光學膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于光學補償?shù)拇姿崂w維素膜和用于其中的延遲增強劑，以及涉及一種具有在厚度方向上的高延遲值(Rth)的醋酸纖維素膜。
【專利說明】光學膜
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于光學補償?shù)墓鈱W膜，更具體地，涉及一種具有在厚度方向上的高延遲(Rth)的醋酸纖維素膜。
[0002]此外，本發(fā)明涉及通過使用所述光學膜的光學補償片、偏振板、用于三維成像的濾光器和液晶顯不器 。
【背景技術(shù)】
[0003]醋酸纖維素膜具有強的強度和阻燃性，因此，其用于各種圖片或光學材料。醋酸纖維素膜與其他聚合物膜相比具有低光學各向異性，因此其提供了相對低的延遲。因此，醋酸纖維素膜已經(jīng)用于偏振板等。
[0004]US專利公開公布N0.2008 / 0173215公開了具有優(yōu)異耐光性的醋酸纖維素膜，韓國專利公開公布N0.2011-0075980公開了包含延遲改進劑的醋酸纖維素膜。
[0005]在垂直取向(VA)模式中，透明電極形成于上板和下板上。由于偏振板與上板和下板的外表面附接，使得其光軸彼此垂直，所以初始取向方向彼此垂直，當不向其施加電場時，貝1J造成完全暗態(tài)。如果向其施加電場，那么液晶指向矢(director)適當?shù)刂嘏懦蓮亩构馔ㄟ^其傳輸。該VA模式液晶顯示器的光學補償膜需要高各向異性，即高延遲。
[0006]同時，雖然US專利公開公布N0.2010 / 0208181公開了包含甚至在VA模式中以寬視角能夠有高對比度的化合物的醋酸纖維素膜，但是仍需要具有優(yōu)異光學特性的醋酸纖維素膜。
[0007]技術(shù)問題
[0008]本發(fā)明的一個實施方案提供了具有厚度方向的高延遲值的光學膜。更具體地，本發(fā)明的一個實施方案涉及提供能夠用于VA模式液晶顯示器并且改進VA模式LCD面板的視角和對比度特性的光學膜。
[0009]另外，本發(fā)明的一個實施方案提供了用于滿足這些光學特性的延遲添加劑。
[0010]另外，本發(fā)明的一個實施方案提供了通過使用所述光學膜的光學補償片、用于三維成像的濾光器、偏振板和液晶顯示器。
[0011]技術(shù)解決方案
[0012]本發(fā)明涉及具有優(yōu)異光學特性的光學膜，所述光學膜包含至少一種選自以下化學式I的化合物的添加劑。
[0013]在一個總的方面中，光學膜包含至少一種選自以下化學式I的化合物的添加劑:
[0014][化學式I]
[0015]
【權(quán)利要求】
1.一種光學膜，包含至少一種選自以下化學式I的化合物的添加劑: [化學式I]
2.如權(quán)利要求1所述的光學膜，其中所述化學式I的化合物由以下化學式2的化合物表不: [化學式2]
3.如權(quán)利要求2所述的光學膜，其中化學式2由以下化學式3至6中的任一個表示: [化學式3]
4.如權(quán)利要求3所述的光學膜，其中 L1至L4各自獨立地為單鍵，或選自O(shè)和C=O ； R41至R44各自獨立地為氫、(Cl-ClO)烷基、(Cl-ClO)烷氧基或
5.如權(quán)利要求1所述的光學膜，其中所述化學式I的化合物選自以下結(jié)構(gòu):
6.一種光學膜，包含含有至少兩個取代基的芳香環(huán)，其中至少兩個取代基包括形成分子內(nèi)氫鍵鍵合的化合物。
7.如權(quán)利要求1所述的光學膜，其中所述化合物通過分子內(nèi)氫鍵鍵合形成類似芳香環(huán)。
8.如權(quán)利要求1所述的光學膜，其中其具有滿足以下式⑴和(II)的Rth(A):
(I)50≤Rth (550) ≤ 500
(II)Rth(700)/ Rth(550) > 1.0 在上式中，Rth(A)為在波長λ nm下在所述膜的厚度方向上的延遲值(單位:nm)。
9.如權(quán)利要求1至8中任一項所述的光學膜，其中其為醋酸纖維素膜。
10.一種用于光學膜的組合物，按100重量份的基礎(chǔ)樹脂計，包含I至15重量份的作為延遲添加劑的選自以下化學式I的化合物中的至少一種: [化學式I]
11.如權(quán)利要求10所述的組合物，還包含任意一種或兩種或更多種選自UV抑制劑、細顆粒、增塑劑、劣化抑制劑、剝色劑、紅外吸收劑和光學各向異性控制劑的添加劑。
12.一種通過使用如權(quán)利要求10或11所述的用于光學膜的組合物制備的光學膜。
13.如權(quán)利要求1至8中任一項所述的光學膜，其中其用于光學補償片、用于三維成像的濾光器、偏振板和液晶顯示器。
14.一種包含如權(quán)利要求1至8中任一項所述的光學膜的顯示裝置。
【文檔編號】C08J5/18GK103649181SQ201280030269
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2012年6月20日 優(yōu)先權(quán)日:2011年6月20日
【發(fā)明者】金源曄, 林珉貞, 李承彥, 金明來, 趙容均, 李相燁, 金琦燁 申請人:Sk新技術(shù)株式會社