用于表面處理的組合物、制備經(jīng)表面處理的制品的方法及經(jīng)表面處理的制品的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種組合物，所述組合物包含具有至少一個CF3基團的全氟化溶劑，所述全氟化溶劑選自在大氣壓下具有至少120℃的沸點溫度的全氟聚醚溶劑和含氮全氟化溶劑。所述組合物還包含多氟聚醚硅烷。所述組合物形成具有極佳的物理特性的層，所述極佳的物理特性除了耐沾污性和耐污染性之外還包括耐久性和外觀。
【專利說明】用于表面處理的組合物、制備經(jīng)表面處理的制品的方法及 經(jīng)表面處理的制品

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明整體涉及用于表面處理的組合物，并且更具體地講，涉及包含多氟聚醚硅 烷和溶劑的組合物、用該組合物制備經(jīng)表面處理的制品的方法以及由其形成的經(jīng)表面處理 的制品。

【背景技術(shù)】
[0002] 電子和光學(xué)裝置/部件的表面常常由于來自手和手指的油而易被沾污和污染。例 如，包括交互式觸摸屏顯示器的電子裝置（如智能手機）通常在使用時被指紋、皮膚油、汗、 化妝品等污染。一旦這些污漬和/或污跡附著到這些裝置的表面，污漬和/或污跡就不容 易被移除。此外，此類污漬和/或污跡降低了這些裝置的可用性。
[0003] 為了試圖使此類污漬和污跡的出現(xiàn)和分布降至最小，已將常規(guī)的表面處理組合物 施加到各種裝置/部件的表面上以形成常規(guī)的層。然而，一旦施加到這些裝置/部件的表 面上，常規(guī)的表面處理組合物通常留下不期望的且不平的外觀。例如，由常規(guī)的表面處理組 合物形成的常規(guī)層通常包括不期望的條紋。因此，通常在施加常規(guī)的表面處理組合物后沖 洗這種裝置/部件的表面，因而需要額外的處理步驟、費用和時間，同時由于沖洗常規(guī)層的 額外步驟降低了常規(guī)層的耐久性。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明提供一種用于表面處理的組合物。該組合物包含具有至少一個CF3基團的 全氟化溶劑。在某些實施例中，該溶劑包含一種全氟聚醚溶劑，該溶劑在大氣壓下具有至少 120°C的沸點溫度并且具有以下通式（A):
[0005]

【權(quán)利要求】
1. 一種用于表面處理的組合物，其包含： 具有至少一個CF3基團的全氟化溶劑，所述溶劑選自： 全氟聚醚溶劑，其在大氣壓下具有至少120°C的沸點溫度并且具有以下通式（A):
其中m'是彡1的整數(shù)并且η'彡O;和 含氮全氟化溶劑，其具有以下通式（B):
其中每個R是獨立選擇的具有1至10個碳原子的全氟化烴基； 以及它們的組合；和 多氟聚醚硅烷，其具有以下通式（C): Y-Za, - [ (OC3F6) b-(OCF(CF3)CF2) c- (OCF2CF(CF3)) d- (OC2F4) e-(CF(CF3)) f- (OCF2) g] - (CH2)h -X' - (CnH2n) - ((SiR12-O) ^SiR12)「(CjH2j) -Si- (X"）3_z (R2) z; 其中，Z獨立地選自-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)0)-、-(CF(CF3) 0)-、- (CF(CF3)CF2)-' - (CF2CF(CF3))-和- (CF(CF3)) - ;a' 為 1 至 200 的整數(shù)；b、c、d、e、f 和g為各自獨立地選自〇至200的整數(shù)；h、n和j為各自獨立地選自0至20的整數(shù)；i和 m為各自獨立地選自0至5的整數(shù)；X'為二價有機基團或氧原子；R1為獨立選擇的C「C22 烴基；z為獨立地選自0至2的整數(shù)；X"為獨立選擇的可水解基團；R2為獨立選擇的不含 脂族不飽和基團的C1-C22烴基；并且Y選自F和Si-(X"）3_Z(R2)Z(CjH2j)-((SiR12-O)m-SiR12) 「(CnH2n) -X' - (CH2) h-;其中X"、X'、z、R1、R2、j、m、i、η和h是如上文所定義的； 前提條件是當(dāng)下標i為〇時，下標j也為〇 ;當(dāng)下標i為大于〇的整數(shù)時，下標j也為 大于〇的整數(shù)；并且當(dāng)下標i為大于〇的整數(shù)時，m也為大于0的整數(shù)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物，其中所述溶劑包含所述全氟聚醚溶劑。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物，其中所述溶劑包含所述含氮全氟化溶劑。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的組合物，其中所述含氮全氟化溶劑的每個R獨立地具有3至 5個碳原子。
5. 根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的組合物，其中所述多氟聚醚硅烷的通式（C)中由X"表 示的所述可水解基團獨立地選自鹵化物基團、-OR3、-NHR3、-NR3R4、-00C-R3、O-N=CR3R4、 O-C( =CR3R4)R5和-NR3COR4,其中R3、R4和R5獨立地選自H和C「C22烴基，并且其中R3和 R4任選可在所述烷基氨基中形成環(huán)胺。
6. 根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的組合物，其中以所述組合物的總重量計所述溶劑以 95至99. 99重量百分比的量存在于所述組合物中，并且以所述組合物的總重量計所述多氟 聚醚硅烷以0. 01至0. 5重量百分比的量存在于所述組合物中。
7. -種制備經(jīng)表面處理的制品的方法，所述方法包括： 在制品的表面上施加用于表面處理的組合物以由所述組合物在所述制品的所述表面 上形成層；并且 其中所述組合物包含： 具有至少一個CF3基團的全氟化溶劑，所述溶劑選自： 全氟聚醚溶劑，其在大氣壓下具有至少120°C的沸點溫度并且具有以下通式（A):
其中m'是彡1的整數(shù)并且η'彡0; 含氮全氟化溶劑，其具有以下通式（B):
其中每個R是獨立選擇的具有1至10個碳原子的全氟化烴基； 以及它們的組合；和多氟聚醚硅烷，其具有以下通式（C): Y-Za, - [ (OC3F6) b-(OCF(CF3)CF2) c- (OCF2CF(CF3)) d- (OC2F4) e-(CF(CF3)) f- (OCF2) g] - (CH2)h -X' - (CnH2n) - ((SiR12-O) ^SiR12)「(CjH2j) -Si- (X"）3_z (R2) z; 其中，Z獨立地選自-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)0)-、-(CF(CF3) 0)-、- (CF(CF3)CF2)-' - (CF2CF(CF3))-和- (CF(CF3)) - ;a' 為 1 至 200 的整數(shù)；b、c、d、e、f 和g為各自獨立地選自〇至200的整數(shù)；h、n和j為各自獨立地選自0至20的整數(shù)；i和 m為各自獨立地選自0至5的整數(shù)；X'為二價有機基團或氧原子；R1為獨立選擇的C「C22 烴基；z為獨立地選自0至2的整數(shù)；X"為獨立選擇的可水解基團；R2為獨立選擇的不含 脂族不飽和基團的C1-C22烴基；并且Y選自F和Si-(X"）3_Z(R2)Z(CjH2j)-((SiR12-O)m-SiR12) 「(CnH2n) -X' - (CH2) h-;其中X"、X'、z、R1、R2、j、m、i、η和h是如上文所定義的； 前提條件是當(dāng)下標i為〇時，下標j也為〇 ;當(dāng)下標i為大于〇的整數(shù)時，下標j也為 大于〇的整數(shù)；并且當(dāng)下標i為大于〇的整數(shù)時，m也為大于0的整數(shù)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，所述方法不包括用溶劑洗滌所述制品的表面上的所述 層的步驟。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7和8中的任一項所述的方法，其中施加所述組合物的步驟選自浸涂、 旋涂、流涂、噴涂、輥涂、凹面涂布、噴濺涂布、槽式涂布、大氣壓等離子體涂布以及它們的組 合。
10. 根據(jù)權(quán)利要求7-9中任一項所述的方法，其中所述溶劑包含所述全氟聚醚溶劑。
11. 根據(jù)權(quán)利要求7-9中任一項所述的方法，其中所述溶劑包含所述含氮全氟化溶劑。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述含氮全氟化溶劑的每個R獨立地具有3至 5個碳原子。
13. 根據(jù)權(quán)利要求7-12中任一項所述的方法，其中所述多氟聚醚硅烷的通式（C)中 由X'表示的所述可水解基團獨立地選自鹵化物基團、-OR3、-NHR3、-NR3R4、-OOC-R3、O-N= 〇^4、0-(：( = 〇^4)1?5和-順3〇?4，其中1? 3、1?4和1?5各自獨立地選自！1和(：「(：22烴基，并且 其中R3和R4任選可在所述烷基氨基中形成環(huán)胺。
14. 根據(jù)權(quán)利要求7-13中任一項所述的方法，其中以所述組合物的總重量計所述溶劑 以95至99. 99重量百分比的量存在于所述組合物中，并且以所述組合物的總重量計所述多 氟聚醚硅烷以0. 01至0. 5重量百分比的量存在于所述組合物中。
15. -種經(jīng)表面處理的制品，所述經(jīng)表面處理的制品根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法形成。
【文檔編號】C08G65/00GK104470970SQ201380032104
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2013年7月10日 優(yōu)先權(quán)日:2012年7月12日
【發(fā)明者】M·L·布拉德福德, 布賴恩·R·哈克尼斯, 玄大涉, 賴安·F·施耐德 申請人:道康寧公司