相位差膜的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明的目的是提供一種更簡(jiǎn)單且簡(jiǎn)便的相位差膜的制造方法，該相位差膜的制造方法的特征在于，包括：在基板上涂布包含具有光反應(yīng)性基團(tuán)的液晶性聚合物和溶劑的組合物的工序；通過(guò)對(duì)該組合物進(jìn)行減壓干燥或者在自然干燥后進(jìn)行加熱干燥，從而蒸發(fā)除去該組合物中的溶劑，形成光反應(yīng)性層的工序；對(duì)該光反應(yīng)性層照射直線偏振光，形成熱取向性層的工序；對(duì)該熱取向性層進(jìn)行加熱處理的工序。
【專利說(shuō)明】相位差膜的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及相位差膜的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái)，相位差膜在顯示器(除液晶顯示器外也包括柔性顯示器等)領(lǐng)域內(nèi)以各種各樣的形式使用。該相位差膜通常是在基板上形成具有液晶取向能力的層(液晶取向?qū)?后，在該液晶取向?qū)由贤坎家壕曰衔?，使其取向而制成的。這種情況下，作為在基板上賦予液晶取向?qū)拥姆椒ǎ阎缭诨宓谋砻姹桓簿埘啺返雀叻肿訕?shù)脂膜、沿著一個(gè)方向用布等對(duì)其進(jìn)行摩擦的摩擦處理，但該方法中存在如下問(wèn)題:因微細(xì)塵埃的產(chǎn)生而導(dǎo)致的液晶制造流水線的污染、因靜電而導(dǎo)致的TFT(薄膜晶體管)元件的破壞等成為引起液晶面板的制造工序中的成品率下降的原因，難以進(jìn)行定量的取向控制等。此外，替代摩擦處理，也提出了多種使用光反應(yīng)性化合物、將其被覆在基板上、通過(guò)光照射來(lái)形成具有液晶取向能力的光取向膜的方法(專利文獻(xiàn)I?3)。但是，其中的任一種方法都需要另行制作用于使液晶取向的膜，很繁瑣。
[0003]因此，研究了無(wú)需另行形成液晶取向?qū)佣苯拥玫较辔徊钅さ姆椒ā＠?，專利文獻(xiàn)4中記載了如下制造方法:將形成于基材上的包含能體現(xiàn)出液晶性的感光性化合物的感光性層加熱至各向同性相變溫度以上后，從該狀態(tài)驟冷至玻璃相-液晶相相變溫度以下，照射偏振光，進(jìn)行加熱處理，從而得到相位差膜。但是，該方法中存在如果無(wú)法實(shí)現(xiàn)迅速的冷卻、則相位差膜的品質(zhì)下降等問(wèn)題，要求提供更簡(jiǎn)便且可靠的方法。
[0004]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平08-015681號(hào)公報(bào)
[0005]專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2007-304215號(hào)公報(bào)
[0006]專利文獻(xiàn)3:日本特開(kāi)2008-276149號(hào)公報(bào)
[0007]專利文獻(xiàn)4:日本特開(kāi)2009-109757號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]在上述背景下，本發(fā)明的目的是提供一種更簡(jiǎn)單且簡(jiǎn)便的相位差膜的制造方法。此外，本發(fā)明的目的是提供一種能在該相位差膜的制造中使用的新型相位差膜用組合物。
[0009]本發(fā)明人進(jìn)行了認(rèn)真研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，將包含具有光反應(yīng)性基團(tuán)的液晶性聚合物和溶劑的組合物涂布于基板、從該涂膜蒸發(fā)除去除去溶劑時(shí)，如果進(jìn)行減壓干燥、或者在自然干燥后進(jìn)行加熱干燥，則經(jīng)過(guò)后續(xù)的直線偏振光照射、加熱處理，能直接制成相位差膜，并進(jìn)一步反復(fù)進(jìn)行研究，從而完成了本發(fā)明。
[0010]S卩，本發(fā)明涉及:
[0011]〔I〕相位差膜的制造方法，其特征在于，包括:
[0012]在基板上涂布包含具有光反應(yīng)性基團(tuán)的液晶性聚合物和溶劑的組合物的工序；
[0013]通過(guò)對(duì)該組合物進(jìn)行減壓干燥、或者在自然干燥后進(jìn)行加熱干燥，從而蒸發(fā)除去該組合物中的溶劑，形成光反應(yīng)性層的工序；[0014]對(duì)該光反應(yīng)性層照射直線偏振光，形成熱取向性層的工序；
[0015]對(duì)該熱取向性層進(jìn)行加熱處理的工序。
[0016]〔2〕上述〔I〕的制造方法，其中，形成光反應(yīng)性層的工序是通過(guò)對(duì)該組合物進(jìn)行減壓干燥，從而蒸發(fā)除去該組合物中的溶劑的工序。
[0017]〔3〕相位差膜用組合物，其包含具有通式(I)表示的重復(fù)單元的共聚性(甲基)丙
烯酸聚合物，
[0018]
【權(quán)利要求】
1.相位差膜的制造方法，其特征在于，包括以下工序: 涂布工序，在基板上涂布包含具有光反應(yīng)性基團(tuán)的液晶性聚合物和溶劑的組合物；光反應(yīng)性層形成工序，通過(guò)對(duì)所述組合物進(jìn)行減壓干燥、或者在自然干燥后進(jìn)行加熱干燥，從而蒸發(fā)除去該組合物中的溶劑，形成光反應(yīng)性層； 熱取向性層形成工序，對(duì)所述光反應(yīng)性層照射直線偏振光，形成熱取向性層； 熱取向性層加熱處理工序，對(duì)所述熱取向?qū)舆M(jìn)行加熱處理。
2.如權(quán)利要求1所述的制造方法，其中，光反應(yīng)性層形成工序是通過(guò)對(duì)所述組合物進(jìn)行減壓干燥，從而蒸發(fā)除去所述組合物中的溶劑的工序。
3.相位差膜用組合物，其包含具有通式(I)表示的重復(fù)單元的共聚性(甲基)丙烯酸聚合物，
4.相位差膜用組合物，其包含具有通式(1-a)表示的重復(fù)單元的共聚性(甲基)丙烯酸聚合物，
5.相位差膜用組合物，其包含具有通式(1-b)表示的重復(fù)單元的共聚性(甲基)丙烯酸聚合物，
6.相位差膜用組合物，其包含具有通式(Ι-c)表示的重復(fù)單元的共聚性(甲基)丙烯酸聚合物，
【文檔編號(hào)】C08F220/30GK103443668SQ201280004819
【公開(kāi)日】2013年12月11日 申請(qǐng)日期:2012年2月20日 優(yōu)先權(quán)日:2011年2月23日
【發(fā)明者】椿幸樹(shù), 阿波茂樹(shù), 小林武史, 松山剛知, 川月喜弘 申請(qǐng)人:大阪有機(jī)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社, 兵庫(kù)縣