T2、T3、T4、T5、T6、T7、T8、T9和T10中的芳基優(yōu)選具有約6至10個(gè)碳原子。其中一個(gè)以上氫原子可以用下述基團(tuán)取代的芳基的具體例子羥基、可以具有一個(gè)或兩個(gè)Cl-C4烷基的氨基、或Cl-C6烷氧基，包括苯基和萘基。在T3、T4和T5中的烷氧基優(yōu)選具有約1至6個(gè)碳原子，并且其具體例子包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、叔丁氧基、戊氧基和己氧基。在W中的亞烷基和亞烯基優(yōu)選具有2至6個(gè)碳原子。亞烷基的具體例子包括亞乙基、-三亞甲基、四亞甲基、亞甲基二氧基和亞乙基-1，2-二氧基，并且亞烯基的具體例子包括乙烯-1，2-二取代基、1-丙烯-1，3-二取代基和2-丁烯-1，4-二取代基。胺類化合物的具體例子包括己胺、庚胺、辛胺、壬胺、癸胺、苯胺、2-甲基苯胺、3-甲基苯胺、4_甲基苯胺、4_硝基苯胺、1-萘胺、2_萘胺、乙二胺、丁二胺、己二胺、4，4'-二氨基-l，2-二苯乙烷、4，4'-二氨基_3，3'-二甲基二苯甲烷、4，4'-二氨基_3，3'-二乙基二苯甲烷、二丁胺、二戊胺、二己胺、二庚胺、二辛胺、二壬胺、二癸胺、N-甲基苯胺、哌啶、二苯胺、三乙胺、三甲胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、三己胺、三庚胺、三辛胺、三壬胺、三癸胺、甲基二丁胺、甲基二戊胺、甲基二己胺、甲基二環(huán)己胺、甲基二庚胺、甲基二辛基胺、甲基二壬胺、甲基二癸胺、乙基二丁胺、乙基二戊胺、乙基二己胺、乙基二庚胺、乙基二辛胺、乙基二壬胺、乙基二癸胺、二環(huán)己基甲胺、三[2-(2-甲氧乙氧基)乙基]胺、三異丙醇胺、N，N-二甲基苯胺、2，6-二異丙基苯胺、咪唑、苯并咪唑、吡啶、4-甲基吡啶、4-甲基咪唑、二吡啶、2，2'-二吡啶胺、二-2-吡啶酮、l，2-二(2-吡啶基)乙烷、l，2-二(4-吡啶基)乙烷、l，3-二(4-吡啶基)丙烷、l，2-二(2-吡啶基)乙烯、l，2-二(4-吡啶基)乙烯、l，2-二(4-吡啶氧基)乙烷、4，4'-二吡啶基硫化物、4，4'-二吡啶基二硫化物、l，2-二(4-吡啶基)乙烯、2，2'-二吡啶甲基胺、以及3，3'-二吡啶甲基胺。季銨堿的例子包括氫氧化四甲銨、氫氧化四異丙銨、氫氧化四丁銨、氫氧化四己銨、氫氧化四辛銨、氫氧化苯基三甲銨、氫氧化(3-三氟甲基苯基)三甲基銨、以及氫氧化(2-羥乙基)三甲基銨(所謂的"膽堿")。62在JP11-52575Al中公開(kāi)的具有哌啶架構(gòu)的位阻胺類化合物也能夠用作猝滅劑?？紤]到形成具有更高分辨率的圖形，優(yōu)選季銨堿用作猝滅劑。當(dāng)堿性化合物被用作猝滅劑時(shí)，以樹(shù)脂成分和產(chǎn)酸劑的總含量為基準(zhǔn)，本發(fā)明的抗蝕劑組合物優(yōu)選包括0.01至lwt^的堿性化合物。必要時(shí)，本發(fā)明的抗蝕劑組合物可以包含少量不同的添加劑，比如敏化劑、溶解抑制劑、其他聚合物、表面活性劑、穩(wěn)定劑和染料，只要本發(fā)明的效果不被抑制。本發(fā)明的抗蝕劑組合物通常呈抗蝕劑液體組合物形式，其中，上述成分被溶于溶劑。并且該抗蝕劑液體組合物可通過(guò)普通的方法比如旋涂法被涂敷到基材比如硅晶片上。使用的溶劑足以溶解上述成分，具有足夠的干燥速率，并且能在蒸去溶劑后提供均勻而光滑的涂層。能夠使用通常在本
技術(shù)領(lǐng)域：
中使用的溶劑。溶劑的例子包括乙二醇醚酯，比如乙基溶纖劑醋酸酯、甲基溶纖劑醋酸酯和丙二醇單甲醚醋酸酯；乙二醇醚，比如丙二醇單甲醚；非環(huán)酯，比如乳酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸戊酯和丙酮酸乙酯；酮，比如丙酮、甲基異丁基酮、2_庚酮和環(huán)己酮；以及環(huán)狀酯，比如Y_丁內(nèi)酯。這些溶劑可以單獨(dú)使用，并且可以其中兩種或多種混合使用。對(duì)涂敷到基材上、然后干燥的抗蝕膜進(jìn)行曝光，用于形成圖案，然后加熱處理以促進(jìn)剝離反應(yīng)(deblockingreaction)，并且此后用堿性顯影劑顯影。使用的堿性顯影劑可以是多種在本
技術(shù)領(lǐng)域：
中使用的堿性水溶液之一。一般來(lái)講，氫氧化四甲銨或氫氧化(2_羥乙基)三甲銨(通常被稱為"膽堿")的水溶液經(jīng)常被使用。應(yīng)當(dāng)理解，在本文中公開(kāi)的包含實(shí)施例的實(shí)施方式無(wú)論如何都不是對(duì)本發(fā)明進(jìn)行限制。本發(fā)明的保護(hù)范圍由附后的權(quán)利要求確定，而并不被上述描述確定，并且包括權(quán)利要求的等價(jià)變化形式。以下將通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更具體的描述，這些實(shí)施例不應(yīng)被解釋為對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限制。如無(wú)特別注解，在下述實(shí)施例和對(duì)照例中使用的用于代表任何組分的含量和在任何材料的含量的術(shù)語(yǔ)"％"和"份"是重量單位。在下述實(shí)施例中使用的材料的重均分子量是通過(guò)使用聚苯乙烯作為標(biāo)準(zhǔn)參考物質(zhì)而進(jìn)行凝膠滲透色譜所得到的數(shù)值。在下述實(shí)施例1至6和樹(shù)脂合成對(duì)照例1至2中使用的單體是下述單體A、B、C、D禾口E。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage63</formula>實(shí)施例1向配備有冷凝器、溫度計(jì)和攪拌器的四口燒瓶中加入29.lg的1，4-二氧雜環(huán)己烷，接著在85t:下加熱。向該溶液中逐滴加入通過(guò)將19.2g的單體A、29.6g的單體B、5.3g的2，2'-偶氮二異丁腈和43.6g的1，4-二氧雜環(huán)己烷混合而制備出的溶液，滴加1小時(shí)。將得到的混合物在83t:下攪拌6小時(shí)。該反應(yīng)混合物用53.3g的1，4-二氧雜環(huán)己烷稀釋，并且將得到的混合物傾入甲醇/水溶液(甲醇/水=7/3)，以引起沉淀。通過(guò)傾析分離沉淀物，并且將其溶于145g的甲基異丁基酮，得到溶液。然后在該溶液中加入100g的1%對(duì)甲苯磺酸水溶液。得到的混合物攪拌8小時(shí)，并且用水洗滌。濃縮該溶液。向得到的殘留物中加入丙二醇單甲醚醋酸酯。將該得到的混合物濃縮，得到含有聚合物的溶液，產(chǎn)率為99%。該聚合物重均分子量(Mw)為4.6X10分散度(Mw/Mn)為1.68。該聚合物具有下述結(jié)構(gòu)單元。其被稱作聚合物A1。實(shí)施例2按照與實(shí)施例1相同的方式，以100%的產(chǎn)率得到了含有聚合物的溶液，該聚合物重均分子量(Mw)為4.6X103，分散度(Mw/Mn)為1.78。所不同的是使用19.2g的單體A、17.9g的單體B、4.2g的單體C禾口4.6g的2，2'-偶氮二異丁腈以代替19.2g的單體A、29.6g的單體B和5.3g的2，2'-偶氮二異丁腈。該聚合物具有下述結(jié)構(gòu)單元。其被稱作聚合物A2。實(shí)施例3按照與實(shí)施例1相同的方式，以98%的產(chǎn)率得到了含有聚合物的溶液，該聚合物重均分子量(Mw)為6.4X103，分散度(Mw/Mn)為1.96。所不同的是使用19.2g的單體A、17.9g的單體B、8.9g的單體D和4.6g的2，2'-偶氮二異丁腈以代替19.2g的單體A、29.6g的單體B和5.3g的2，2'-偶氮二異丁腈。該聚合物具有下述結(jié)構(gòu)單元。其被稱作聚合物A3。實(shí)施例4按照與實(shí)施例1相同的方式，以97%的產(chǎn)率得到了含有聚合物的溶液，該聚合物重均分子量(Mw)為4.9X103，分散度(Mw/Mn)為1.81。所不同的是使用23.lg的單體A、17.9g的單體B、4.7g的單體E和4.6g的2，2'-偶氮二異丁腈以代替19.2g的單體A、29.6g的單體B和5.3g的2，2'-偶氮二異丁腈。該聚合物具有下述結(jié)構(gòu)單元。其被稱作聚合物A4。實(shí)施例5按照與實(shí)施例1相同的方式，以97%的產(chǎn)率得到了含有聚合物的溶液，該聚合物重均分子量(Mw)為4.3X103，分散度(Mw/Mn)為1.64。所不同的是使用11.5g的單體A、17.5g的單體B、7.lg的單體E和3.5g的2，2'-偶氮二異丁腈以代替19.2g的單體A、29.6g的單體B和5.3g的2，2A5。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage65</formula>偶氮二異丁腈。該聚合物具有下述結(jié)構(gòu)單元。其被稱作聚合物實(shí)施例6按照與實(shí)施例1相同的方式，以99%的產(chǎn)率得到了含有聚合物的溶液，該聚合物重均分子量(Mw)為4.2X103，分散度(Mw/Mn)為1.71。所不同的是使用15.4g的單體A、17.5g的單體B、6.3g的單體C和4.6g的2，2'-偶氮二異丁腈以代替19.2g的單體A、29.6g的單體B和5.3g的2，2'-偶氮二異丁腈。該聚合物具有下述結(jié)構(gòu)單元。其被稱作聚合物A6。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage66</formula>樹(shù)脂合成對(duì)照例1根據(jù)JP2003-107708A所述的方法，合成甲基丙烯酸(2_乙基_2_金剛烷)酯和對(duì)羥基苯乙烯的共聚物。該共聚物具有下述結(jié)構(gòu)單元。其被稱作聚合物Bl。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage66</formula>在聚合物Bl中的結(jié)構(gòu)單元的摩爾比如下由甲基丙烯酸(2-乙基-2-金剛烷)酯衍生的結(jié)構(gòu)單元由對(duì)羥基苯乙烯衍生的結(jié)構(gòu)單元=20:80樹(shù)脂合成對(duì)照例2根據(jù)JP2003-107708A所述的方法，合成甲基丙烯酸(2_乙基_2_金剛烷)酯和對(duì)羥基苯乙烯的共聚物。該共聚物具有下述結(jié)構(gòu)單元。其被稱作聚合物B2。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage66</formula>在聚合物B2中的結(jié)構(gòu)單元的摩爾比如下由甲基丙烯酸(2-乙基-2-金剛烷)酯衍生的結(jié)構(gòu)單元由對(duì)羥基苯乙烯衍生的結(jié)構(gòu)單元=30:70實(shí)施例7至17以及對(duì)照例1和2〈產(chǎn)酸劑>產(chǎn)酸劑PI:三苯基锍2，4，6-三異丙基苯磺酸鹽產(chǎn)酸劑P2:N-(正丁基磺酰氧基)琥珀酰亞胺產(chǎn)酸劑P3:三苯基锍4-氧代-1-金剛烷氧基羰基二氟代甲磺酸鹽產(chǎn)酸劑P4:(4-甲基苯基)二苯基锍全氟丁烷磺酸鹽產(chǎn)酸劑P5:三苯基锍[3-(4_甲苯基)-l-金剛烷基甲氧羰基]二氟甲烷磺酸鹽〈樹(shù)脂>聚合物A1聚合物A2聚合物A3聚合物A4聚合物A5聚合物A6聚合物Bl聚合物B2〈猝滅劑>Ql:2，6-二異丙基苯胺Q2:氫氧化四丁銨Q3:三(2_羥基_3_丙基)胺Q4:三[2-(2-甲氧乙氧基)乙基]胺〈溶劑>Sl:丙二醇單甲醚醋酸酯420份丙二醇單甲醚60份S2:丙二醇單甲醚醋酸酯450份丙二醇單甲醚40份Y—丁內(nèi)酉旨5份S3:丙二醇單甲醚醋酸酯380份丙二醇單甲醚150份Y—丁內(nèi)酉旨5份混合并溶解下述組分，進(jìn)一步地，通過(guò)孔徑為0.2iim的氟樹(shù)脂過(guò)濾器進(jìn)行過(guò)濾，制備出抗蝕劑液體。樹(shù)脂(種類和含量如表1所述)產(chǎn)酸劑(種類和含量如表1所述)猝滅劑(種類和含量如表1所述)67<table>tableseeoriginaldocumentpage68</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage69</column></row><table>在直接式加熱板上使硅晶片在9(TC下各自與六甲基二硅氮烷相接觸60秒鐘。每種按上述方法制備的抗蝕劑組合物都被旋涂在晶片上，使得干燥后最終的薄膜厚度變?yōu)?.06iim。將這樣用各個(gè)抗蝕劑組合物涂敷的硅晶片各自在直接式加熱板上于在表2中第"PB"欄顯示的溫度下預(yù)焙烤60秒鐘。使用寫入型電子束平印術(shù)系統(tǒng)("HL-800D"，日本日立制作所株式會(huì)社制造，50KeV)，將其上已經(jīng)這樣形成各個(gè)抗蝕膜的每個(gè)晶片暴露于線條和空間圖形，同時(shí)逐級(jí)改變曝光量。在曝光后，對(duì)每個(gè)晶片在加熱板上于在表2中第"PEB"欄顯示的溫度下進(jìn)行曝光后焙烤(post-e鄧osurebaking)60秒鐘，然后用2.38wt^氫氧化四甲銨的水溶液進(jìn)行劃槳式顯影60秒鐘。用掃描電鏡觀察在顯影后的有機(jī)抗反射涂層基材上顯影的每一個(gè)抗蝕圖形，結(jié)果如表2所示。有效靈敏度(ES):其被表示為如下曝光量在通過(guò)0.08iim線條和空間圖形掩模的曝光和顯影后，線條圖形和空間圖形變?yōu)?:1。分辨率其被表示為空間圖形的最小尺寸，該最小尺寸可以提供在有效靈敏度的曝光量下由線條圖形分裂的空間圖形。圖案輪廓在進(jìn)行光刻工藝之后通過(guò)掃描電鏡觀察到的空間圖形，該空間圖形在有效靈敏度的曝光量下可提供O.lOym的線條和空間圖形。當(dāng)圖形的橫截面形狀是矩形時(shí)，圖形輪廓較好，其評(píng)價(jià)被標(biāo)注為"O"。當(dāng)圖形的上部被熔化、并且圖形變小時(shí)，圖形輪廓較差，其評(píng)價(jià)被標(biāo)注為"X"。當(dāng)圖形的上部被熔化、圖形變小、圖形的橫截面形狀呈錐形、并且圖形側(cè)壁的角度為70度以下時(shí)，圖形輪廓非常糟糕，其評(píng)價(jià)被標(biāo)注為"XX"。線條邊緣粗糙度(LER):在進(jìn)行光刻工藝之后通過(guò)掃描電鏡從上側(cè)觀察到的可提供0.08ym的線條和空間(1:1)圖形的空間圖形。當(dāng)圖形的側(cè)壁表面光滑時(shí)，LER較好，并且其評(píng)價(jià)被標(biāo)注為"O";而當(dāng)圖形的側(cè)壁表面呈波狀時(shí)，LER較差，其評(píng)價(jià)被標(biāo)注為"X"。表2實(shí)施例編號(hào)PB(°C)PEB(。C)ES(uC)分辨率(nm)圖形輪廓LER實(shí)施例71251104470〇〇實(shí)施例81251104670〇〇實(shí)施例91001004650〇〇實(shí)施例101001005050〇〇實(shí)施例111001004450〇〇實(shí)施例12951004250〇〇實(shí)施例131001009660〇〇實(shí)施例141001004050〇〇實(shí)施例151001006460〇〇實(shí)施例161001003650〇〇實(shí)施例171001004860〇〇對(duì)照例11251101070XX對(duì)照例21001002090XXX實(shí)施例18至20混合并溶解下述組分，進(jìn)一步地，通過(guò)孔徑為0.2m的氟樹(shù)脂過(guò)濾器進(jìn)行過(guò)濾，制備出抗蝕劑液體。樹(shù)脂(種類和含量如表3所述)產(chǎn)酸劑(種類和含量如表3所述)猝滅劑(種類和含量如表3所述)溶劑(種類如表3所述)表370<table>tableseeoriginaldocumentpage71</column></row><table>在直接式加熱板上使硅晶片在9(TC下各自與六甲基二硅氮烷相接觸60秒鐘。每種按上述方法制備的抗蝕劑組合物都被旋涂在晶片上，使得干燥后最終的薄膜厚度變?yōu)?.06iim。將這樣用各個(gè)抗蝕劑組合物涂敷的硅晶片各自在直接式加熱板上于在表4中第"PB"欄顯示的溫度下預(yù)焙烤60秒鐘。使用EUV曝光系統(tǒng)，其上已經(jīng)形成各個(gè)抗蝕膜的每個(gè)晶片暴露于線條和空間圖形，同時(shí)逐級(jí)改變曝光量。在曝光后，對(duì)每個(gè)晶片在加熱板上于在表4中第"PEB"欄顯示的溫度下進(jìn)行曝光后焙烤(post-e鄧osurebaking)60秒鐘，然后用2.38wt^氫氧化四甲銨的水溶液進(jìn)行劃槳式顯影60秒鐘。用掃描電鏡觀察在顯影后的有機(jī)抗反射涂層基材上顯影的每一個(gè)抗蝕圖形，結(jié)果如表4所示。有效靈敏度(ES):其被表示為如下曝光量在通過(guò)0.03iim線條和空間圖形掩模的曝光和顯影后，線條圖形和空間圖形變?yōu)?:1。分辨率其被表示為空間圖形的最小尺寸，該最小尺寸可以提供在有效靈敏度的曝光量下由線條圖形分裂的空間圖形。圖案輪廓在進(jìn)行光刻工藝之后通過(guò)掃描電鏡觀察到的空間圖形，該空間圖形在有效靈敏度的曝光量下可提供0.04iim的線條和空間圖形。當(dāng)圖形的橫截面形狀是矩形時(shí)，圖形輪廓較好，其評(píng)價(jià)被標(biāo)注為"O"。當(dāng)圖形的上部被熔化、并且圖形變小時(shí)，圖形輪廓較差，其評(píng)價(jià)被標(biāo)注為"X"。當(dāng)圖形的上部被熔化、圖形變小、圖形的橫截面形狀呈錐形、并且圖形側(cè)壁的角度為70度以下時(shí)，圖形輪廓非常糟糕，其評(píng)價(jià)被標(biāo)注為"XX"。線條邊緣粗糙度(LER):在進(jìn)行光刻工藝之后通過(guò)掃描電鏡從上側(cè)觀察到的可提供0.04ym的線條和空間(1:1)圖形的空間圖形。當(dāng)圖形的側(cè)壁表面光滑時(shí)，LER較好，并且其評(píng)價(jià)被標(biāo)注為"O";而當(dāng)圖形的側(cè)壁表面呈波狀時(shí)，LER較差，其評(píng)價(jià)被標(biāo)注為"X"。表4<table>tableseeoriginaldocumentpage72</column></row><table>本發(fā)明的聚合物是一種新穎的聚合物，并且包含該聚合物的抗蝕劑組合物可以提供分辨率、圖形輪廓和線條邊緣粗糙度都較好的抗蝕圖形，并且尤其適用于遠(yuǎn)紫外(EUV)光刻技術(shù)、X射線刻蝕法和電子束平印術(shù)。權(quán)利要求一種聚合物，其包含由結(jié)構(gòu)式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元其中，R1代表氫原子或甲基，X代表直鏈或支鏈C1-C6亞烷基、Z代表由結(jié)構(gòu)式(Ia)表示的基團(tuán)其中，R2在各種情況下獨(dú)立地是直鏈或支鏈C1-C6烷基，并且m代表0至15的整數(shù)；以及由結(jié)構(gòu)式(II)表示的結(jié)構(gòu)單元其中，R3代表氫原子或甲基；R4在各種情況下獨(dú)立地是直鏈或支鏈C1-C6烷基，并且n代表0至4的整數(shù)。F2009102120740C0000011.tif,F2009102120740C0000012.tif,F2009102120740C0000013.tif2.如權(quán)利要求1所述的聚合物，其特征在于，所述聚合物還含有至少一種選自下組的結(jié)構(gòu)單元由苯乙烯衍生的結(jié)構(gòu)單元、除由結(jié)構(gòu)式(II)表示的結(jié)構(gòu)單元之外在其側(cè)鏈中具有一個(gè)以上羥基的結(jié)構(gòu)單元、以及具有內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元。3.如權(quán)利要求2所述的聚合物，其特征在于，所述除由結(jié)構(gòu)式(II)表示的結(jié)構(gòu)單元之外在其側(cè)鏈中具有一個(gè)以上羥基的結(jié)構(gòu)單元是由結(jié)構(gòu)式(III)表示的結(jié)構(gòu)單元其中，R31代表氫原子或甲基；R32和R33各自獨(dú)立地代表氫原子、甲基或羥基；R34代表甲基；n'代表0至10的整數(shù)；Z1代表單鍵或_(CH2)y-CO-0-并且y代表1至4的整數(shù)。4.如權(quán)利要求2所述的聚合物，其特征在于，所述具有內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元是由結(jié)構(gòu)式(IVa)、(IVb)或(IVc)表示的結(jié)構(gòu)單元示的基團(tuán)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>(IVa)(工Vb)(IVc)其中，R"代表氫原子或甲基；W代表甲基；ZM戈表單鍵或-(CH》z-CO-0-，z代表1至4的整數(shù)；R1Q在各種情況下獨(dú)立地是羧基、氰基、或Cl-C4脂肪烴基；1代表0至5的整數(shù)；1'代表0至9的整數(shù)；1〃代表0至9的整數(shù)。5.如權(quán)利要求2所述的聚合物，其特征在于，所述具有內(nèi)酯環(huán)的結(jié)構(gòu)單元是由結(jié)構(gòu)式(IVb)表示的結(jié)構(gòu)單元其中，R"代表氫原子或甲基；Z2代表單鍵或-(CH》z-C0-0-，z代表1至4的整數(shù)；R1Q在各種情況下獨(dú)立地是羧基、氰基、或Cl-C4脂肪烴基；并且1'代表0至9的整數(shù)。6.—種抗蝕劑組合物，其包含如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的聚合物和產(chǎn)酸劑。7.如權(quán)利要求6所述的抗蝕劑組合物，其特征在于，所述產(chǎn)酸劑是由結(jié)構(gòu)式(V)表示的<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>(V)其中，A+代表有機(jī)反荷離子；Y1和Y2各自獨(dú)立地代表氟原子或Cl-C6全氟化烷基；R12代表C1-C30烴基，所述烴基可以具有一個(gè)以上選自下組的取代基C1-C6烷氧基、C1-C4全氟化烷基、C1-C6羥烷基、羥基和氰基，并且所述烴基中的一個(gè)以上的-CH廠可以被-co-或-o-取代。8.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的聚合物用于生產(chǎn)抗蝕劑組合物的用途，所述抗蝕劑組合物用于遠(yuǎn)紫外光刻技術(shù)或者電子束平印術(shù)。9.如權(quán)利要求6或7所述的抗蝕劑組合物用于遠(yuǎn)紫外光刻技術(shù)或者電子束平印術(shù)的應(yīng)用。全文摘要一種聚合物，其包含由結(jié)構(gòu)式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元以及由結(jié)構(gòu)式(II)表示的結(jié)構(gòu)單元，其中，R1代表氫原子或甲基，X代表直鏈或支鏈C1-C6亞烷基、Z代表由結(jié)構(gòu)式(Ia)表示的基團(tuán)；R2在各種情況下獨(dú)立地是直鏈或支鏈C1-C6烷基，并且m代表0至15的整數(shù)；R3代表氫原子或甲基；R4在各種情況下獨(dú)立地是直鏈或支鏈C1-C6烷基，并且n代表0至4的整數(shù)。文檔編號(hào)C08F220/28GK101735390SQ20091021207公開(kāi)日2010年6月16日申請(qǐng)日期2009年11月3日優(yōu)先權(quán)日2008年11月14日發(fā)明者安藤信雄,橋本和彥申請(qǐng)人:住友化學(xué)株式會(huì)社