專利名稱：防眩膜和防眩性偏振板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及防眩(antiglare)膜和使用了其的防眩性偏振板。
背景技術(shù)：
液晶顯示器、等離子顯示器面板、布勞恩管(陰極射線管CRT)顯示器、有機(jī)電致發(fā)光(EL)顯示器等圖像顯示裝置，如果外部光映入其顯示面，則顯著損害視認(rèn)性。以往，為了防止這樣的外部光的映入，在重視畫(huà)質(zhì)的電視機(jī)、個(gè)人電腦、在外部光強(qiáng)的室外使用的攝像機(jī)和數(shù)碼相機(jī)以及利用反射光進(jìn)行顯示的移動(dòng)電話等中，在圖像顯示裝置的表面配置有防止外部光映入的防眩膜。例如，特開(kāi)2006-053371號(hào)公報(bào)中，記載了通過(guò)對(duì)研磨過(guò)的模具基材實(shí)施噴砂加工后，實(shí)施無(wú)電解鍍鎳，從而制造表面具有微細(xì)凹凸的模具，通過(guò)邊將在三乙酰纖維素 (TAC)膜上形成的光固化性樹(shù)脂層壓靠于該模具的凹凸面邊使其固化，從而將該模具的凹凸面轉(zhuǎn)印于光固化性樹(shù)脂層的表面的防眩膜。

發(fā)明內(nèi)容
對(duì)于防眩膜，除了要求防眩性以外，還希望在圖像顯示裝置的表面配置時(shí)顯現(xiàn)良好的對(duì)比度，抑制在圖像顯示裝置的表面配置時(shí)因散射光而使顯示面整體變得全白、顯示變?yōu)闇啙岬念伾乃^“泛白”的產(chǎn)生，以及抑制在圖像顯示裝置的表面配置時(shí)圖像顯示裝置的像素與防眩膜的表面凹凸形狀干涉、結(jié)果產(chǎn)生亮度分布而難以觀看的所謂“晃眼”的產(chǎn)生。但是，上述的特開(kāi)2006-053371號(hào)公報(bào)中記載的防眩膜，由于使用通過(guò)噴砂加工而形成了凹凸形狀的模具來(lái)制作，賦予防眩膜的凹凸形狀的精度不足，特別是有時(shí)具有具備50 μ m 以上的周期的比較大的凹凸形狀，因此存在“晃眼”容易產(chǎn)生的問(wèn)題。此外，該文獻(xiàn)中記載的防眩膜，容易受損，在機(jī)械強(qiáng)度方面有時(shí)未必充分。此外，該文獻(xiàn)中記載的防眩膜，在耐濕性上不充分，如果將該防眩膜貼合于偏光膜而使用，該偏光膜有時(shí)因吸濕而劣化。因此，本發(fā)明的目的在于，提供示出優(yōu)異的防眩性、顯現(xiàn)良好的對(duì)比度同時(shí)能夠防止“泛白”和“晃眼”的發(fā)生引起的視認(rèn)性的下降、而且機(jī)械強(qiáng)度和耐濕性優(yōu)異的防眩膜，以及由該防眩膜和偏光膜的層合體形成的防眩性偏振板，該防眩性偏振板能夠有效地抑制該偏光膜的劣化。本發(fā)明提供防眩膜，該防眩膜具有基材膜、和在該基材膜上層合的具有凹凸表面的防眩層，該基材膜含有丙烯酸系樹(shù)脂，空間頻率0. 01 μ HT1處的該凹凸表面的標(biāo)高的能譜 H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的該凹凸表面的標(biāo)高的能譜H22之比H12Al22為3 20的范圍內(nèi)，空間頻率0. 1 μ πΓ1處的該凹凸表面的標(biāo)高的能譜H32與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的該凹凸表面的標(biāo)高的能譜H22之比Η32/Η22為0. 1以下，并且該凹凸表面包含95%以上的傾斜角度為5°以下的面。基材膜的厚度優(yōu)選為20 μ m以上100 μ m以下。此外，本發(fā)明提供防眩性偏振板，其具有上述防眩膜和在基材膜的與防眩層的相反側(cè)的面層合的偏光膜。本發(fā)明的防眩膜，示出優(yōu)異的防眩性，顯現(xiàn)良好的對(duì)比度，同時(shí)能夠有效地防止 “泛白”和“晃眼”的發(fā)生所引起的視認(rèn)性的下降。此外，本發(fā)明的防眩膜的機(jī)械強(qiáng)度和耐濕性優(yōu)異。使用了該防眩膜的本發(fā)明的防眩性偏振板中，吸濕引起的偏光膜的劣化得以有效抑制。


圖1為示意地表示本發(fā)明的防眩膜的一例的截面圖。圖2為示意地表示本發(fā)明的防眩膜的表面的立體圖。圖3為表示離散地得到表示標(biāo)高的函數(shù)h(x，y)的狀態(tài)的示意圖。圖4為用二元的離散函數(shù)h(x，y)表示本發(fā)明的防眩膜具有的防眩層的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的圖的一例。圖5為用白和黑的層次(gradation)表示將圖4中所示的二元函數(shù)h(x，y)進(jìn)行離散傅立葉變換而得到的標(biāo)高的能譜H2 (fx, fy)。圖6為表示圖5中所示的能譜H2(fx，fy)的fx = 0處的截面的圖。圖7為用于說(shuō)明微細(xì)凹凸表面的傾斜角度的測(cè)定方法的示意圖。圖8為表示防眩膜具有的防眩層的微細(xì)凹凸表面的傾斜角度分布的柱狀圖的一例的圖。圖9為表示作為能夠用于制作本發(fā)明的防眩膜的圖案的圖像數(shù)據(jù)的一部分的圖。圖10為用白和黑的層次表示將圖9中所示的灰度等級(jí)的二元離散函數(shù)g(x，y)進(jìn)行離散傅立葉變換而得到的能譜G2 (fx，fy)的圖。圖11為表示圖10中所示的能譜G2(fx，fy)的fx = 0處的截面的圖。圖12為示意地表示模具的制造方法的前半部分的優(yōu)選的一例的圖。圖13為示意地表示模具的制造方法的后半部分的優(yōu)選的一例的圖。圖14為示意地表示由第1蝕刻工序形成的凹凸面通過(guò)第2蝕刻工序鈍化的狀態(tài)的圖。圖15為表示實(shí)施例1的模具制作時(shí)使用的圖案的圖。圖16為表示實(shí)施例2的模具制作時(shí)使用的圖案的圖。圖17為表示圖15和圖16中所示的圖案的能譜G2 (fx，fy)的fx = 0處的截面的圖。
具體實(shí)施例方式<防眩膜>圖1是示意地表示本發(fā)明的防眩膜的一例的截面圖。本發(fā)明的防眩膜，如圖1中所示的實(shí)例那樣，具有包含丙烯酸系樹(shù)脂的基材膜101、和在基材膜101上層合的防眩層102。 防眩層102的與基材膜101相反側(cè)的表面由微細(xì)的凹凸表面(微細(xì)凹凸表面103)構(gòu)成。以下對(duì)本發(fā)明的防眩膜詳細(xì)說(shuō)明。(防眩層)本發(fā)明的防眩膜具有的防眩層102中，空間頻率0.01 μ πΓ1處的微細(xì)凹凸表面103的標(biāo)高的能譜H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的微細(xì)凹凸表面103的標(biāo)高的能譜H22之比H12/ H22為3 20的范圍內(nèi)，空間頻率0. 1 μ πΓ1處的微細(xì)凹凸表面103的標(biāo)高的能譜H32與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的微細(xì)凹凸表面103的標(biāo)高的能譜H22之比Η32/Η22為0. 1以下。目前為止，對(duì)于防眩膜的微細(xì)凹凸表面的周期，用JIS B 0601中記載的粗糙度曲線要素的平均長(zhǎng)度RSm、截面曲線要素的平均長(zhǎng)度PSm和波浪曲線要素的平均長(zhǎng)度WSm等進(jìn)行評(píng)價(jià)。但是，對(duì)于這樣的以往的評(píng)價(jià)方法，不能正確評(píng)價(jià)微細(xì)凹凸表面所含的多個(gè)周期。 因此，對(duì)于晃眼與微細(xì)凹凸表面的相關(guān)性以及防眩性與微細(xì)凹凸表面的相關(guān)性，也不能正確地評(píng)價(jià)，對(duì)于RSm、PSm, WSm等的值的控制，難以制作兼顧晃眼的抑制和充分的防眩性能的防眩膜。本發(fā)明人等發(fā)現(xiàn)，將具有微細(xì)凹凸表面的防眩層層合在包含丙烯酸系樹(shù)脂的基材膜上而成的防眩膜，其中該微細(xì)凹凸表面示出使用“微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜”規(guī)定的特定的空間頻率分布，即標(biāo)高的能譜比H12Al22為3 20的范圍內(nèi)，H32/H22為0. 1以下，這樣的防眩膜顯示優(yōu)異的防眩性能，并且能夠防止泛白引起的視認(rèn)性的下降，同時(shí)應(yīng)用于高清晰的圖像顯示裝置的情況下，也不產(chǎn)生晃眼而顯現(xiàn)高對(duì)比度。首先，對(duì)防眩層具有的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜進(jìn)行說(shuō)明。圖2為示意地表示本發(fā)明的防眩膜的表面的立體圖。如圖2中所示，本發(fā)明的防眩膜1具備具有由微細(xì)的凹凸2構(gòu)成的微細(xì)凹凸表面的防眩層。其中，本發(fā)明中所說(shuō)的“微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高”，意味著防眩膜1表面的任意點(diǎn)P處距離微細(xì)凹凸表面的最低點(diǎn)的高度中具有該高度的假想的平面 (作為基準(zhǔn)，標(biāo)高為Ομπι)的防眩膜的主法線方向5 (上述假想的平面的法線方向)上的直線距離。如圖2中所示，用(x，y)表示防眩膜面內(nèi)的正交坐標(biāo)時(shí)，微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高可以用坐標(biāo)(x，y)的二元函數(shù)h(x，y)表示。圖2中用投影面3表示防眩膜整體的面。微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高可以由采用共焦點(diǎn)顯微鏡、干涉顯微鏡、原子間力顯微鏡 (AFM)等裝置測(cè)定的表面形狀的三維信息求出。測(cè)定機(jī)所要求的水平分解能力至少為5μπι 以下，優(yōu)選為2 μ m以下，此外，垂直分解能力至少為0. 1 μ m以下，優(yōu)選為0. 01 μ m以下。作為適合該測(cè)定的非接觸三維表面形狀-粗糙度測(cè)定機(jī)，可以舉出New View 5000系列(Zygo Corporation公司制，在日本可由廿^ (株)購(gòu)得)、三維顯微鏡PL μ 2300 (Sensofar公司制)等。由于標(biāo)高的能譜的分解能力必須為0.01 μ πΓ1以下，因此測(cè)定面積優(yōu)選至少為 200ymX200ym 以上，更優(yōu)選為 500μπιΧ500μπι 以上。其次，對(duì)由二元函數(shù)h(x，y)求出標(biāo)高的能譜的方法進(jìn)行說(shuō)明。首先，由二元函數(shù) h(x，y)，通過(guò)下述式(1)定義的二元傅立葉變換求出二元函數(shù)H(fx，fy)。HifxJy) ^ J |/i(jc,>0exp[- 2mifxx + /j)]^式⑴其中，fx和fy分別為χ方向禾Π y方向的空間頻率，具有長(zhǎng)度的倒數(shù)的因次。此外， 式(1)中的η為圓周率，i為虛數(shù)單位。通過(guò)將得到的二元函數(shù)H(fx，fy)連乘，能夠求出標(biāo)高的能譜H2(fx，fy)。該能譜H2(fx，fy)表示防眩層的微細(xì)凹凸表面的空間頻率分布。以下進(jìn)一步具體說(shuō)明求取防眩層具有的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜的方法。采用上述的共焦點(diǎn)顯微鏡、干涉顯微鏡、原子間力顯微鏡等實(shí)際測(cè)定的表面形狀的三維信息，一般作為離散的值，即對(duì)應(yīng)多個(gè)測(cè)定點(diǎn)的標(biāo)高而得到。圖3是表示離散地得到表示標(biāo)高的函
5數(shù)h(x，y)的狀態(tài)的示意圖。如圖3中所示，用(x，y)表示防眩膜面內(nèi)的正交坐標(biāo)，在防眩膜的投影面3上用虛線表示χ軸方向上每ΔΧ分割的線和y軸方向上每Ay分割的線，在實(shí)際的測(cè)定中，微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高作為防眩膜的投影面3上的各虛線的每個(gè)交點(diǎn)的離散的標(biāo)高值而得到。得到的標(biāo)高值的數(shù)由測(cè)定范圍與ΔΧ和Ay決定，如圖3中所示，將χ軸方向的測(cè)定范圍記為X = ΜΔχ，將y軸方向的測(cè)定范圍記為Y = NAy,則得到的標(biāo)高值的數(shù)為 (M+l) X (N+1)個(gè)。如圖3中所示，將防眩膜的投影面3上的著眼點(diǎn)A的坐標(biāo)記為(j Δχ，kAy)(其中，j為0 M，k為0 N。)，則對(duì)應(yīng)于著眼點(diǎn)A的防眩膜表面上的點(diǎn)P的標(biāo)高可以表示為 h(jAx，kAy)。其中，測(cè)定間隔ΔΧ和Ay依賴于測(cè)定機(jī)器的水平分解能力，為了高精度地評(píng)價(jià)微細(xì)凹凸表面，如上所述優(yōu)選ΔΧ和Ay均為5μπι以下，更優(yōu)選為2μπι以下。此外，測(cè)定范圍X和Y如上所述均優(yōu)選為200 μ m以上，均更優(yōu)選500 μ m以上。這樣，在實(shí)際的測(cè)定中，表示微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的函數(shù)作為具有(M+l) X (N+1) 個(gè)值的離散函數(shù)h(x，y)而得到。因此，由測(cè)定得到的離散函數(shù)h(x，y)和由下述式(2)定義的離散傅立葉變換求出離散函數(shù)H(fx，fy)，通過(guò)將離散函數(shù)H(fx，fy)連乘，求出能譜的離散函數(shù) H2(fx，fy)。式⑵中的 1 為-(M+l)/2 (M+l)/2 的整數(shù)，m 為-(N+l)/2 (N+l)/2 的整數(shù)。此外，Afx和Afy分別為χ方向和y方向的空間頻率間隔，分別由式⑶和式⑷ 定義。Afx和Afy相當(dāng)于標(biāo)高的能譜的水平分解能力。
孖(Λ,Λ) = Μ^；，嶺吣ΔΧ姆)exP[-24腳ΔΛ +歸觀)]式⑵ Jy(M +])(/v +1) j-o i^o(3) [。。46] (4)圖4為用二元的離散函數(shù)h(x，y)表示本發(fā)明的防眩膜具有的防眩層的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的圖的一例。圖4中標(biāo)高用白和黑的層次表示。圖4中所示的離散函數(shù)h(x， y)具有512X512個(gè)值，水平分解能力Δχ和Ay為1.66 μ m。此外，圖5為用白和黑的層次表示將圖4中所示的二元函數(shù)h(x，y)進(jìn)行離散傅立葉變換而得到的標(biāo)高的能譜H2(fx，fy)。圖5中所示的標(biāo)高的能譜H2(fx，fy)也是具有 512X512個(gè)值的離散函數(shù)，標(biāo)高的能譜的水平分解能力Afx和AfySO.OOUynT1。如圖4中所示的實(shí)例那樣，本發(fā)明的防眩膜具有的防眩層的微細(xì)凹凸表面由無(wú)規(guī)形成的凹凸構(gòu)成，因此標(biāo)高的能譜H2如圖5中所示以原點(diǎn)為中心而對(duì)稱。因此，空間頻率 0.01 μ πΓ1處的標(biāo)高的能譜ΗΛ空間頻率0. 04 μ πΓ1處的標(biāo)高的能譜H22和空間頻率0. 1 μ πΓ1 處的標(biāo)高的能譜氏2可以由通過(guò)作為二元函數(shù)的能譜H2(fx，fy)的原點(diǎn)的截面而求得。圖6 中示出圖5中所示的能譜H2(fx，fy)的仁=O處的截面。由圖6可知空間頻率0.01 μ πΓ1處的標(biāo)高的能譜H12為4. 4，空間頻率0. 04 μ πΓ1處的標(biāo)高的能譜H22為0. 35，空間頻率0. 1 μ πΓ1處的標(biāo)高的能譜H32為0. 00076,比H12Al22算出為14，比H32/H22算出為0. 0022。如上所述，本發(fā)明涉及的防眩層中，微細(xì)凹凸表面的空間頻率0. 01 μ πΓ1處的標(biāo)高的能譜H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的標(biāo)高的能譜H22之比H12Al22為3 20的范圍內(nèi)。標(biāo)高的能譜之比H12Al22小于3，表示防眩層的微細(xì)凹凸表面所含的100 μ m以上的長(zhǎng)周期的凹凸形狀少，小于25 μ m的短周期的凹凸形狀多。在這種情況下，不能有效地防止外部光的映入，無(wú)法得到足夠的防眩性能。此外，與其相反，標(biāo)高的能譜之比H12M22大于20，表示微細(xì)凹凸表面所含的100 μ m以上的長(zhǎng)周期的凹凸形狀多，小于25 μ m的短周期的凹凸形狀少。 在這種情況下，將防眩膜配置在高清晰的圖像顯示裝置時(shí)，傾向于產(chǎn)生晃眼。為了顯示更優(yōu)異的防眩性能，同時(shí)更有效地抑制晃眼，標(biāo)高的能譜之比H12Al22優(yōu)選為5 18的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為8 15的范圍內(nèi)。此外，本發(fā)明涉及的防眩層中，微細(xì)凹凸表面的空間頻率0. 1 μ HT1處的標(biāo)高的能譜H32與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的標(biāo)高的能譜H22之比Η32/Η22為0. 1以下，優(yōu)選為0. 01以下。 比紀(jì)/吐2為0. 1以下，表示使微細(xì)凹凸表面所含的小于IOym的短周期成分充分減少，由此能夠有效地抑制泛白的發(fā)生。微細(xì)凹凸表面所含的小于IOym的短周期成分，對(duì)防眩性無(wú)效果，另一方面，使入射到微細(xì)凹凸表面的光散射而成為泛白的原因。上述的特開(kāi)2006-053371號(hào)公報(bào)等中公示的以往公知的防眩膜中，由于空間頻率 0.01 μ πΓ1處的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的標(biāo)高的能譜H22之比H12Al22比本申請(qǐng)大，因此存在容易產(chǎn)生晃眼的問(wèn)題。因此，為了使比H12Al22為3 20的范圍內(nèi)，必須使空間頻率0. 01 μ πΓ1處的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜H12小。具有如此使空間頻率0. 01 μ πΓ1處的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜H12小的微細(xì)凹凸表面的防眩膜，可如后所述使用示出在大于0 μ πΓ1且為0. 04 μ πΓ1以下的范圍內(nèi)不具有最大值的能譜的圖案，而優(yōu)選地制作。其中，所謂“圖案”，典型地是指為了形成防眩膜的微細(xì)凹凸表面而使用的、由計(jì)算機(jī)作成的2灰度等級(jí)(例如，二值化為白和黑的圖像數(shù)據(jù))或3灰度等級(jí)以上的層次組成的圖像數(shù)據(jù)，也可包含可一個(gè)意思地變換為該圖像數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)(矩陣數(shù)據(jù)等)。作為可一個(gè)意思地變換為圖像數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)，可以舉出只將各像素的坐標(biāo)和灰度等級(jí)保存的數(shù)據(jù)等。通過(guò)使用如此示出在大于0 μ HT1且為0.04 μ HT1以下的范圍內(nèi)不具有最大值的能譜的圖案，形成防眩膜的微細(xì)凹凸表面，從而有效地使空間頻率0. 01 μ πΓ1處的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜H12變小，可以使比H1VH22為3 20的范圍內(nèi)。進(jìn)而，為了得到具有空間頻率0. 1 μ πΓ1處的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜H32與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的標(biāo)高的能譜H22之比H32M22為0. 1以下的微細(xì)凹凸表面的防眩膜，上述圖案的能譜優(yōu)選在空間頻率大于0.04 μ πΓ1且小于0. 1 μ πΓ1的范圍內(nèi)具有最大值。通過(guò)使用具有這樣的能譜的圖案形成防眩膜的微細(xì)凹凸表面，能夠有效地使空間頻率0. 04 μ πι"1 處的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜H22變大，能夠使比H32/H22為0. 1以下。作為使用這樣的圖案形成防眩膜的微細(xì)凹凸表面的方法，優(yōu)選使用該圖案制作具有凹凸面的模具，將該模具的凹凸面轉(zhuǎn)印于在基材膜上形成的樹(shù)脂層的表面的方法(壓花法)。本發(fā)明人等還發(fā)現(xiàn)，使防眩層的微細(xì)凹凸表面顯示特定的傾斜角度分布，在顯示優(yōu)異的防眩性能、同時(shí)有效地防止泛白方面更為有效。即，本發(fā)明的防眩膜中，防眩層的微細(xì)凹凸表面包含95%以上的傾斜角度為5°以下的面。如果傾斜角度為5°以下的面的比例小于95%，凹凸表面的傾斜角度變得極陡，將來(lái)自周圍的光集光，容易產(chǎn)生顯示面整體變白的泛白。為了抑制這樣的集光效應(yīng)，防止泛白，微細(xì)凹凸表面的傾斜角度為5°以下的面的比例越高越好，優(yōu)選為97%以上，更優(yōu)選為99%以上。其中，關(guān)于本發(fā)明中所說(shuō)的“微細(xì)凹凸表面的傾斜角度”，參照?qǐng)D2，意味著在防眩膜1表面的任意點(diǎn)P處，在此處的增加了凹凸后的局部法線6相對(duì)于防眩膜的主法線方向5 所成的角度(表面傾斜角度)Ψ。對(duì)于微細(xì)凹凸表面的傾斜角度，也與標(biāo)高一樣可由采用共焦點(diǎn)顯微鏡、干涉顯微鏡、原子間力顯微鏡(AFM)等裝置測(cè)定的表面形狀的三維信息求出。圖7為用于說(shuō)明微細(xì)凹凸表面的傾斜角度的測(cè)定方法的示意圖。對(duì)具體的傾斜角度的確定方法進(jìn)行說(shuō)明，如圖7中所示，確定點(diǎn)線表示的假想的平面FGHI上的著眼點(diǎn)A，在通過(guò)其的χ軸上的著眼點(diǎn)A的附近取相對(duì)于點(diǎn)A大致對(duì)稱的點(diǎn)B和D，而且在通過(guò)點(diǎn)AWy 軸上的著眼點(diǎn)A的附近取相對(duì)于點(diǎn)A大致對(duì)稱的點(diǎn)C和E，確定與這些點(diǎn)B、C、D、E對(duì)應(yīng)的防眩膜面上的點(diǎn)Q、R、S、T。再有，圖7中，用(x，y)表示防眩膜面內(nèi)的正交坐標(biāo)，用ζ表示防眩膜厚度方向的坐標(biāo)。平面FGHI是由通過(guò)y軸上的點(diǎn)C的與χ軸平行的直線和同樣通過(guò)y軸上的點(diǎn)E的與χ軸平行的直線、通過(guò)χ軸上的點(diǎn)B的與y軸平行的直線和同樣通過(guò) χ軸上的點(diǎn)D的與y軸平行的直線的各個(gè)交點(diǎn)F、G、H、I形成的面。此外，圖7中，相對(duì)于平面FGHI，以實(shí)際的防眩膜面的位置在上方的方式進(jìn)行繪制，但因著眼點(diǎn)A的所取位置的不同，當(dāng)然有時(shí)實(shí)際的防眩膜面的位置在平面TOHI的上方，也有時(shí)在下方。傾斜角度可如下得到將對(duì)應(yīng)于著眼點(diǎn)A的實(shí)際的防眩膜面上的點(diǎn)P、與在著眼點(diǎn) A的附近所取的4點(diǎn)B、C、D、E對(duì)應(yīng)的實(shí)際的防眩膜面上的點(diǎn)Q、R、S、T的合計(jì)5點(diǎn)形成的多邊4平面，即4個(gè)三角形PQR、PRS, PST、PTQ的各法線矢量6a、6b、6c、6d平均，求出得到的平均法線矢量(平均法線矢量與圖2中所示的增加了凹凸的局部的法線6同義)相對(duì)于防眩膜的主法線方向的極角，由測(cè)定的表面形狀的三維信息求出。對(duì)于各測(cè)定點(diǎn)求取傾斜角度后，計(jì)算柱狀圖。圖8為表示防眩膜具有的防眩層的微細(xì)凹凸表面的傾斜角度分布的柱狀圖的一例的圖。圖8中所示的圖中，橫軸為傾斜角度，以0.5°的刻度分割。例如，最左邊的縱棒表示傾斜角度在0 0.5°的范圍的集合的分布，以下隨著向右，角度每次增大0.5°。圖8 中，橫軸的每2個(gè)刻度表示值的下限值，例如，橫軸中“1”的部分表示傾斜角度在1 1. 5° 的范圍的集合的分布。此外，縱軸表示傾斜角度的分布，是合計(jì)為1(100%)的值。在該例中，傾斜角度為5°以下的面的比例大致為100%。為了制作防眩層的微細(xì)凹凸表面包含95%以上的傾斜角度為5°以下的面的防眩膜，仍優(yōu)選采用使用圖案制作具有凹凸面的模具，將該模具的凹凸面轉(zhuǎn)印于在基材膜上形成的樹(shù)脂層的表面的方法(壓花法)。這樣的壓花法中，防眩層的微細(xì)凹凸表面的傾斜角度由具有凹凸面的模具的制造條件決定。具體地，可通過(guò)使后述的模具的制造方法中蝕刻工序的蝕刻量變化而控制。即，通過(guò)減少第1蝕刻工序中的蝕刻量，能夠使形成的第1表面凹凸形狀的高低差變小，使傾斜角度為5°以下的面的比例增加。為了得到具有包含95% 以上的傾斜角度為5°以下的面的微細(xì)凹凸表面的防眩膜，第1蝕刻工序中的蝕刻量?jī)?yōu)選為2 8μπι。在蝕刻量小于2μπι的情況下，在金屬表面幾乎沒(méi)有形成凹凸形狀，成為了基本上平坦的模具，因此使用這樣的模具制作的防眩膜不會(huì)顯示充分的防眩性。此外，在蝕刻量超過(guò)8μπι的情況下，在金屬表面形成的凹凸形狀的高低差增大，存在傾斜角度為5°以下的面小于95%的可能性。使用這樣的模具制作的防眩膜有可能產(chǎn)生泛白。此外，也可利用第2蝕刻工序中的蝕刻量來(lái)控制防眩層的微細(xì)凹凸表面的傾斜角度。通過(guò)增加第2蝕刻工序中的蝕刻量，使第1表面凹凸形狀的表面傾斜極陡的部分有效地鈍化成為可能，能夠增加傾斜角度為5°以下的面的比例。為了得到具有包含95%以上的傾斜角度為5°以下的面的微細(xì)凹凸表面的防眩膜，第2蝕刻工序中的蝕刻量?jī)?yōu)選為4 20μπι的范圍內(nèi)。如果蝕刻量小，使由第1蝕刻工序得到的凹凸的表面形狀鈍化的效果不足，將其凹凸形狀轉(zhuǎn)印而得到的防眩膜的光學(xué)特性變得不太好。另一方面，如果蝕刻量過(guò)大，凹凸形狀幾乎消失，成為了基本上平坦的模具，因此不會(huì)顯示防眩性。本發(fā)明中，防眩層可由光固化型樹(shù)脂等固化型樹(shù)脂的固化物或熱塑性樹(shù)脂等構(gòu)成，其中優(yōu)選由光固化型樹(shù)脂的固化物構(gòu)成?？稍诜姥又惺咕哂信c固化型樹(shù)脂的固化物或熱塑性樹(shù)脂不同的折射率的微粒分散。通過(guò)使微粒分散，能夠更有效地抑制晃眼。在使上述微粒分散于防眩層的情況下，微粒的平均粒徑優(yōu)選為5μπι以上，更優(yōu)選為6 μ m以上。此外，微粒的平均粒徑可為10 μ m以下程度，優(yōu)選為8 μ m以下。平均粒徑低于5μπι的情況下，微粒產(chǎn)生的廣角側(cè)的散射光強(qiáng)度上升，應(yīng)用于圖像顯示裝置時(shí)傾向于使對(duì)比度降低。此外，微粒的折射率nb與固化型樹(shù)脂的固化物或熱塑性樹(shù)脂的折射率~之比nb/ nr,優(yōu)選為0. 93以上0. 98以下或者1. 01以上1. 04以下，更優(yōu)選為0. 97以上0. 98以下或者1. 01以上1. 03以下。在折射率比nb/n,小于0. 93的情況或大于1. 04的情況下，固化型樹(shù)脂的固化物或熱塑性樹(shù)脂與微粒的界面處的反射率增大，結(jié)果傾向于后方散射上升、全光線透射率下降。全光線透射率的下降使防眩膜的霧度增大，產(chǎn)生應(yīng)用于圖像顯示裝置時(shí)的對(duì)比度的下降。此外，在折射率比nb/n,大于0.98且小于1.01的情況下，微粒產(chǎn)生的內(nèi)部散射效應(yīng)變小，為了將規(guī)定的散射特性賦予防眩層，獲得微粒產(chǎn)生的晃眼抑制效果，有必要使微粒的添加量增多。關(guān)于微粒的含量，相對(duì)于固化型樹(shù)脂或熱塑性樹(shù)脂100重量份，通常為50重量份以下，優(yōu)選為40重量份以下。此外，微粒的含量?jī)?yōu)選為10重量份以上，更優(yōu)選為15重量份以上。在微粒的含量小于10重量份的情況下，有時(shí)微粒產(chǎn)生的晃眼抑制效果不充分。構(gòu)成微粒的材料，優(yōu)選為滿足上述優(yōu)選的折射率比的材料。如后所述，本發(fā)明中優(yōu)選將UV壓花法用于防眩層的形成，UV壓花法中，優(yōu)選使用紫外線固化型樹(shù)脂。這種情況下，紫外線固化型樹(shù)脂的固化物多顯示1. 50左右的折射率，因此作為微粒，可從其折射率為1. 40 1. 60左右的物質(zhì)中，根據(jù)防眩膜的設(shè)計(jì)適當(dāng)選擇。作為微粒，優(yōu)選使用樹(shù)脂珠粒、 其也大致為球形的微粒。以下示出涉及的優(yōu)選的樹(shù)脂珠粒的實(shí)例。蜜胺珠粒(折射率1. 57)、聚甲基丙烯酸甲酯珠粒(折射率1. 49)、甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物樹(shù)脂珠粒(折射率1. 50 1. 59)、聚碳酸酯珠粒(折射率1. 55)、聚乙烯珠粒(折射率1.53)、聚苯乙烯珠粒(折射率1. 6)、聚氯乙烯珠粒(折射率1. 46)、有機(jī)硅樹(shù)脂珠粒(折射率1. 46)等。
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(基材膜)在本發(fā)明的防眩膜中使用的基材膜，以透明性、耐濕性、耐氣候性優(yōu)異且機(jī)械強(qiáng)度也優(yōu)異的丙烯酸系樹(shù)脂為主成分而構(gòu)成，或者由丙烯酸系樹(shù)脂構(gòu)成。其中，本發(fā)明中所謂丙烯酸系樹(shù)脂，意味著將甲基丙烯酸類樹(shù)脂和根據(jù)需要添加的添加劑等混合，進(jìn)行熔融混煉而得到的材料。上述甲基丙烯酸類樹(shù)脂，是以甲基丙烯酸酯為主體的聚合物。甲基丙烯酸類樹(shù)脂可以是1種甲基丙烯酸酯的均聚物，也可以是甲基丙烯酸酯與其他的甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯等的共聚物。作為甲基丙烯酸酯，可以舉出甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等甲基丙烯酸烷基酯，其烷基的碳數(shù)通常為1 4左右。此外，作為能夠與甲基丙烯酸酯共聚的丙烯酸酯，優(yōu)選丙烯酸烷基酯，可以舉出例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等，其烷基的碳數(shù)通常為1 8左右。除了這些以外，共聚物中也可含有作為分子內(nèi)具有至少1個(gè)聚合性碳-碳雙鍵的化合物的苯乙烯這樣的芳香族乙烯基化合物、丙烯腈這樣的乙烯基氰化合物等。關(guān)于丙烯酸系樹(shù)脂，在基材膜的抗沖擊性、制膜性方面，優(yōu)選含有丙烯酸類橡膠粒子。丙烯酸系樹(shù)脂中能夠含有的丙烯酸類橡膠粒子的量，優(yōu)選為5重量％以上，更優(yōu)選為10 重量％以上。丙烯酸類橡膠粒子的量的上限不是臨界值，但如果丙烯酸類橡膠粒子的量過(guò)多，基材膜的表面硬度降低，而且對(duì)基材膜實(shí)施表面處理時(shí)，對(duì)于表面處理劑中的有機(jī)溶劑的耐溶劑性下降。因此，丙烯酸系樹(shù)脂中能夠含有的丙烯酸類橡膠粒子的量，優(yōu)選為80重量％以下，更優(yōu)選為60重量％以下。上述丙烯酸類橡膠粒子是將以丙烯酸酯為主體的彈性聚合物作為必要成分的粒子，可以是基本上只由該彈性聚合物形成的單層構(gòu)造，也可以是以該彈性聚合物作為1層的多層構(gòu)造。作為該彈性聚合物，具體優(yōu)選使用含有丙烯酸烷基酯50 99. 9重量％、至少一種能夠與其共聚的其他乙烯基系單體0 49. 9重量％、共聚性的交聯(lián)性單體0. 1 10 重量％的單體組合物經(jīng)聚合得到的交聯(lián)彈性共聚物。作為形成彈性聚合物的上述丙烯酸烷基酯，可以舉出例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等，其烷基的碳數(shù)通常為1 8左右。此外，作為能夠與上述丙烯酸烷基酯共聚的其他乙烯基系單體，可以舉出分子內(nèi)具有1個(gè)聚合性碳-碳雙鍵的化合物，更具體地，可以舉出甲基丙烯酸甲酯這樣的甲基丙烯酸酯、苯乙烯這樣的芳香族乙烯基化合物、丙烯腈這樣的乙烯基氰化合物等。此外，作為上述共聚性的交聯(lián)性單體，可以舉出分子內(nèi)具有至少2個(gè)聚合性碳-碳雙鍵的交聯(lián)性化合物，更具體地，可以舉出二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸丁二醇酯這樣的多元醇的(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸甲代烯丙酯這樣的(甲基)丙烯酸的烯基酯、二乙烯基苯等。應(yīng)予說(shuō)明，本說(shuō)明書(shū)中，(甲基)丙烯酸酯是指甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸是指甲基丙烯酸或丙烯酸。在丙烯酸系樹(shù)脂中，除了上述丙烯酸類橡膠粒子以外，還可含有通常的添加劑，例如紫外線吸收劑、有機(jī)系染料、顏料、無(wú)機(jī)系色素、抗氧化劑、抗靜電劑、表面活性劑等。其中，紫外線吸收劑在提高耐氣候性方面優(yōu)選使用。作為紫外線吸收劑的實(shí)例，可以舉出2， 2，-亞甲基雙[4-(1，1，3，3_四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)苯酚]、2_(5_甲基-2-羥基苯基)-2H_苯并三唑、2-[2_羥基-3，5_雙(α，α-二甲基芐基)苯基]-2Η-苯并三唑、2-(3，5- 二-叔丁基-2-羥基苯基)-2H-苯并三唑、2-(3-叔丁基-5-甲基-2-羥基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、2- (3，5- 二-叔丁基-2-羥基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、 2- (3，5- 二-叔戊基-2-羥基苯基)-2H-苯并三唑、2- (2，-羥基-5，-叔辛基苯基)-2H-苯并三唑這樣的苯并三唑系紫外線吸收劑；2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-辛氧基二苯甲酮、2，4_ 二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基-4’-氯二苯甲酮、2，2’_ 二羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2，2’ - 二羥基_4，4’ -二甲氧基二苯甲酮這樣的2-羥基二苯甲酮系紫外線吸收劑；水楊酸對(duì)-叔丁基苯基酯、水楊酸對(duì)-辛基苯基酯這樣的水楊酸苯酯系紫外線吸收劑等，可根據(jù)需要使用它們中的2種以上。在丙烯酸系樹(shù)脂中含有紫外線吸收劑時(shí)，其量通常為0. 1重量％以上，優(yōu)選為0. 3重量％以上，而且優(yōu)選為2重量％以下。關(guān)于基材膜的厚度，從機(jī)械強(qiáng)度和處理性的觀點(diǎn)以及防止防眩層形成時(shí)的膜的卷曲的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為20μπι以上，而且從圖像顯示裝置的薄型化和成本等的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為100 μ m以下。關(guān)于基材膜的厚度，更優(yōu)選為40 μ m以上80 μ m以下。作為本發(fā)明的防眩膜中使用的基材膜的制作方法，可以使用例如熔融擠出成型等一般已知的各種方法。其中，從T型模頭熔融擠出成型，使得到的熔融狀膜的至少一面與輥表面或帶表面接觸而制膜的方法，在能夠得到表面性狀良好的膜方面優(yōu)選。尤其是從提高基材膜的表面平滑性和表面光澤性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使上述熔融擠出成型得到的熔融狀膜的兩面與輥表面或帶表面接觸而制膜的方法。此時(shí)使用的輥或帶中，與丙烯酸系樹(shù)脂的熔融狀膜相接的輥表面或帶表面，為了賦予基材膜表面平滑性，優(yōu)選為鏡面?；哪た梢杂啥鄬訕?gòu)造構(gòu)成，作為這樣的多層構(gòu)造，可以舉出含有丙烯酸類橡膠粒子的層與不含丙烯酸類橡膠粒子的層的層合構(gòu)造。具有多層構(gòu)造的基材膜，可適當(dāng)采用例如使用了進(jìn)料塊、多歧管模頭等的多層熔融擠出成型來(lái)制作。通過(guò)使基材膜為多層構(gòu)造， 能夠賦予基材膜相反的特性。例如，中間層中具有含有丙烯酸類橡膠粒子的層、表背的最外表面具有不含丙烯酸類橡膠粒子的層的多層構(gòu)造的基材膜，利用含有丙烯酸類橡膠粒子的中間層而具有高抗沖擊性，同時(shí)利用不含丙烯酸類橡膠粒子的表層而具有高表面硬度。此外，本發(fā)明的防眩膜中使用的基材膜，可以是對(duì)如上所述得到的由丙烯酸系樹(shù)脂構(gòu)成的膜實(shí)施了拉伸處理的產(chǎn)物。通過(guò)拉伸處理，能夠賦予進(jìn)一步的抗沖擊性。拉伸方法任意，并無(wú)特別限定，可以舉出在玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上的溫度下用拉幅機(jī)橫向拉伸后，實(shí)施熱固定處理的方法；在玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上的溫度下用拉幅機(jī)縱向拉伸后，實(shí)施熱固定處理，其次，橫向拉伸后，實(shí)施熱固定處理的方法?！捶姥Ｄさ闹圃旆椒ā瞪鲜霰景l(fā)明的防眩膜可采用包含下述工序(A)和(B)的方法優(yōu)選制造。(A)基于顯示在空間頻率大于0 μ πΓ1且0.04 μ πΓ1以下的范圍內(nèi)不具有最大值的能譜的圖案，制作具有凹凸面的模具的工序，和(B)將模具的凹凸面轉(zhuǎn)印到在基材膜上形成的、包含光固化型樹(shù)脂等固化型樹(shù)脂或熱塑性樹(shù)脂等的樹(shù)脂層的表面的工序。通過(guò)使用顯示在空間頻率大于0 μ HT1且0.04 μ HT1以下的范圍內(nèi)不具有最大值的能譜的圖案，高精度地形成具有上述的特定的空間頻率分布的微細(xì)凹凸表面成為可能。此外，采用基于該圖案制作具有凹凸面的模具，將該模具的凹凸面轉(zhuǎn)印到在基材膜上形成的樹(shù)脂層的表面的方法(壓花法)，以高精度并且再現(xiàn)性好地得到具有微細(xì)凹凸表面的防眩層成為可能。其中，所謂“圖案”，典型地，意味著為了形成防眩膜的微細(xì)凹凸表面而使用的、 由計(jì)算機(jī)作成的2灰度等級(jí)(例如，二值化為白和黑的圖像數(shù)據(jù))或3灰度等級(jí)以上的層次組成的圖像數(shù)據(jù)，也可包含可一個(gè)意思地變換為該圖像數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)(矩陣數(shù)據(jù)等)。作為可一個(gè)意思地變換為圖像數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)，可以舉出只將各像素的坐標(biāo)和灰度等級(jí)保存的數(shù)據(jù)寸。上述工序(A)中使用的圖案的能譜，如果為例如圖像數(shù)據(jù)，則將圖像數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為2 灰度等級(jí)的二值化圖像數(shù)據(jù)后，用二元函數(shù)g(x，y)表示圖像數(shù)據(jù)的灰度等級(jí)，將得到的二元函數(shù)g(x，y)進(jìn)行傅立葉變換而計(jì)算二元函數(shù)G(fx，fy)，將得到的二元函數(shù)G(fx，fy)連乘而求得。其中，χ和y表示圖像數(shù)據(jù)面內(nèi)的正交坐標(biāo)，&和。分別表示χ方向的空間頻率和y方向的空間頻率。與求取微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜的情形一樣，對(duì)于求取圖案的能譜的情形，一般是灰度等級(jí)的二元函數(shù)g(x，y)作為離散函數(shù)而得到的情形。在這種情況下，與求取微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜的情形一樣，通過(guò)離散傅立葉變換計(jì)算能譜。具體地，通過(guò)由式(5)定義的離散傅立葉變換計(jì)算離散函數(shù)G (fx，fy)，通過(guò)將得到的離散函數(shù)G(fx，fy)連乘，求得能譜G2(fx，fy)。其中，式(5)中的π為圓周率，i為虛數(shù)單位。此外，M為χ方向的像素?cái)?shù)，N為y方向的像素?cái)?shù)，1為-M/2以上M/2以下的整數(shù)，m 為-N/2以上N/2以下的整數(shù)。此夕卜，Afx和Afy分別為χ方向和y方向的空間頻率間隔， 分別由式(6)和式(7)定義。式(6)和式(7)中的Δχ和Ay分別為χ軸方向、y軸方向的水平分解能力。再有，圖案為圖像數(shù)據(jù)的情況下，Δχ和Ay分別與1像素的χ軸方向的長(zhǎng)度和y軸方向的長(zhǎng)度相等。即，在作為6400dpi的圖像數(shù)據(jù)而作成圖案的情況下，Δχ = Ay = 4 μ m，在作為12800dpi的圖像數(shù)據(jù)作成圖案的情況下，Δχ = Δγ = 2μπι。
G{fx Jy)= G^fx,mAfy)^ -^ΣΣSU^^)exp[- 2π {β^￥χ + kmAyAfy)]式⑶Δ/； = 77^"·式(6)
MLxΔ/尸擊式(7)圖9為表示作為能夠用于制作本發(fā)明的防眩膜的圖案的圖像數(shù)據(jù)的一部分的圖， 用灰度等級(jí)的二元離散函數(shù)g(x，y)表示。作為圖9中所示的圖案的圖像數(shù)據(jù)為2mmX2mm 的大小，以12800dpi作成。圖10為用白和黑的層次表示將圖9中所示的灰度等級(jí)的二元離散函數(shù)g(x，y)進(jìn)行離散傅立葉變換而得到的能譜G2(fx，fy)的圖。圖9中所示的圖案，將點(diǎn)無(wú)規(guī)地配置，因此其能譜G2(fx，fy)，如圖10中所示，成為以原點(diǎn)為中心而對(duì)稱。因此，顯示圖案的能譜G2 (fx， fy)的最大值的空間頻率可由通過(guò)能譜的原點(diǎn)的截面求得。圖11為表示圖10中所示的能譜G2(fx，fy)的仁=0處的截面的圖。由此可知，圖9中所示的圖案在空間頻率0.045 μ πΓ1 具有最大值，但在大于0 μ πΓ1且為0. 04 μ πΓ1以下的范圍內(nèi)不具有最大值。用于制作防眩膜的圖案的能譜G2 (fx，fy)在大于0 μ πΓ1且為0. 04 μ πΓ1以下的空間頻率范圍內(nèi)具有最大值的情況下，得到的防眩膜的微細(xì)凹凸表面不顯示上述的特定的空間頻率分布，因此不能兼?zhèn)浠窝鄣南妥銐虻姆姥Ｐ?。能譜G2(fx，fy)在大于ΟμπΓ1且Ο. ΜμπΓ1以下的空間頻率范圍內(nèi)不具有最大值的圖案，例如如圖9中所示的圖案那樣，可將多個(gè)點(diǎn)無(wú)規(guī)且均勻地配置而作成。無(wú)規(guī)配置的點(diǎn)徑可以是1種，也可以是多種。將多個(gè)點(diǎn)無(wú)規(guī)配置而作成的圖案中，能譜在作為點(diǎn)間的平均距離的倒數(shù)的空間頻率處顯示第一最大值(空間頻率大于ΟμπΓ1且最小的空間頻率中的最大值)。因此，為了作成能譜在大于0 μ πΓ1且0. 04 μ πΓ1以下的范圍內(nèi)不具有最大值的圖案，可以以點(diǎn)間的平均距離小于25 μ m的方式作成圖案。此外，為了使防眩膜的空間頻率 0. 1 μ πΓ1處的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高的能譜H32與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的標(biāo)高的能譜H22之比H3VH22為0. 1以下，圖案的能譜優(yōu)選在空間頻率大于0. 04 μ m-1且小于0. 1 μ m-1的范圍內(nèi)具有最大值。這樣的圖案可通過(guò)以點(diǎn)間的平均距離為大于 ο μ m且小于25 μ m的范圍內(nèi)的方式作成而得到。此外，也可使用通過(guò)從這樣的將多個(gè)點(diǎn)無(wú)規(guī)配置而作成的圖案中除去特定的空間頻率以下的低空間頻率成分的旁路濾波器而得到的圖案。此外，也可使用通過(guò)從將多個(gè)點(diǎn)無(wú)規(guī)配置而作成的圖案中除去特定的空間頻率以下的低空間頻率成分和特定的空間頻率以上的高空間頻率成分的帶通濾波器而得到的圖案。如圖11中所示，將多個(gè)點(diǎn)無(wú)規(guī)配置而作成的圖案的能譜，顯示出依賴于配置的點(diǎn)的點(diǎn)徑和點(diǎn)間的平均距離的最大值。通過(guò)使這樣的圖案通過(guò)上述旁路濾波器或上述帶通濾波器，能夠?qū)⒉槐匾某煞殖?。這樣通過(guò)了旁路濾波器或帶通濾波器的圖案的能譜，由于通過(guò)濾波器將成分除去，因此在空間頻率大于ΟμπΓ1且0. 04 μ πΓ1以下的范圍內(nèi)不具有最大值。此外，能夠更高效地作成在空間頻率大于0. 04 4!11_1且小于0.14111_1的范圍內(nèi)具有最大值的圖案。其中，在使用上述旁路濾波器的情況下，為了將空間頻率大于ΟμπΓ1且0. 04 μ πι"1 以下的范圍內(nèi)的最大值除去，除去的低空間頻率成分的上限空間頻率優(yōu)選為0. 04 μ m-1以下。此外，使用上述帶通濾波器的情況下，為了將空間頻率大于ΟμπΓ1且0.04 μ πΓ1以下的范圍內(nèi)的最大值除去，在空間頻率大于0. 04 μ m-1且小于0. 1 μ πΓ1的范圍內(nèi)具有最大值，除去的低空間頻率成分的上限空間頻率優(yōu)選為0. 04 μ m-1以下，除去的高空間頻率成分的下限空間頻率優(yōu)選為0. 08 μ πΓ1以上。在使用使其通過(guò)旁路濾波器、帶通濾波器等的手法作成圖案的情況下，作為通過(guò)濾波器前的圖案，也可使用具有通過(guò)隨機(jī)數(shù)或由計(jì)算機(jī)生成的準(zhǔn)隨機(jī)數(shù)決定了濃淡的無(wú)規(guī)的亮度分布的圖案。對(duì)基于如上所述得到的圖案制作模具的方法的詳細(xì)情況，將在后面敘述。上述工序(B)是采用壓花法在基材膜上形成具有微細(xì)凹凸表面的防眩層的工序。 作為壓花法，可以例示使用光固化型樹(shù)脂的UV壓花法、使用熱塑性樹(shù)脂的熱壓花法，其中， 從生產(chǎn)率的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選UV壓花法。UV壓花法中，通過(guò)在基材膜的表面形成光固化型樹(shù)脂層，邊將該光固化型樹(shù)脂層壓靠到模具的凹凸面邊使其固化，將模具的凹凸面轉(zhuǎn)印到光固化型樹(shù)脂層表面。更具體地，將含有光固化型樹(shù)脂的涂布液涂布到基材膜上，在使涂布的光固化型樹(shù)脂與模具的凹凸面密合的狀態(tài)下從基材膜側(cè)照射紫外線等光，使光固化型樹(shù)脂固化，然后從模具剝離形成了固化后的光固化型樹(shù)脂層的基材膜，從而得到將模具的凹凸形狀轉(zhuǎn)印于固化后的光固化型樹(shù)脂層(防眩層)的防眩膜。
作為使用UV壓花法時(shí)的光固化型樹(shù)脂，優(yōu)選使用利用紫外線而固化的紫外線固化型樹(shù)脂，也可以使用將適當(dāng)選擇的光引發(fā)劑與紫外線固化型樹(shù)脂組合，用波長(zhǎng)比紫外線長(zhǎng)的可見(jiàn)光也可固化的樹(shù)脂。對(duì)紫外線固化型樹(shù)脂的種類并無(wú)特別限定，可以使用市售的適當(dāng)?shù)漠a(chǎn)品。紫外線固化型樹(shù)脂的優(yōu)選的實(shí)例，為含有三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯的1種或2種以上和Irgacure 907(汽巴特種化學(xué)品公司制)、Irgacure 184(汽巴特種化學(xué)品公司制)、Lucirin TP0(BASF公司制)等光聚合引發(fā)劑的樹(shù)脂組合物。在這些紫外線固化型樹(shù)脂中根據(jù)需要添加微粒、溶劑等，調(diào)制上述涂布液。<防眩膜制造用的模具的制造方法>以下對(duì)本發(fā)明的防眩膜的制造中使用的模具的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。對(duì)于本發(fā)明的防眩膜的制造中使用的模具的制造方法，只要是能得到基于上述圖案的規(guī)定的表面形狀的方法，并無(wú)特別限制，但為了高精度且再現(xiàn)性良好地制造微細(xì)凹凸表面，優(yōu)選基本上包含 [1]第1鍍敷工序、[2]研磨工序、[3]感光性樹(shù)脂膜形成工序、[4]曝光工序、[5]顯影工序、[6]第1蝕刻工序、[7]感光性樹(shù)脂膜剝離工序和[8]第2鍍敷工序。圖12為示意地表示模具的制造方法的前半部分的優(yōu)選的一例的圖，圖13為示意地表示模具的制造方法的后半部分的優(yōu)選的一例的圖。圖12和圖13中示意地表示各工序中模具的截面。以下邊參照?qǐng)D12和圖13邊對(duì)上述各工序進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。[1]第1鍍敷工序本工序中，對(duì)用于模具的基材的表面實(shí)施鍍銅或鍍鎳。這樣，通過(guò)對(duì)模具用基材的表面實(shí)施鍍銅或鍍鎳，能夠改善后面的第2鍍敷工序中鍍鉻的密合性、光澤性。這是因?yàn)?，鍍銅或鍍鎳的被覆性高，而且平滑化作用強(qiáng)，因此將模具用基材的微小的凹凸、空孔 (Cavity)等添埋而形成平坦且具有光澤的表面。由于這些鍍銅或鍍鎳的特性，即使在后述的第2鍍敷工序中實(shí)施鍍鉻，認(rèn)為是起因于基材上存在的微小的凹凸、空孔(Cavity)的鍍鉻表面的粗糙得以消除，而且由于鍍銅或鍍鎳的被覆性高，因此使細(xì)小的裂紋的產(chǎn)生減少。作為第1鍍敷工序中使用的銅或鎳，除了可以是各自的純金屬外，也可以是以銅為主體的合金或者以鎳為主體的合金，因此，本說(shuō)明書(shū)中所說(shuō)的“銅”是包括銅和銅合金的含義，而“鎳”是包括鎳和鎳合金的含義。鍍銅和鍍鎳可以分別用電解鍍進(jìn)行，也可以用無(wú)電解鍍進(jìn)行，但通常采用電解鍍。實(shí)施鍍銅或鍍鎳時(shí)，如果鍍層太薄，不能徹底排除基底表面的影響，因此其厚度優(yōu)選為50 μ m以上。鍍層厚度的上限不是臨界值，鑒于成本等，優(yōu)選為至多500 μ m左右。作為構(gòu)成模具用基材的金屬材料，從成本的觀點(diǎn)出發(fā)，可以舉出鋁、鐵等。此外，如果考慮處理的便利性，優(yōu)選使用輕質(zhì)的鋁。這里所謂鋁、鐵，也除了可以各自是純金屬外，還可以是以鋁或鐵為主體的合金。此外，模具用基材的形狀，可以是本領(lǐng)域中以往采用的適當(dāng)?shù)男螤?，例如，除了平板狀，還可以是圓柱狀或圓筒狀的卷材。如果使用卷狀的基材制作模具，具有能夠以連續(xù)的卷狀制造防眩膜的優(yōu)點(diǎn)。[2]研磨工序在接下來(lái)的研磨工序中，對(duì)在上述第1鍍敷工序中實(shí)施了鍍銅或鍍鎳的基材表面進(jìn)行研磨。優(yōu)選經(jīng)過(guò)該工序?qū)⒒谋砻嫜心サ浇咏R面的狀態(tài)。這是因?yàn)?，為了達(dá)到所需的精度，對(duì)成為基材的金屬板、金屬卷大多實(shí)施切削、研削等機(jī)械加工，由此在基材表面殘留加工針眼，在實(shí)施了鍍銅或鍍鎳的狀態(tài)下，有時(shí)也殘留這些加工針眼，而且在鍍敷的狀態(tài)下并不一定表面變得完全平滑。即，即使對(duì)殘留有這樣的深加工針眼等的表面實(shí)施了后述的工序，有時(shí)加工針眼等的凹凸比實(shí)施了各工序后形成的凹凸還深，有可能殘留加工針眼等的影響，使用這樣的模具制造防眩膜時(shí)，有時(shí)對(duì)光學(xué)特性產(chǎn)生不能預(yù)期的影響。圖12(a) 中示意地表示平板狀的模具用基材7具有在第1鍍敷工序中對(duì)其表面實(shí)施鍍銅或鍍鎳(對(duì)該工序中形成的鍍銅或鍍鎳的層沒(méi)有圖示)、進(jìn)而通過(guò)研磨工序進(jìn)行了鏡面研磨的表面8 的狀態(tài)。對(duì)于對(duì)實(shí)施了鍍銅或鍍鎳的基材表面進(jìn)行研磨的方法，并無(wú)特別限制，可以使用機(jī)械研磨法、電解研磨法、化學(xué)研磨法的任何方法。作為機(jī)械研磨法，可以例示超精加工法、 摩擦法、流體研磨法、拋光輪(buff)研磨法等。此外，可以通過(guò)使用切削工具進(jìn)行鏡面切削，從而使模具用基材表面7成為鏡面。對(duì)此時(shí)的切削工具的材質(zhì)、形狀等并無(wú)特別限制， 可以使用超硬刀具、CBN刀具、陶瓷刀具、金剛石刀具等，但從加工精度的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用金剛石刀具。研磨后的表面粗糙度，優(yōu)選按照J(rèn)IS B 0601的規(guī)定的中心線平均粗糙度Ra為 0. Ιμπι以下，更優(yōu)選為0.05μπι以下。如果研磨后的中心線平均粗糙度Ra大于0. 1 μ m，有可能對(duì)最終的模具表面的凹凸形狀殘留研磨后的表面粗糙度的影響。此外，對(duì)于中心線平均粗糙度Ra的下限并無(wú)特別限制，考慮加工時(shí)間、加工成本等適當(dāng)決定。[3]感光性樹(shù)脂膜形成工序在接下來(lái)的感光性樹(shù)脂膜形成工序中，將感光性樹(shù)脂制成溶解于溶劑的溶液而涂布到通過(guò)上述研磨工序?qū)嵤┝绥R面研磨的模具用基材7的研磨過(guò)的表面8，進(jìn)行加熱、干燥，從而形成感光性樹(shù)脂膜。圖12(b)中示意地表示在模具用基材7的研磨過(guò)的表面8形成了感光性樹(shù)脂膜9的狀態(tài)。作為感光性樹(shù)脂，可以使用以往公知的感光性樹(shù)脂。作為具有感光部分固化的性質(zhì)的負(fù)型的感光性樹(shù)脂，可以使用例如分子中具有丙烯?；蚣谆；谋┧狨サ膯误w、預(yù)聚物，雙疊氮化物(bisazide)和二烯橡膠的混合物，聚肉桂酸乙烯酯系化合物等。 此外，作為具有通過(guò)顯影使感光部分溶出、只殘留未感光部分的性質(zhì)的正型的感光性樹(shù)脂， 可以使用例如酚醛樹(shù)脂系、酚醛清漆樹(shù)脂系等。此外，感光性樹(shù)脂中根據(jù)需要可配合增感劑、顯影促進(jìn)劑、密合性改性劑、涂布性改進(jìn)劑等各種添加劑。將這些感光性樹(shù)脂涂布于模具用基材7的研磨過(guò)的表面8時(shí)，為了形成良好的涂膜，優(yōu)選在適當(dāng)?shù)娜軇┲邢♂尪坎肌Ｗ鳛槿軇?，可以使用溶纖劑系溶劑、丙二醇系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、酮系溶劑、高極性溶劑等。作為涂布感光性樹(shù)脂溶液的方法，可以使用液面涂布(^ 二 7力7 二一卜)、噴泉式涂布(77々>74>二一卜)、浸涂、旋轉(zhuǎn)涂布、輥式涂布、繞線棒涂布、氣刀涂布、刮刀涂布和簾式涂布等公知的方法。涂布膜的厚度優(yōu)選在干燥后為1 6μπι的范圍。[4]曝光工序在接下來(lái)的曝光工序中，將上述能譜在大于0 μ HT1且小于等于0.04 μ HT1的空間頻率范圍內(nèi)不具有最大值的圖案，在上述感光性樹(shù)脂膜形成工序中形成的感光性樹(shù)脂膜9上曝光。曝光工序中使用的光源可以根據(jù)涂布的感光性樹(shù)脂的感光波長(zhǎng)、感度等適當(dāng)選擇，可以使用例如高壓水銀燈的g線(波長(zhǎng)436nm)、高壓水銀燈的h線(波長(zhǎng)405nm)、高壓水銀燈的i線(波長(zhǎng)365nm)、半導(dǎo)體激光(波長(zhǎng)830nm、532nm、488nm、405nm等)、YAG激光 (波長(zhǎng)1064nm)、KrF準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)248nm)、ArF準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193nm)、F2準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)157nm)等。為了高精度地形成模具的表面凹凸形狀乃至防眩層的表面凹凸形狀，優(yōu)選在曝光工序中在精密控制的狀態(tài)下將上述圖案在感光性樹(shù)脂膜上曝光，具體地，優(yōu)選在計(jì)算機(jī)上將圖案作成圖像數(shù)據(jù)，基于該圖像數(shù)據(jù)，利用從計(jì)算機(jī)控制的激光器頭發(fā)出的激光，在感光性樹(shù)脂膜上描畫(huà)圖案。進(jìn)行激光描畫(huà)時(shí)，可使用印刷版制作用的激光描畫(huà)裝置。作為這樣的激光描畫(huà)裝置，可以舉出例如Laser Stream FX((株)Think Laboratory制)等。圖12(c)中示意地表示將圖案曝光于感光性樹(shù)脂膜9的狀態(tài)。用負(fù)型的感光性樹(shù)脂形成感光性樹(shù)脂膜時(shí)，曝光的區(qū)域10通過(guò)曝光，樹(shù)脂的交聯(lián)反應(yīng)進(jìn)行，對(duì)于后述的顯影液的溶解性下降。因此，顯影工序中沒(méi)有曝光的區(qū)域11被顯影液溶解，只有曝光的區(qū)域10 殘留在基材表面上而成為掩模。另一方面，用正型的感光性樹(shù)脂形成感光性樹(shù)脂膜時(shí)，曝光的區(qū)域10通過(guò)曝光，將樹(shù)脂的鍵合切斷，對(duì)于后述的顯影液的溶解性增加。因此，顯影工序中曝光的區(qū)域10被顯影液溶解，只有未曝光的區(qū)域11殘留在基材表面上而成為掩模。[5]顯影工序在接下來(lái)的顯影工序中，將負(fù)型的感光性樹(shù)脂用于感光性樹(shù)脂膜9時(shí)，未曝光的區(qū)域11被顯影液溶解，只有曝光的區(qū)域10殘存在模具用基材上，在接下來(lái)的第1蝕刻工序中作為掩模發(fā)揮作用。另一方面，將正型的感光性樹(shù)脂用于感光性樹(shù)脂膜9時(shí)，只有曝光的區(qū)域10被顯影液溶解，未曝光的區(qū)域11殘存在模具用基材上，作為接下來(lái)的第1蝕刻工序中的掩模發(fā)揮作用。對(duì)于顯影工序中使用的顯影液，可以使用以往公知的顯影液?？梢耘e出例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、硅酸鈉、正硅酸鈉、氨水等無(wú)機(jī)堿類，乙胺、正丙胺等伯胺類，二乙胺、二正丁胺等仲胺類，三乙胺、甲基二乙基胺等叔胺類，二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺類，四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、三甲基羥乙基氫氧化銨等季銨鹽，吡咯、哌啶等環(huán)狀胺類等堿性水溶液；和二甲苯、甲苯等有機(jī)溶劑等。對(duì)于顯影工序中的顯影方法并無(wú)特別限制，可以使用浸漬顯影、噴射顯影、刷涂顯影、超聲波顯影等方法。圖12(d)中示意地表示將負(fù)型的感光性樹(shù)脂用于感光性樹(shù)脂膜9，進(jìn)行了顯影處理的狀態(tài)。圖12(c)中未曝光的區(qū)域11被顯影液溶解，只有曝光的區(qū)域10殘留在基材表面上而成為掩模12。圖12(e)中示意地表示將正型的感光性樹(shù)脂用于感光性樹(shù)脂膜9，進(jìn)行了顯影處理的狀態(tài)。圖12(c)中曝光的區(qū)域10被顯影液溶解，只有未曝光的區(qū)域11殘留在基材表面上而成為掩模12。[6]第1蝕刻工序在接下來(lái)的第1蝕刻工序中，使用上述顯影工序后在模具用基材表面上殘存的感光性樹(shù)脂膜作為掩模，主要將無(wú)掩模的部位的模具用基材蝕刻，在研磨過(guò)的鍍敷面形成凹凸。圖13(a)中示意地表示通過(guò)第1蝕刻工序主要將無(wú)掩模的部位13的模具用基材7蝕刻的狀態(tài)。掩模12的下部的模具用基材7沒(méi)有被從模具用基材表面蝕刻，但隨著蝕刻的進(jìn)行，進(jìn)行從無(wú)掩模的部位13的蝕刻。因此，在掩模12和無(wú)掩模的部位13的邊界附近，掩模12的下部的模具用基材7也被蝕刻。在這樣的掩模12和無(wú)掩模的部位13的邊界附近，掩模12的下部的模具用基材7也被蝕刻，以下將此稱為側(cè)蝕刻。第1蝕刻工序中的蝕刻處理，通常通過(guò)使用氯化鐵(FeCl3)液、氯化銅(CuCl2)液、 堿蝕刻液(Cu(NH3)4Cl2)等，將金屬表面腐蝕而進(jìn)行，但也可以使用鹽酸、硫酸等強(qiáng)酸，也可以使用通過(guò)施加與電解鍍時(shí)相反的電位的反電解蝕刻。實(shí)施了蝕刻處理時(shí)的模具用基材上形成的凹形狀，因基底金屬的種類、感光性樹(shù)脂膜的種類和蝕刻手段等而異，因此不能一概而論，蝕刻量為IOym以下時(shí)，從與蝕刻液接觸的金屬表面大致各向同性地被蝕刻。這里所謂蝕刻量，是由蝕刻削減的基材的厚度。第1蝕刻工序中蝕刻量?jī)?yōu)選為1 50 μ m，更優(yōu)選為2 10 μ m。蝕刻量小于1 μ m 時(shí)，在金屬表面幾乎沒(méi)有形成凹凸形狀，成為大致平坦的模具，因此不顯示防眩性。此外，蝕刻量超過(guò)50 μ m時(shí)，金屬表面形成的凹凸形狀的高低差增大，應(yīng)用了使用得到的模具制作的防眩膜的圖像顯示裝置中有可能產(chǎn)生泛白。為了得到具有包含95%以上的傾斜角度為 5°以下的面的微細(xì)凹凸表面的防眩膜，第1蝕刻工序中的蝕刻量更優(yōu)選為2 8μπι。第1 蝕刻工序中的蝕刻處理可以采用1次的蝕刻處理來(lái)進(jìn)行，也可以分2次以上來(lái)進(jìn)行蝕刻處理。分2次以上進(jìn)行蝕刻處理時(shí)，優(yōu)選2次以上的蝕刻處理中的蝕刻量的合計(jì)為上述范圍內(nèi)。[7]感光性樹(shù)脂膜剝離工序在接下來(lái)的感光性樹(shù)脂膜剝離工序中，將第1蝕刻工序中作為掩模使用的殘存的感光性樹(shù)脂膜完全溶解除去。在感光性樹(shù)脂膜剝離工序中使用剝離液將感光性樹(shù)脂膜溶解。作為剝離液，可以使用與上述的顯影液相同的液體，通過(guò)使剝離液的ΡΗ、溫度、濃度和浸漬時(shí)間等變化，使用了負(fù)型的感光性樹(shù)脂膜時(shí)將曝光部的感光性樹(shù)脂膜完全溶解除去，使用了正型的感光性樹(shù)脂膜時(shí)將非曝光部的感光性樹(shù)脂膜完全溶解除去。對(duì)于感光性樹(shù)脂膜剝離工序中的剝離方法，也無(wú)特別限制，可以使用浸漬顯影、噴射顯影、刷涂顯影、超聲波顯影等方法。圖13(b)示意地表示通過(guò)感光性樹(shù)脂膜剝離工序?qū)⒌?蝕刻工序中作為掩模12 使用的感光性樹(shù)脂膜完全溶解除去的狀態(tài)。通過(guò)利用了由感光性樹(shù)脂膜構(gòu)成的掩模12的蝕刻，在模具用基材表面形成第1表面凹凸形狀15。[8]第2鍍敷工序接著，通過(guò)對(duì)形成的凹凸面(第1表面凹凸形狀15)實(shí)施鍍鉻，使表面的凹凸形狀鈍化。圖13(c)中示出了在通過(guò)第1蝕刻工序的蝕刻處理形成的第1表面凹凸形狀15形成鉻鍍層16，形成了與第1表面凹凸形狀15相比凹凸鈍化的表面(鍍鉻的表面17)的狀態(tài)。作為鍍鉻，優(yōu)選在平板、卷材等的表面采用有光澤、硬度高、摩擦系數(shù)小、能給予良好的脫模性的鍍鉻。作為這樣的鍍鉻，并無(wú)特別限制，優(yōu)選使用稱為所謂光澤鍍鉻、裝飾用鍍鉻等的顯現(xiàn)良好光澤的鍍鉻。通常通過(guò)電解進(jìn)行鍍鉻，作為其鍍?cè)?，使用含有鉻酸酐 (CrO3)和少量硫酸的水溶液。可通過(guò)調(diào)節(jié)電流密度和電解時(shí)間來(lái)調(diào)節(jié)鍍鉻的厚度。再有，在第2鍍敷工序中，不優(yōu)選實(shí)施鍍鉻以外的鍍敷。原因在于，對(duì)于鉻以外的鍍敷，硬度、耐磨損性降低，因此作為模具的耐久性降低，使用中凹凸磨損，或者模具損傷。 由這樣的模具得到的防眩膜，難以獲得足夠的防眩功能的可能性高，此外，在防眩膜上產(chǎn)生缺陷的可能性也升高。此外，鍍敷后的表面研磨也不優(yōu)選。即，優(yōu)選在第2鍍敷工序后不設(shè)置研磨表面的工序，而將實(shí)施了鍍鉻的凹凸面原樣地用作向基材膜上的樹(shù)脂層表面轉(zhuǎn)印的模具的凹凸面。其基于以下等理由通過(guò)研磨，最外表面產(chǎn)生平坦的部分，因此有可能導(dǎo)致光學(xué)特性的惡化，而且形狀的控制因素增加，因此再現(xiàn)性好的形狀控制變得困難。這樣，通過(guò)對(duì)形成了微細(xì)表面凹凸形狀的表面實(shí)施鍍鉻，獲得使凹凸形狀鈍化且其表面硬度提高的模具。此時(shí)的凹凸的鈍化情況，因基底金屬的種類、由第1蝕刻工序得到的凹凸的尺寸和深度、以及鍍敷的種類、厚度等而異，因此不能一概而論，在控制鈍化情況方面最大的因素仍是鍍敷厚度。如果鍍鉻的厚度薄，使鍍鉻加工前得到的凹凸的表面形狀鈍化的效果不足，將其凹凸形狀轉(zhuǎn)印而得到的防眩膜的光學(xué)特性不會(huì)太好。另一方面，如果鍍敷厚度過(guò)厚，生產(chǎn)率變差，此外，產(chǎn)生稱為結(jié)狀物的突起狀的鍍敷缺陷，因此不優(yōu)選。因此，鍍鉻的厚度優(yōu)選為1 ΙΟμπι的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為3 6μπι的范圍內(nèi)。該第2鍍敷工序中形成的鉻鍍層，優(yōu)選以維氏硬度達(dá)到800以上的方式形成，更優(yōu)選以達(dá)到1000以上的方式形成。鉻鍍層的維氏硬度小于800時(shí)，模具使用時(shí)的耐久性降低，而且因鍍鉻而使硬度降低，這是因?yàn)樵阱兎筇幚頃r(shí)鍍?cè)〗M成、電解條件等中產(chǎn)生異常的可能性高，對(duì)于缺陷的發(fā)生狀況也給予不可取的影響的可能性高。此外，用于制作本發(fā)明的防眩膜的模具的制造方法中，優(yōu)選在上述[7]感光性樹(shù)脂膜剝離工序和[8]第2鍍敷工序之間包含通過(guò)蝕刻處理使由第1蝕刻工序形成的凹凸面鈍化的第2蝕刻工序。第2蝕刻工序中，通過(guò)蝕刻處理使由將感光性樹(shù)脂膜用作掩模的第 1蝕刻工序形成的第1表面凹凸形狀15鈍化。通過(guò)該第2蝕刻處理，由第1蝕刻處理形成的第1表面凹凸形狀15中的表面傾斜極陡的部分消失，使用得到的模具制造的防眩膜的光學(xué)特性向優(yōu)選的方向變化。圖14中示出了通過(guò)第2蝕刻處理，模具用基材7的第1表面凹凸形狀15鈍化，使表面傾斜極陡的部分鈍化，形成具有緩和的表面傾斜的第2表面凹凸形狀18的狀態(tài)。第2蝕刻工序的蝕刻處理也與第1蝕刻工序一樣，通常通過(guò)使用氯化鐵(FeCl3) 液、氯化銅(CuCl2)液、堿蝕刻液(Cu(NH3)4Cl2)等，將表面腐蝕而進(jìn)行，但也可以使用鹽酸、 硫酸等強(qiáng)酸，也可以使用通過(guò)施加與電解鍍時(shí)相反的電位的反電解蝕刻。實(shí)施了蝕刻處理后的凹凸的鈍化情況，因基底金屬的種類、蝕刻手法和由第1蝕刻工序得到的凹凸的尺寸和深度等而異，因此不能一概而論，控制鈍化情況方面最大的因素是蝕刻量。這里所說(shuō)的蝕刻量，也與第1蝕刻工序一樣是由蝕刻削減的基材的厚度。如果蝕刻量小，使由第1蝕刻工序得到的凹凸的表面形狀鈍化的效果不足，將其凹凸形狀轉(zhuǎn)印而得到的防眩膜的光學(xué)特性不會(huì)太好。另一方面，如果蝕刻量過(guò)大，凹凸形狀幾乎不存在，成為大致平坦的模具，因此無(wú)法顯示防眩性。因此，蝕刻量?jī)?yōu)選為1 50μπι的范圍內(nèi)，此外，為了得到具有包含95%以上的傾斜角度為5°以下的面的微細(xì)凹凸表面的防眩膜，更優(yōu)選為4 20 μ m的范圍內(nèi)。對(duì)于第2蝕刻工序中的蝕刻處理，也與第1蝕刻工序一樣，可以通過(guò)1次的蝕刻處理來(lái)進(jìn)行， 也可以分2次以上來(lái)進(jìn)行蝕刻處理。分2次以上進(jìn)行蝕刻處理時(shí)，優(yōu)選使2次以上的蝕刻處理中的蝕刻量的合計(jì)為上述范圍內(nèi)。〈防眩性偏振板〉本發(fā)明的防眩膜，顯示優(yōu)異的防眩性，顯現(xiàn)良好的對(duì)比度，而且能夠有效地防止
18“泛白”和“晃眼”的發(fā)生引起的視認(rèn)性的下降，因此安裝于圖像顯示裝置時(shí)視認(rèn)性優(yōu)異。圖像顯示裝置為液晶顯示器的情況下，可將該防眩膜應(yīng)用于偏振板。即，偏振板一般多為在使碘或二色性染料吸附取向的聚乙烯醇系樹(shù)脂膜所構(gòu)成的偏光膜的至少單面貼合有保護(hù)膜的形態(tài)，用本發(fā)明的防眩膜構(gòu)成其一方的保護(hù)膜。通過(guò)將偏光膜和本發(fā)明的防眩膜在該防眩膜的基材膜側(cè)加以貼合，能夠制成防眩性偏振板。這種情況下，偏光膜的另一個(gè)面可以是什么都沒(méi)層合的狀態(tài)，也可以層合保護(hù)膜或其他的光學(xué)膜，而且還可以層合用于貼合于液晶單元的粘合劑層。此外，在偏光膜的至少單面貼合有保護(hù)膜的偏振板的該保護(hù)膜上，將本發(fā)明的防眩膜在其基材膜側(cè)加以貼合，也可制成防眩性偏振板。進(jìn)而，在偏光膜的至少單面貼合有保護(hù)膜的偏振板中，作為該保護(hù)膜將上述基材膜貼合于偏光膜后，在該基材膜上形成防眩層，從而也能夠制成防眩性偏振板。實(shí)施例 以下舉出實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的說(shuō)明，但本發(fā)明并不限定于這些實(shí)施例。 以下實(shí)施例中的防眩膜和防眩膜制造用的圖案的評(píng)價(jià)方法如下所述。[1]防眩膜的表面形狀的測(cè)定使用三維顯微鏡“PLμ 2300” (Sensofar公司制)，測(cè)定防眩膜的表面形狀。為了防止樣品的翹曲，使用光學(xué)上透明的粘合劑貼合到玻璃基板以使凹凸面成為表面后，供于測(cè)定。測(cè)定時(shí)，物鏡的倍率為10倍。水平分解能力ΔΧ和Ay均為1.66μπι，測(cè)定面積為 850μπιΧ850μπιο(標(biāo)高的能譜的比H12Al22和Η32/Η22)由以上得到的測(cè)定數(shù)據(jù)，將防眩膜的微細(xì)凹凸表面的標(biāo)高作為二元函數(shù)h(x，y) 求出，將得到的二元函數(shù)h(x，y)進(jìn)行離散傅立葉變換求出二元函數(shù)H(fx，fy)。將二元函數(shù) H(fx，fy)連乘，計(jì)算能譜的二元函數(shù)H2 (fx, fy)，由fx = 0的截面曲線即H2 (0, fy)求出空間頻率0. 01 μ πΓ1處的能譜H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的能譜H22,計(jì)算能譜的比Η/ΜΛ此外，求出空間頻率0. 1 μ πΓ1處的能譜H32,對(duì)能譜的比Η32/Η22進(jìn)行計(jì)算。(微細(xì)凹凸表面的傾斜角度)以上述得到的測(cè)定數(shù)據(jù)為基礎(chǔ)，基于上述的算法進(jìn)行計(jì)算，制作凹凸面的傾斜角度的柱狀圖，由其求出每個(gè)傾斜角度的分布，計(jì)算傾斜角度為5°以下的面的比例。[2]防眩膜的光學(xué)特性的測(cè)定(霧度)防眩膜的霧度采用JIS K 7136中規(guī)定的方法進(jìn)行測(cè)定。具體地，使用按照該規(guī)格的霧度計(jì)“ΗΜ-150型”(村上色彩技術(shù)研究所制)測(cè)定霧度。為了防止防眩膜的翹曲，使用光學(xué)上透明的粘合劑貼合到玻璃基板以使凹凸面成為表面后，供于測(cè)定。通常霧度越大，應(yīng)用于圖像顯示裝置時(shí)圖像越暗，其結(jié)果，正面對(duì)比度容易降低。因此，優(yōu)選霧度低。[3]防眩膜的機(jī)械強(qiáng)度(鉛筆硬度)和透濕度的測(cè)定(鉛筆硬度)防眩膜的鉛筆硬度采用JIS Κ5600-5-4中規(guī)定的方法進(jìn)行測(cè)定。具體地，使用按照該標(biāo)準(zhǔn)的電動(dòng)鉛筆劃痕硬度試驗(yàn)機(jī)((株)安田精機(jī)制作所制)在荷重500g下測(cè)定。(透濕度)防眩膜的透濕度采用JIS Z0208中規(guī)定的方法在溫度40°C、相對(duì)濕度90%的條件
19下進(jìn)行測(cè)定。[4]防眩膜的防眩性能的評(píng)價(jià)(映入、泛白的目視評(píng)價(jià))為了防止來(lái)自防眩膜的背面的反射，將防眩膜貼合于黑色丙烯酸類樹(shù)脂板以使凹凸面成為表面，在帶有熒光燈的明亮的室內(nèi)從凹凸面?zhèn)扔媚恳曈^察，目視評(píng)價(jià)有無(wú)熒光燈的映入、泛白的程度。映入和泛白分別用1到3的3等級(jí)按以下基準(zhǔn)進(jìn)行評(píng)價(jià)。映入1 沒(méi)有觀察到映入。2:略微觀察到映入。3:清楚地觀察到映入。泛白1 沒(méi)有觀察到泛白。2:略微觀察到泛白。3:清楚地觀察到泛白。(晃眼的評(píng)價(jià))采用以下的方法評(píng)價(jià)晃眼。即，從市售的液晶電視(LC_32GH3(夏普(株)制)剝離表背兩面的偏振板。代替這些原始偏振板，背面?zhèn)群惋@示面?zhèn)染ㄟ^(guò)粘合劑貼合偏振板 “^ ^ 7 > SRDB31E”(住友化學(xué)(株)制)以使各自的吸收軸與原始的偏振板的吸收軸一致，進(jìn)而在顯示面?zhèn)绕癜迳贤ㄟ^(guò)粘合劑貼合以下的各例中所示的防眩膜以使凹凸面成為表面。在該狀態(tài)下，從距離樣品約30cm的位置進(jìn)行目視觀察，用7等級(jí)對(duì)晃眼的程度進(jìn)行官能評(píng)價(jià)。水平1是完全沒(méi)有發(fā)現(xiàn)晃眼的狀態(tài)，水平7相當(dāng)于顯著地觀察到晃眼的狀態(tài)， 水平3是相當(dāng)少地觀察到晃眼的狀態(tài)。[5]防眩膜制造用的圖案的評(píng)價(jià)用二元的離散函數(shù)g(x，y)表示制作的圖案數(shù)據(jù)的灰度等級(jí)。離散函數(shù)g(x，y)的水平分解能力ΔΧ和Ay均為2μπι。將得到的二元離散函數(shù)g (X，y)進(jìn)行離散傅立葉變換， 求出二元函數(shù)G(fx，fy)。將二元函數(shù)G(fx，fy)連乘，計(jì)算能譜的二元函數(shù)G2 (fx，仁)，由fx =0的截面曲線G2(0，fy)，對(duì)空間頻率大于0 μ πΓ1且為0. 04μ πΓ1以下的空間頻率范圍內(nèi)的最大值的有無(wú)進(jìn)行評(píng)價(jià)。〈實(shí)施例1>(防眩膜制造用的模具的制作)準(zhǔn)備其表面實(shí)施了銅巴拉德、)”一 F )鍍敷的直徑200mm的鋁輥(根據(jù)JIS的 A5056)。銅巴拉德鍍敷由銅鍍層/薄銀鍍層/表面銅鍍層組成，鍍層整體的厚度設(shè)定為約 200 μ m。對(duì)其鍍銅表面進(jìn)行鏡面研磨，在經(jīng)研磨的鍍銅表面涂布感光性樹(shù)脂，進(jìn)行干燥而形成感光性樹(shù)脂膜。接著，用激光對(duì)將圖15中所示的由圖像數(shù)據(jù)構(gòu)成的圖案多個(gè)連續(xù)地反復(fù)并列而成的圖案曝光于感光性樹(shù)脂膜上，進(jìn)行顯影。采用激光的曝光和顯影使用“Laser Stream FX”((株)Think Laboratory制)進(jìn)行。將正型的感光性樹(shù)脂用于感光性樹(shù)脂膜。 圖15中所示的圖案是對(duì)于將多個(gè)點(diǎn)徑為12μπι的點(diǎn)無(wú)規(guī)配置的圖案，應(yīng)用將空間頻率為 0. 04 μ πι"1以下的低空間頻率成分和0. ΙμπΓ1以上的高空間頻率成分除去的帶通濾波器而作成的。然后，用氯化銅液進(jìn)行了第1蝕刻處理(蝕刻量3μπι)。從第1蝕刻處理后的輥除去感光性樹(shù)脂膜，再次用氯化銅液進(jìn)行第2蝕刻處理(蝕刻量10μπι)。然后，進(jìn)行鍍鉻加工，以使鍍鉻厚度為4 μ m，制作模具A。(基材膜的制作)將使甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸甲酯=96/4(重量比)的共聚物(折射率1.49)70 重量份中含有丙烯酸類橡膠粒子30重量份的丙烯酸系樹(shù)脂組合物用第1擠出機(jī)(螺桿直徑65_、單螺桿、帶通氣口(東芝機(jī)械(株)制))熔融混煉，提供給到進(jìn)料塊。此外，將使甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸甲酯=96/4(重量比)的共聚物(折射率1.49) 70重量份中含有丙烯酸類橡膠粒子30重量份的丙烯酸系樹(shù)脂組合物用第2擠出機(jī)(螺桿直徑45mm、單螺桿、 帶通氣口(日立造船(株)制))熔融混煉，提供給進(jìn)料塊。在265°C下進(jìn)行共擠出成型，以使從第1擠出機(jī)提供給進(jìn)料塊的樹(shù)脂成為中間層，從第2擠出機(jī)提供給進(jìn)料塊的樹(shù)脂成為表層(兩面)，通過(guò)設(shè)定成85°C的輥單元，制作厚度為80 μ m(中間層50 μ m、表層15 μ mX 2) 的3層構(gòu)造的基材膜A。(防眩層的形成)將光固化性樹(shù)脂組合物“GRANDIC 806T”(大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)制)溶解于醋酸乙酯中，制成50重量％濃度的溶液，進(jìn)而將作為光聚合引發(fā)劑的“Lucirin TPO" (BASF 公司制、化學(xué)名2，4，6_三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦)以每100重量份固化性樹(shù)脂成分添加5重量份，調(diào)制涂布液。在基材膜A上涂布該涂布液以使干燥后的涂布厚度為6 μ m，在設(shè)定為60°C的干燥機(jī)中干燥3分鐘。用橡膠輥將干燥后的基材膜A壓靠密合于前面得到的模具A的凹凸面以使光固化性樹(shù)脂組合物層成為模具側(cè)。在該狀態(tài)下從基材膜A側(cè)，照射強(qiáng)度20mW/cm2的來(lái)自高壓水銀燈的光以使按h線換算光量計(jì)為200mJ/cm2，使光固化性樹(shù)脂組合物層固化。然后，將基材膜A與固化樹(shù)脂一起從模具剝離，制作得到了由表面具有凹凸的固化樹(shù)脂(防眩層)和基材膜A的層合體構(gòu)成的透明的防眩膜A?！磳?shí)施例2>在模具制作的曝光工序中，在感光性樹(shù)脂膜上用激光曝光將圖16中所示的圖像數(shù)據(jù)構(gòu)成的圖案多個(gè)連續(xù)反復(fù)并列而成的圖案，將第1蝕刻處理中的蝕刻量設(shè)定為5 μ m， 將第2蝕刻處理中的蝕刻量設(shè)定為12 μ m，除此以外，與實(shí)施例1同樣地制作模具B。除了使用了得到的模具B以外，與實(shí)施例1同樣地制作防眩膜B。圖16中所示的圖案是應(yīng)用了對(duì)于將點(diǎn)徑為12 μ m的多個(gè)點(diǎn)無(wú)規(guī)配置而成的圖案將空間頻率為0. 035 μ πΓ1以下的低空間頻率成分和0. 135 μ πΓ1以上的高空間頻率成分除去的帶通濾波器而作成的。<比較例1>除了代替基材膜A而使用了厚度80 μ m的三乙酰纖維素(TAC)膜以外，與實(shí)施例 1同樣地制作防眩膜C。〈比較例2>將直徑300mm的鋁輥(根據(jù)JIS的A5056)的表面進(jìn)行鏡面研磨，對(duì)于研磨過(guò)的鋁面，使用噴砂裝置((株)不二制作所制)，將氧化鋯珠粒TZ-SX-17(東曹(株)制、平均粒徑20 μ m)以噴砂壓力0. IMPa (表壓)、珠粒使用量8g/cm2 (每Icm2輥的表面積的使用量) 噴砂，使表面產(chǎn)生凹凸。對(duì)于得到的帶凹凸的鋁輥，進(jìn)行無(wú)電解鍍鎳加工，制作模具C。此時(shí)，將無(wú)電解鍍鎳厚度設(shè)定為15 μ m。除了使用得到的模具C以外，與實(shí)施例1同樣地制作防眩膜D。將對(duì)于得到的防眩膜A D的上述[1] [4]的測(cè)定·評(píng)價(jià)結(jié)果匯總于表1。此外，圖17中示出了由在實(shí)施例1的模具A和實(shí)施例2的模具B的制作中使用的圖案得到的能譜G2 (fx，fy)的fx = 0的截面。由圖17可知，實(shí)施例1的模具A和實(shí)施例2的模具B的制作中使用的圖案的能譜在大于0 μ πΓ1且0. 04 μ πΓ1以下的空間頻率范圍中沒(méi)有顯示最大值。表權(quán)利要求
1.一種防眩膜，其具有基材膜、和在所述基材膜上層合的具有凹凸表面的防眩層，其中，所述基材膜含有丙烯酸系樹(shù)脂，空間頻率0. 01 μ πΓ1處的所述凹凸表面的標(biāo)高的能譜H12與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的所述凹凸表面的標(biāo)高的能譜H22之比H12Al22為3 20的范圍內(nèi)，空間頻率0. 1 μ πΓ1處的所述凹凸表面的標(biāo)高的能譜H32與空間頻率0. 04 μ πΓ1處的所述凹凸表面的標(biāo)高的能譜H22之比Η32/Η22為0. 1以下，并且所述凹凸表面包含95%以上的傾斜角度為5°以下的面。
2.如權(quán)利要求1所述的防眩膜，其中， 所述基材膜的厚度為20 μ m以上100 μ m以下。
3.如權(quán)利要求1所述的防眩膜，其中， 所述基材膜含有丙烯酸類橡膠粒子。
4.一種防眩性偏振板，其具有權(quán)利要求1所述的防眩膜、和在所述基材膜的與所述防眩層相反側(cè)的面層合的偏光膜。
全文摘要
本發(fā)明提供防眩膜以及使用其的防眩性偏振板，該防眩膜具有基材膜、和在該基材膜上層合的具有凹凸表面的防眩層，其中，該基材膜含有丙烯酸系樹(shù)脂，空間頻率0.01μm-1處的該凹凸表面的標(biāo)高的能譜H12與空間頻率0.04μm-1處的能譜H22之比H12/H22為3～20的范圍內(nèi)，空間頻率0.1μm-1處的能譜H32與能譜H22之比H32/H22為0.1以下，該凹凸表面包含95％以上的傾斜角度為5°以下的面。
文檔編號(hào)C08L33/00GK102193113SQ201110060888
公開(kāi)日2011年9月21日 申請(qǐng)日期2011年3月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月11日
發(fā)明者古谷勉, 神崎昌, 神野亨, 藤井貴志 申請(qǐng)人:住友化學(xué)株式會(huì)社