聚碳酸酯共聚物以及使用其的涂布液和電子照相感光體的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供聚碳酸酯共聚物,其特征在于,具有下述通式(1)表示的重復(fù)單元A、下述通式(2)表示的重復(fù)單元B、和下述通式(3)表示的重復(fù)單元C,Ar1/(Ar1+Ar2+Ar3)所表示的存在比為50~65摩爾%,Ar2/(Ar1+Ar2+Ar3)所表示的存在比為25~45摩爾%,Ar3/(Ar1+Ar2+Ar3)所表示的存在比為3~25摩爾%,并且,該重復(fù)單元B之間不直接鍵合;以及使用其而成的涂布液和電子照相感光體,由此提供電子照相特性良好,保持在有機(jī)溶劑中的穩(wěn)定的溶解性,而且耐磨耗性顯著提高的聚碳酸酯共聚物,以及使用其而成的涂布液和電子照相感光體(式中Ar1、Ar2和Ar3分別獨(dú)立地表示二價(jià)的芳香族基;X1和X2分別獨(dú)立地表示單鍵或-NH-。其中,Ar1和Ar2不相同)。
【專利說(shuō)明】聚碳酸酯共聚物以及使用其的涂布液和電子照相感光體
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及機(jī)械性質(zhì)、溶解性優(yōu)異的聚碳酸酯共聚物以及使用其的涂布液和電子照相感光體。
【背景技術(shù)】
[0002]聚碳酸酯樹(shù)脂由于機(jī)械性質(zhì)、熱性質(zhì)、電性質(zhì)優(yōu)異,因此在各種產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域中被用于成型品的原材料。近年來(lái)伴隨用途領(lǐng)域的擴(kuò)大,對(duì)聚碳酸酯樹(shù)脂的性能要求也變得多樣化。對(duì)于這種要求,只采用一直以來(lái)使用的以2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷(雙酚A)、l,l-雙(4-羥基苯基)環(huán)己烷(雙酚Z)等為原料的聚碳酸酯有時(shí)不能充分應(yīng)對(duì),因此,根據(jù)該用途、要求特性提出了具有各種化學(xué)結(jié)構(gòu)的聚碳酸酯樹(shù)脂。
[0003]作為這種功能性的產(chǎn)品,有將聚碳酸酯樹(shù)脂作為電荷發(fā)生材料、電荷傳輸材料這樣的功能性材料的粘合劑樹(shù)脂來(lái)使用的電子照相感光體。
[0004]對(duì)于該電子照相感光體,根據(jù)所應(yīng)用的電子照相工藝,要求具備規(guī)定的靈敏度、電學(xué)特性、光學(xué)特性。在該電子照相感光體中,由于在其感光層的表面反復(fù)進(jìn)行電暈帶電、調(diào)色劑顯影、對(duì)紙的轉(zhuǎn)印、清潔處理等操作,每次進(jìn)行這些操作都會(huì)施加電學(xué)的、機(jī)械的外力。因此,為了長(zhǎng)期維持電子照相的畫質(zhì),對(duì)于在電子照相感光體的表面上設(shè)置的感光層,要求其對(duì)這些外力具有耐久性。而且,由于電子照相感光體是通過(guò)將一般功能性材料和粘合劑樹(shù)脂一起溶解于有機(jī)溶劑,鑄塑成膜于導(dǎo)電性基板等的方法來(lái)制造的,因此要求對(duì)有機(jī)溶劑的溶解性-穩(wěn)定性。 [0005]將以上述雙酚A、雙酚Z等作為原料的聚碳酸酯樹(shù)脂作為電子照相感光體用粘合劑樹(shù)脂使用時(shí),在耐久性方面不能充分滿足。因此,為了應(yīng)對(duì)這種要求,出現(xiàn)多種方法。作為用于提高感光層的耐摩耗性的有效的技術(shù),已知聚碳酸酯共聚物。
[0006]作為一個(gè)實(shí)例,在專利文獻(xiàn)I中,作為耐摩耗性優(yōu)異的粘合劑樹(shù)脂,公開(kāi)了具有雙酚Z骨架和聯(lián)苯骨架的聚碳酸酯共聚物。但是,由于近年來(lái)的復(fù)印機(jī)的性能提高,進(jìn)一步要求耐摩耗性的提高。
[0007]因此,使用降低了聚碳酸酯低聚物的單體數(shù)的原料,同時(shí)提高使有利于耐摩耗性的骨架的共聚比提高的聚碳酸酯共聚物被開(kāi)發(fā),并公開(kāi)于專利文獻(xiàn)2。
[0008]另一方面,作為通過(guò)聚碳酸酯共聚物以外的結(jié)構(gòu)而提高電子照相感光體的電特性的技術(shù),專利文獻(xiàn)3中公開(kāi)了由聚碳酸酯低聚物和芳香族二胺構(gòu)成的含氨基甲酸酯鍵的聚碳酸酯。
[0009]另外,在專利文獻(xiàn)4中,公開(kāi)了具有來(lái)自特定結(jié)構(gòu)的二元酚的聚碳酸酯單元和來(lái)自特定結(jié)構(gòu)的二元羧酸的聚酯單元的聚酯聚碳酸酯。
[0010]但是,這些公開(kāi)的發(fā)明耐摩耗性不充分、或在電特性、涂液的穩(wěn)定性等方面存在問(wèn)題。
[0011]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I:日本特開(kāi)平4-179961 專利文獻(xiàn)2:國(guó)際公開(kāi)W02010/150885 專利文獻(xiàn)3:日本特開(kāi)2011-12129 專利文獻(xiàn)4:日本特開(kāi)平8-123049。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0012]發(fā)明要解決的問(wèn)題
本發(fā)明是基于上述情況而成的發(fā)明,其目的在于提供保持在有機(jī)溶劑中的穩(wěn)定的溶解性、且提高耐摩耗性的聚碳酸酯共聚物、以及使用其而成的涂布液和電子照相感光體。
[0013]解決問(wèn)題的方法
本發(fā)明人反復(fù)進(jìn)行認(rèn)真研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過(guò)使用具有有利于耐摩耗性和溶解性的碳酸酯骨架和該骨架以外的碳酸酯骨架、以及具有碳酸酯鍵以外的第三鍵合基團(tuán)的骨架的共聚物,能解決上述課題,從而完成本發(fā)明。
[0014]即本發(fā)明提供:
1.聚碳酸酯共聚物,其特征在于,具有下述通式(I)表示的重復(fù)單元A、下述通式(2)表示的重復(fù)單元B、和下述通式(3)表示的重復(fù)單元C,Ar1/ (Ar1 + Ar2 + Ar3)所表示的存在比為50~65摩爾%,Ar2/ (Ar1 + Ar2 + Ar3)所表示的存在比為25~45摩爾%,Ar3/(Ar1 + Ar2 + Ar3)所表示的存在比為3~25摩爾%,并且,該重復(fù)單元B之間不直接鍵合,
【權(quán)利要求】
1.聚碳酸酯共聚物,其特征在于,具有下述通式(I)表示的重復(fù)單元A、下述通式(2)表示的重復(fù)單元B、和下述通式(3)表示的重復(fù)單元C,Ar1/ (Ar1 + Ar2 + Ar3)所表示的存在比為50~65摩爾%,Ar2/ (Ar1 + Ar2 + Ar3)所表示的存在比為25~45摩爾%,Ar3/(Ar1 + Ar2 + Ar3)所表示的存在比為3~25摩爾%,并且,該重復(fù)單元B之間不直接鍵合, [化I]
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚碳酸酯共聚物,所述Ar1由下述通式(4)表示,
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的聚碳酸酯共聚物,其特征在于,所述Ar2和Ar3分別獨(dú)立地為可以具有取代基的亞萘基或下述通式(7)表示的二價(jià)基團(tuán),
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的聚碳酸酯共聚物,所述式(4)中的X3為-CR3R4-、可以具有取代基的碳原子數(shù)5~20的亞環(huán)烷基、或可以具有取代基的碳原子數(shù)5~20的雙環(huán)或三環(huán)烴二基,并且,R3和R4分別獨(dú)立地為氫原子、碳原子數(shù)I~12的烷基。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的聚碳酸酯共聚物,所述Ar1由下述任一式表示, [化8]
6.權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的聚碳酸酯共聚物的制造方法,其特征在于,使下述式(I)表示的雙氯甲酸酯低聚物、下述式(II)表示的二元酚化合物、下述式(II1-1)表示的二胺化合物和/或下述式(II1-2)表示的?;群退峤Y(jié)合劑反應(yīng); [化9]
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的聚碳酸酯共聚物的制造方法,依次進(jìn)行第一步驟和第二步驟,所述第一步驟是使所述雙氯甲酸酯低聚物與二胺化合物和/或酰基氯接觸,所述第二步驟是使該第一步驟的反應(yīng)產(chǎn)物與所述二元酚反應(yīng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的聚碳酸酯共聚物的制造方法,所述酸結(jié)合劑的堿量相對(duì)于所述雙氯甲酸酯低聚物I摩爾為1.1~3.0摩爾當(dāng)量。
9.根據(jù)權(quán)利要求6~8中任一項(xiàng)所述的聚碳酸酯共聚物的制造方法,其還使用封端劑。
10.涂布液,其含有權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的聚碳酸酯樹(shù)脂和有機(jī)溶劑。
11.電子照相感光體,其是在導(dǎo)電性基板上設(shè)置有感光層的電子照相感光體,其特征在于,含有權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的聚碳酸酯共聚物作為該感光層的一種成分。
【文檔編號(hào)】C08G63/64GK103998486SQ201280064875
【公開(kāi)日】2014年8月20日 申請(qǐng)日期:2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月27日
【發(fā)明者】平田賢吾 申請(qǐng)人:出光興產(chǎn)株式會(huì)社