光學(xué)膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種用于光學(xué)補(bǔ)償?shù)墓鈱W(xué)膜，其中加入添加劑，使其具有在高溫和高濕度下的良好穩(wěn)定性、更好的色度、更高的霧度和更好的耐濕性以及小厚度方向相位差(Rth)。
【專利說明】光學(xué)膜

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種用于光學(xué)補(bǔ)償?shù)墓鈱W(xué)膜，更具體而言，涉及厚度方向相位差化th) 小的光學(xué)膜。
[0002] 此外，本發(fā)明涉及使用該光學(xué)膜的光學(xué)結(jié)構(gòu)和顯示裝置。

【背景技術(shù)】
[0003] 已廣泛用作光學(xué)膜的己酸纖維素膜，由于其高強(qiáng)度和阻燃性，已用于各種各樣的 照片或光學(xué)材料中。該己酸纖維素膜的光學(xué)各向異性低于其它聚合物膜，因此具有相對低 的相位差。因此該種己酸纖維素膜已用于極化板等。
[0004] 最近，對具有更高功能如圖像質(zhì)量改善的液晶顯示裝置的需求增加，而且還需要 用于作為形成液晶顯示裝置的材料的極化板的己酸纖維素膜W滿足更高的功能。具體而 言，需要在面內(nèi)切換（IPS))模式液晶顯示裝置中，確定通過改善色偏和對比率的方法提供 低光學(xué)各向異性的己酸纖維素膜化e ;膜面內(nèi)相位差，化h ;膜厚度方向相位差）。
[0005] 韓國專利特開申請?zhí)?008-0106109(專利文獻(xiàn)1)公開了允許減小厚度方向相位 差的化合物，但主要公開異下帰酸基聚合物的加入和波長色散調(diào)節(jié)器。日本專利特開申請 號2011-089005 (專利文獻(xiàn)2)公開了通過加入巧樣酸衍生物改善耐濕性的技術(shù)，但是沒有 公開減小厚度方向相位差。
[0006] 因此，需要研發(fā)一種己酸纖維素膜，使其在厚度方向相位差充分減小的同時，改善 膜的霧度化aze)、耐熱性和耐濕性。
[0007] [相關(guān)技術(shù)文獻(xiàn)]
[000引（專利文獻(xiàn)1)韓國專利特開申請?zhí)?008-0106109
[0009] (專利文獻(xiàn)2)日本專利特開申請?zhí)?011-089005


【發(fā)明內(nèi)容】

[0010] [技術(shù)問題]
[0011] 本發(fā)明的一個目的是提供光學(xué)膜，具體地，提供一種厚度方向相位差小的光學(xué)膜。 更具體而言，本發(fā)明是要提供可用于IPS模式液晶顯示裝置且其中IPS模式液晶顯示裝置 的色偏和對比率改善的光學(xué)補(bǔ)償膜。
[0012] 此外，本發(fā)明的另一個目的是提供滿足該種光學(xué)特征的添加劑。
[0013] 此外，本發(fā)明的另一個目的是提供使用該光學(xué)膜的光學(xué)結(jié)構(gòu)和顯示裝置。
[0014] [技術(shù)方案]
[0015] 在一個一般方面，提供一種光學(xué)膜，包括：
[0016] 選自由下面的化學(xué)式1表示的化合物中的至少一種，用作添加劑。
[0017] [化學(xué)式^
[0018]

【權(quán)利要求】
1. 一種光學(xué)膜，其包含： 選自由下面的化學(xué)式1表示的化合物中的至少一種，用作添加劑， [化學(xué)式1]
在化學(xué)式1中，X表示0、S或N-R5, Y表示0、S、N-R25或化學(xué)鍵，Rp R3、R5和R25各自獨 立地選自氫、（Cl-ClO)烷基、（C6-C20)芳基、（C1-C20)烷氧基、（C3-C20)環(huán)烷基、（C2-C7) 烯基、（Cl-ClO)烷氧基羰基（Cl-ClO)烷基、羰基（Cl-ClO)烷基、（C3-C20)雜環(huán)烷基和 (C4-C20)雜芳基， R2和R4各自獨立地選自氫、（Cl-ClO)烷基、（C6-C20)芳基、（C3-C20)環(huán)烷基、羰基 ((：1-(：10)烷基、（〇3-〇20)雜環(huán)烷基和（〇4-〇20)雜芳基，1?1、1?2、1? 3和1?4不同時是氫，以及 R" R2、R3、R4、R5和R25的烷基、芳基、烷氧基、環(huán)烷基、烯基、烷氧基羰基、羰基芳基、雜環(huán) 烷基和雜芳基可進(jìn)一步由選自（C1-C7)烷基、鹵素、硝基、氰基、羥基、氨基（C6-C20)芳基、 (C2-C7)烯基、（C3-C20)環(huán)烷基、（C3-C20)雜環(huán)烷基或（C4-C20)雜芳基中的至少一種來取 代。
2. 如權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)膜，其中由化學(xué)式1表示的所述化合物選自下面的化 學(xué)式2、3或4，
在化學(xué)式中，R11和R21各自獨立的選自氫、（C1-C5)烷基、（C6-C10)芳基、（C3-C20)雜 芳基、（C3-C10)雜環(huán)芳基和（C4-C10)雜芳基，R31選自氫、（C1-C5)烷基，（C6-C10)芳基，和 (Cl-ClO)烷氧基，R 41選自氫，（C1-C5)烷基，羰基（C1-C5)烷基和（C6-C10)芳基，以及 Rn、R21、R31和R41的烷基，芳基，雜芳基，烷氧基，羰基烷基，雜環(huán)芳基和雜芳基可進(jìn)一步 被選自（C1-C7)烷基，齒素，硝基、氰基、羥基和氨基中的至少一種取代。
3. 如權(quán)利要求2所述的一種光學(xué)膜，其中化學(xué)式2或3中的Rn、R21和R31各自獨立的 選自氫、（C1-C5)烷基、（C3-C20)環(huán)烷基、（C3-C20)雜環(huán)烷基、（C6-C10)芳基和（C6-C10) 雜芳基， Rn、R21和R31的烷基、環(huán)烷基、雜環(huán)烷基、芳基和雜芳基進(jìn)一步被選自（C1-C7)烷基，鹵 素，硝基、氰基、羥基和氨基中的至少一種取代， Rn、R21和R31中的至少兩種包括選自（C3-C20)雜芳基、（C6-C20)芳基、（C3-C20)雜環(huán) 芳基和（C4-C20)雜芳基中的環(huán)形取代基。
4. 如權(quán)利要求2所述的一種光學(xué)膜，其中由化學(xué)式2或3表示的所述化合物選自下面 的化學(xué)式，
5. 如權(quán)利要求2所述的一種光學(xué)膜，其中由化學(xué)式2、3或4表示的所述化合物選自下 面的化學(xué)式，
6. 如權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)膜，其中，其中ReU)和Rth(A)滿足下式⑴和 (II)， (I) O 彡 Re (587)彡 10 (II) -IO 彡 Rth(587)彡 10 在式中，Re (入）表示波長入nm下的面內(nèi)相位差（單位：nm)，Rth〇 )表示波長入nm下 的厚度方向相位差（單位：nm)。
7. 如權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)膜，其中所述光學(xué)膜是乙酸纖維素膜，其按照ASTM D-817-91測定的取代度為2. 7-3. 0。
8. -種光學(xué)膜組合物，其包含： 以基體樹脂100重量份計為1-20重量份的用作添加劑的選自由下面的化學(xué)式1表示 的化合物中的至少一種， [化學(xué)式1]
在化學(xué)式1中，X是0、S或N-R5, Y是0、S、N-R25或化學(xué)鍵， Rp R3、RjPR25各獨立地選自氫、（Cl-ClO)烷基、（C6-C20)芳基、（C1-C20)烷氧基、 (C3-C20)環(huán)烷基、（C2-C7)烯基、（Cl-ClO)烷氧基羰基（Cl-ClO)烷基、羰基（Cl-ClO)烷基、 (C3-C20)雜環(huán)烷基和（C4-C20)雜芳基， R2和R4各獨立地選自氫、（Cl-ClO)烷基、（C6-C20)芳基、（C3-C20)環(huán)烷基、羰基 (Cl-ClO)烷基、（C3-C20)雜環(huán)烷基和（C4-C20)雜芳基， H R3和R4不同時是氫，以及 R" R2、R3、R4、R5和R25的烷基、芳基、烷氧基、環(huán)烷基、烯基、烷氧基羰基、羰基芳基、雜環(huán) 烷基和雜芳基可進(jìn)一步由選自（C1-C7)烷基、鹵素、硝基、氰基、羥基、氨基（C6-C20)芳基、 (C2-C7)烯基、（C3-C20)環(huán)烷基、（C3-C20)雜環(huán)烷基或（C4-C20)雜芳基取代。
9. 如權(quán)利要求8所述的一種光學(xué)膜組合物，其還包含： 作為添加劑的，選自抗紫外線劑、微粒、增塑劑、劣化抑制劑、剝離劑、紅外吸收劑和光 學(xué)各異向性控制中的至少一種或兩種。
10. -種光學(xué)結(jié)構(gòu)，其采用如權(quán)利要求1-7中任一項所述的光學(xué)膜的光學(xué)結(jié)構(gòu)。
11. 如權(quán)利要求10所述的光學(xué)結(jié)構(gòu)，其中所述光學(xué)結(jié)構(gòu)是光學(xué)補(bǔ)償壓膜、硬涂層膜、防 眩光膜、低反射膜、抗反射膜、用于立體圖像的濾光器或偏振片。
12. -種采用權(quán)利要求1-7中任一項所述的光學(xué)膜制造的顯示裝置。
13. -種采用權(quán)利要求10-11所述的光學(xué)結(jié)構(gòu)制造的顯示裝置。
【文檔編號】C08K5/00GK104284923SQ201380024318
【公開日】2015年1月14日 申請日期:2013年5月7日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月7日
【發(fā)明者】金源曄, 金明來, 金奕錢, 趙容均, 林珉貞, 曹永民, 李承彥, 郭孝信 申請人:Sk新技術(shù)株式會社