本申請要求歐洲申請?zhí)?4182035.7的優(yōu)先權(quán)，出于所有目的將所述申請的全部內(nèi)容通過援引方式并入本申請。

本發(fā)明涉及一種用于獲得具有減少的雜質(zhì)含量的氟化的和/或氯化的羧酸鹵化物的方法、具有減少的雜質(zhì)含量的氟化的羧酸鹵化物和/或氯化的羧酸鹵化物的餾分、以及其在農(nóng)業(yè)和藥物活性化合物的制造中的用途。

氟化的和/或氯化的羧酸鹵化物，例如三氟乙酰氯(tfac)、二氟乙酰氯(dfac)或氯二氟乙酰氯(cdfac)，是化學(xué)合成中(例如在除草劑、表面活性劑和藥物的制備中)的有價值的中間體。例如，三氟乙酰氯是用于合成4-乙氧基-1,1,1-三氟甲基-3-丁烯-2-酮的起始材料，該4-乙氧基-1,1,1-三氟甲基-3-丁烯-2-酮可適當?shù)乇晦D(zhuǎn)化成農(nóng)業(yè)活性成分的環(huán)狀中間體，參見，例如wo2011/3860和wo2010037688。cdfac可以，例如，被轉(zhuǎn)化為氟取代的-3-氧代-烷酸(alcanoicacid)，這些氟取代的-3-氧代-烷酸可以進一步被轉(zhuǎn)化為農(nóng)業(yè)活性化合物的中間體，參見例如wo2010037688和wo2012/25469。dfac，例如，被用于合成cdk抑制劑，如在wo2006/64251中描述的，或農(nóng)業(yè)活性化合物，如例如在wo2005/42468中描述的。

ep0638539a描述了用以下操作合成氟化的羧酸氯化物，該操作包括在-60℃下的低溫冷凝器、隨后在40cm的填充柱中的“精餾”。產(chǎn)物的純度沒有報告。

de1069137描述了氟化的和氯化的羧酸氯化物的合成，其中蒸餾該產(chǎn)物。實例以典型的實驗室規(guī)模進行操作；產(chǎn)物的純度沒有報告。

特別地，為了農(nóng)業(yè)和藥物活性化合物的結(jié)構(gòu)單元的工業(yè)制造，氟化的羧酸鹵化物的純度對下游產(chǎn)物的品質(zhì)、裝置的可行性(特別是考慮到腐蝕性雜質(zhì))和廢物管理是至關(guān)重要的。對于用于純化氟化的羧酸鹵化物的可規(guī)?；姆椒ù嬖诔掷m(xù)的工業(yè)需要。

因此，本發(fā)明涉及一種用于獲得具有減少的雜質(zhì)含量的具有式(i)r1-c(o)x的化合物的方法，該方法包括使包含具有式(i)r1-c(o)x的化合物和雜質(zhì)的粗餾分經(jīng)受至少兩個蒸餾步驟的步驟a)，其中該至少兩個蒸餾步驟在不同壓力下進行。在優(yōu)選的方式中，a)包括至少三個蒸餾步驟，這些步驟由在不同壓力下進行的高壓蒸餾步驟、中壓蒸餾步驟和低壓蒸餾步驟組成。

本發(fā)明進一步涉及通過所述蒸餾方法可獲得的具有減少的雜質(zhì)含量的具有式(i)r1-c(o)x的化合物的餾分，特別是當具有式(i)的化合物是通過氧化具有式(ii)r1-chx’2的化合物來制造時，并且本發(fā)明進一步涉及該具有減少的雜質(zhì)含量的餾分用于制造藥物或農(nóng)業(yè)活性化合物的用途。

本發(fā)明的另一方面是一種用于制造農(nóng)業(yè)或藥物活性化合物的方法，該方法包括用于獲得具有減少的雜質(zhì)含量的具有式(i)r1-c(o)x的化合物的該方法。

已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，具有減少的雜質(zhì)含量的具有式(i)r1-c(o)x的化合物(特別是tfac和cdfac)可以有利地通過施用包括在不同壓力下的至少兩個、優(yōu)選至少三個蒸餾步驟的蒸餾方法來獲得。該方法使得有可能通過物理方法實現(xiàn)雜質(zhì)與具有式(i)r1-c(o)x的化合物(特別地tfac、dfac和cdfac)的有效分離。所回收的純化的具有(i)r1-c(o)x的餾分可以作為起始材料用于實驗室規(guī)?；蚬I(yè)規(guī)模合成和制造另外的化合物和結(jié)構(gòu)單元(特別是用于農(nóng)業(yè)或藥物活性化合物)，同時具有減少的量的雜質(zhì)，這允許對于裝置的減少的腐蝕以及在下游過程中減少的量的雜質(zhì)和廢物。該方法有效地減少了無機的(例如鹵化氫)以及有機的雜質(zhì)二者。尤其是，如果鹵化氫、特別是hcl以顯著的量存在，該純化方法還允許將所述鹵化氫作為含有鹵化氫和減少的量的雜質(zhì)的餾分回收。此類餾分可以適當?shù)乇挥糜谙掠芜^程，例如在烷烴或烯烴的氧氯化中。氧氯化的一個實例是由乙烯制造氯乙烯。根據(jù)本發(fā)明的方法可以以容易的方式進行并且允許使用蒸汽加熱/水冷卻。

在根據(jù)本發(fā)明的方法中，r1是被至少一個氟和/或至少一個氯原子取代的c1至c3烷基。在一個方面中，r1被至少1、優(yōu)選至少2個氟原子取代；例如，r1是被至少氟原子取代的甲基，并且由此r1選自由ch2f、cf2h和cf3組成的組。在另一方面中，r1是被至少一個氟和至少一個氯原子取代的甲基；在此方面，r1選自由cfclh、cf2cl和cfcl2組成的組，其中優(yōu)選cf2cl。在又另一方面，r1是被至少一個氯原子并且不被其他鹵化物物種取代的甲基，并且由此r1選自由ch2cl、ccl2和ccl3組成的組。r1可以進一步選自乙基、正丙基和異丙基，其被至少一個氟原子、至少一個氟原子和至少一個氯原子、或至少一個氯原子取代。根據(jù)本發(fā)明的具有式(i)r1-c(o)x的優(yōu)選的化合物是三氟乙酰氯(tfac)、二氟乙酰氯(dfac)、二氟氯代乙酰氯(cdfac)和三氯乙酰氯，其中tfac和cdfac是最優(yōu)選的化合物。在一個方面中，當r1＝ch2cl、ccl2或ccl3、特別是ch2cl時，用于獲得具有減少的雜質(zhì)含量的具有式(i)r1-c(o)x的化合物的方法包括至少三個蒸餾步驟、優(yōu)選三個蒸餾步驟，這些步驟在不同壓力下進行。

在本發(fā)明中使用的酰基鹵可以例如通過鹵化的前體烷烴的光氧化獲得，具體地如在us5,569,782(將其內(nèi)容通過援引方式并入本申請)中所描述的。具體地，是本發(fā)明的特別優(yōu)選的具有式(i)的化合物的三氟乙酰氯可以通過1,1,1-三氟-2,2-二氯乙烷(hcfc-123)的光氧化獲得。在例如ep0623577、us5545298a、us4643851、us5241113、us5659078、us6255524和us7754927中描述了制造具有式(i)的酰基鹵的其他方式。總體上，根據(jù)本發(fā)明的純化方法適合于減少在含有具有式(i)的化合物和雜質(zhì)的粗餾分中的雜質(zhì)，不論生產(chǎn)根據(jù)式(i)的化合物的方式如何。鑒于根據(jù)本發(fā)明的純化方法的有效性，特別優(yōu)選通過氧化式(ii)r1-chx’2來制造含有具有式(i)的化合物和雜質(zhì)的餾分，其中r1具有與上述相同的定義，并且x’是相同或不同的，其中x’是選自下組的鹵素，該組由cl、f和br組成，特別地其中x’是cl。

根據(jù)本發(fā)明，使包含具有式(i)r1-c(o)x的化合物和雜質(zhì)的粗餾分經(jīng)受在不同壓力下進行的至少兩個、優(yōu)選三個蒸餾步驟。當施用兩個蒸餾步驟時，這些步驟由高壓蒸餾步驟和低壓蒸餾步驟組成。在優(yōu)選的實施例中，a)包括至少三個蒸餾步驟，這些步驟由高壓蒸餾步驟、中壓蒸餾步驟和低壓蒸餾步驟組成。根據(jù)優(yōu)選的實施例，第一進行該高壓蒸餾步驟，第二進行該中壓蒸餾步驟，并且第三進行該低壓蒸餾步驟?？傮w上，該至少兩個、優(yōu)選至少三個蒸餾步驟可以以適合于粗餾分的雜質(zhì)分布的順序進行，以便獲得含有化合物(i)和減少的量的雜質(zhì)的餾分。

在本說明書中，對壓力的任何提及都與在蒸餾柱頂部測量的絕對壓力相對應(yīng)。

在優(yōu)選的實施例中，在a)中施用三個蒸餾步驟。關(guān)于在不同蒸餾步驟中施用的壓力值，該中壓蒸餾步驟總體上在低于該高壓蒸餾步驟至少1巴的壓力下進行。總體上，在該高壓蒸餾步驟與該中壓蒸餾步驟之間的壓力差是從1至10巴。經(jīng)常地，在該高壓蒸餾步驟與該中壓蒸餾步驟之間的壓力差是等于或大于1巴、優(yōu)選等于或大于2巴并且最優(yōu)選等于或大于3巴。經(jīng)常地，在該高壓蒸餾步驟與該中壓蒸餾步驟之間的壓力差是等于或小于10巴、優(yōu)選等于或小于9巴并且最優(yōu)選等于或小于8巴?？傮w上，在該中壓蒸餾步驟與該低壓蒸餾步驟之間的壓力差是從0.2至9巴。經(jīng)常地，在該中壓蒸餾步驟與該低壓蒸餾步驟之間的壓力差是等于或大于0.2巴、優(yōu)選等于或大于0.4巴并且最優(yōu)選等于或大于0.6巴。經(jīng)常地，在該低壓蒸餾步驟與該中壓蒸餾步驟之間的壓力差是等于或小于9巴、優(yōu)選等于或小于8巴并且最優(yōu)選等于或小于7巴。

當在a)中施用三個蒸餾步驟時，總體上，在該高壓蒸餾步驟中的壓力是從12至18巴。經(jīng)常地，在該高壓蒸餾步驟中的壓力是等于或大于12巴、優(yōu)選等于或大于13巴并且最優(yōu)選等于或大于14巴。經(jīng)常地，在該高壓蒸餾步驟中的壓力是等于或低于18巴、優(yōu)選等于或低于17巴并且最優(yōu)選等于或低于16巴。

當在a)中施用三個蒸餾步驟時，總體上，在該中壓蒸餾步驟中的壓力是從6至12巴。經(jīng)常地，在該中壓蒸餾步驟中的壓力是等于或大于6巴、優(yōu)選等于或大于6.5巴并且最優(yōu)選等于或大于7巴。經(jīng)常地，在該高壓蒸餾步驟中的壓力是等于或低于12巴、優(yōu)選等于或低于11巴并且最優(yōu)選等于或低于10巴。

當在a)中施用三個蒸餾步驟時，總體上，在該低壓蒸餾步驟中的壓力是從1至9巴。經(jīng)常地，在該低壓蒸餾步驟中的壓力是等于或大于1巴、優(yōu)選等于或大于1.5巴并且最優(yōu)選等于或大于2巴。經(jīng)常地，在該低壓蒸餾步驟中的壓力是等于或低于9巴、優(yōu)選等于或低于8巴并且最優(yōu)選等于或低于7巴。

在本發(fā)明的一個方面，作為頂部產(chǎn)物從該低壓蒸餾步驟中回收具有減少的雜質(zhì)含量的具有式(i)的化合物的餾分。

在本發(fā)明的另一方面，作為底部產(chǎn)物從該低壓蒸餾步驟中回收具有減少的雜質(zhì)含量的具有式(i)的化合物的餾分。

在一個實施例中，當在a)中施用三個蒸餾步驟時，在從14至16、優(yōu)選在15巴的壓力下進行該高壓蒸餾步驟，在從8.5至10.5、優(yōu)選在9.5巴的壓力下進行隨后的中壓蒸餾步驟，并且在從2至4、優(yōu)選在3巴的壓力下進行隨后的低壓蒸餾步驟。在此實施例中，經(jīng)常在該低壓蒸餾步驟中運行的柱的頂部作為頂部產(chǎn)物回收含有具有減少的雜質(zhì)含量的具有式(i)r1-c(o)x的化合物、特別地tfac的餾分。

在另一個實施例中，當在a)中施用三個蒸餾步驟時，在從14至16、優(yōu)選在15巴的壓力下進行該高壓蒸餾步驟，在從6至8、優(yōu)選在7巴的壓力下進行隨后的中壓蒸餾步驟，并且在從5至7、優(yōu)選在6巴的壓力下進行隨后的低壓蒸餾步驟。在此實施例中，經(jīng)常在該低壓蒸餾步驟中作為底部產(chǎn)物回收含有具有減少的雜質(zhì)含量的具有式(i)r1-c(o)x的化合物、特別地tfac的餾分。

在其下運行每個蒸餾步驟的溫度根據(jù)含有具有式(i)r1-c(o)x的化合物和雜質(zhì)的粗餾分的雜質(zhì)分布、以及在每個單獨的蒸餾步驟中所運行的壓力和柱進行選擇。

在一個實施例中，該具有式(i)的化合物是tfac，并且在該低壓蒸餾步驟中作為頂部產(chǎn)物回收含有tfac和減少的量的雜質(zhì)的餾分，其中在a)中施用三個蒸餾步驟。優(yōu)選地，該tfac是根據(jù)描述于us5,569,782中的方法制造的。在這種情況下，在其下進行該高壓蒸餾步驟的溫度是從50℃至80℃；經(jīng)常地，該溫度是等于或高于50℃，優(yōu)選地，該溫度是等于或高于53℃，并且最優(yōu)選地該溫度是等于或高于56℃。在此實施例中，經(jīng)常地，該溫度是等于或低于80℃，優(yōu)選地，該溫度是等于或低于75℃，并且最優(yōu)選地該溫度是等于或低于70℃。在此實施例的優(yōu)選的方面中，該高壓蒸餾步驟的溫度是從60℃至68℃。經(jīng)常地，在冷卻的裝置(例如在等于或小于-10℃的溫度下、優(yōu)選在等于或小于-20℃的溫度下)中在該高壓蒸餾步驟的蒸餾柱的頂部收集餾出物。如以上描述的，在一個實施例中，作為該中間蒸餾步驟的頂部產(chǎn)物收集含有具有式(i)的化合物和減少的量的雜質(zhì)的餾分。根據(jù)此實施例，在其下進行該中壓蒸餾步驟的溫度是從50℃至80℃；經(jīng)常地，該溫度是等于或高于50℃，優(yōu)選地，該溫度是等于或高于53℃，并且最優(yōu)選地該溫度是等于或高于56℃。在此實施例中，經(jīng)常地，該溫度是等于或低于80℃，優(yōu)選地，該溫度是等于或低于75℃，并且最優(yōu)選地該溫度是等于或低于70℃。此外，根據(jù)此實施例，在其下進行該低壓蒸餾步驟的溫度是從60℃至110℃；經(jīng)常地，該溫度是等于或高于60℃，優(yōu)選地，該溫度是等于或高于65℃，并且最優(yōu)選地該溫度是等于或高于70℃。在此實施例中，經(jīng)常地，在該低壓蒸餾步驟中的溫度是等于或低于110℃，優(yōu)選地，該溫度是等于或低于100℃，并且最優(yōu)選地該溫度是等于或低于95℃。在此實施例的優(yōu)選的方面中，該低壓蒸餾步驟中的溫度是從75℃至90℃。

在另一個實施例中，作為該低壓蒸餾步驟的底部產(chǎn)物回收含有具有式(i)的化合物和減少的量的雜質(zhì)的餾分，其中在a)中施用三個蒸餾步驟。如果該具有式(i)的化合物是tfac并且根據(jù)描述于us5,569,782中的光氧化制造，這是特別有用的，并且，出人意料地，與在之前的實施例中的量相比，甚至進一步減少在含有tfac的餾分中的雜質(zhì)的量，其中作為頂部產(chǎn)物回收該含有tfac和減少的量的雜質(zhì)的餾分。根據(jù)此實施例，在其下進行該中壓蒸餾步驟的溫度是從90℃至115℃；經(jīng)常地，該溫度是等于或高于90℃，優(yōu)選地，該溫度是等于或高于94℃，并且最優(yōu)選地該溫度是等于或高于98℃。在此實施例中，經(jīng)常地，該溫度是等于或低于115℃，優(yōu)選地，該溫度是等于或低于111℃，并且最優(yōu)選地該溫度是等于或低于107℃。在此實施例的優(yōu)選的方面中，該中壓蒸餾步驟中的溫度是從100℃至106℃。在此實施例的另一個方面中，該低壓蒸餾步驟中的溫度是從25℃至55℃。經(jīng)常地，在該低壓蒸餾步驟中的溫度是等于或高于25℃，優(yōu)選地，該溫度是等于或高于30℃，并且最優(yōu)選地該溫度是等于或高于35℃。在此實施例中，經(jīng)常地，在該低壓蒸餾步驟中的溫度是等于或低于55℃，優(yōu)選地，該溫度是等于或低于50℃，并且最優(yōu)選地該溫度是等于或低于45℃。在此實施例的優(yōu)選的方面中，該低壓蒸餾步驟中的溫度是從36℃至40℃。

總體上，可以在一個或多個蒸餾柱中進行根據(jù)本發(fā)明的a)的該至少兩個、優(yōu)選三個蒸餾步驟的每一個。每個蒸餾步驟將優(yōu)選使用單個柱。

可以用于根據(jù)本發(fā)明的方法的蒸餾柱是本身已知的。例如，可以使用常規(guī)的板式柱或雙流型板式柱或可替代地具有散裝或規(guī)整填料的柱。在高壓蒸餾中的理論板數(shù)總體上為至少10。它經(jīng)常是至少20。至少35的數(shù)目給出了良好的結(jié)果。

在低壓蒸餾中的理論板數(shù)總體上為至少5。它經(jīng)常是至少15。至少30的數(shù)目給出了良好的結(jié)果。

在中壓蒸餾中的理論板數(shù)總體上為至少6。它經(jīng)常是至少16。至少31的數(shù)目給出了良好的結(jié)果。

在高壓蒸餾中的質(zhì)量再沸比總體上為至少1。頻繁地，該質(zhì)量再沸比為至少3。更頻繁地，該質(zhì)量再沸比為至少8。優(yōu)選至少10的質(zhì)量再沸比。

在高壓蒸餾中的質(zhì)量再沸比總體上為最多100。頻繁地，該質(zhì)量再沸比為最多50。更頻繁地，該質(zhì)量再沸比為最多30。優(yōu)選最多25的質(zhì)量再沸比。

在低壓蒸餾中的質(zhì)量回流比總體上為至少2。頻繁地，該質(zhì)量回流比為至少4。優(yōu)選至少5的質(zhì)量回流比。在低壓柱中的質(zhì)量回流比總體上為最多50。頻繁地，該質(zhì)量回流比為最多30。優(yōu)選最多20的質(zhì)量回流比。

在中壓蒸餾中的質(zhì)量回流比總體上為至少30％。頻繁地，該質(zhì)量回流比為至少50％。優(yōu)選至少70％的質(zhì)量回流比。在低壓柱中的質(zhì)量回流比總體上為最多40％。頻繁地，該質(zhì)量回流比為最多50％。優(yōu)選最多60％的質(zhì)量回流比。

根據(jù)本發(fā)明的各蒸餾步驟可以以連續(xù)或不連續(xù)的模式進行操作。

在本發(fā)明的一個實施例中，具有式(i)的化合物的粗餾分已經(jīng)通過起始于具有式(ii)r1-chx’2的化合物的氧化方法獲得，其中x’是相同或不同的，其中x’是選自下組的鹵素，該組由cl、f和br組成，特別地其中x’是cl并且其中r1具有與上述相同的定義。在此實施例的一個優(yōu)選的方面中，該氧化方法是在氧氣存在下的光氧化方法，特別是其中所述光氧化進一步在加入的元素氯的存在下進行。當使用摻雜有金屬碘化物的hg高壓燈作為源用于活化輻射時，特別是其中該金屬碘化物選自由碘化鎵、碘化鉈或碘化鎘組成的組，根據(jù)此實施例的光氧化是特別有利的。此類方法的細節(jié)描述于ep0638539a(將其以其全文并入本申請)。

在本發(fā)明的一個方面，具有式(i)的化合物的粗餾分進一步含有在制備具有式(i)的化合物的制造過程中形成的顯著量的hx’，其中x’是如以上所定義的，特別是hcl。如果在氧化方法(特別是在氧和元素氯存在下的光氧化，如描述于ep0638539a中的)中由具有式(ii)的化合物制備具有式(i)的化合物特別是這種情況。在如果顯著量的hx’存在于含有具有式(i)的化合物的粗餾分中的情況中，根據(jù)本發(fā)明的純化方法允許在一個或多個蒸餾步驟中作為產(chǎn)物流回收具有減少的雜質(zhì)含量的hx’、特別是hcl的餾分。優(yōu)選地，在該高壓蒸餾步驟的頂部作為頂部產(chǎn)物取出具有減少的雜質(zhì)含量的hx’、特別是hcl的餾分。術(shù)語《顯著量的hx’》旨在表示在含有式(i)的粗餾分中從2至50重量％的hx'含量。經(jīng)常地，在該粗餾分中的hx’含量是等于或大于2重量％、更優(yōu)選等于或大于10重量％、并且甚至更優(yōu)選等于或大于13重量％。經(jīng)常地，在該粗餾分中的hx’含量是等于或小于50重量％、更優(yōu)選等于或大于40重量％、并且甚至更優(yōu)選等于或大于30重量％。在最優(yōu)選的方式中，在含有式(i)的粗餾分中的hx’含量是從15至20重量％。在優(yōu)選的方面，該hx’是hcl，并且在從14至16巴的壓力下在高壓蒸餾步驟中作為頂部產(chǎn)物被回收，并且被截留在-20℃的冷卻裝置中。該回收的hcl餾分具有至少95重量％、更優(yōu)選96重量％、并且最優(yōu)選至少98重量％的純度。

在本發(fā)明的最優(yōu)選的實施例中，tfac是由123(1,1-二氯-2,2,2-三氟乙烷)通過如在ep0638539a中描述的在o2和cl2存在下的光氧化制造的并且經(jīng)受在a)中的三個蒸餾步驟。可以有效減少在此反應(yīng)中產(chǎn)生的有機副產(chǎn)物(即cocl2、cof2和113a(1-氯-2,2,2-三氟乙烷))以及殘余的起始材料123的含量、以及無機副產(chǎn)物hcl和起始材料cl2的含量。在此實施例的一個方面，cl2包含在作為頂部產(chǎn)物從低壓蒸餾回收的餾分(還包含tfac)中，其中作為該低壓蒸餾步驟的底部產(chǎn)物回收含有tfac和減少的量的雜質(zhì)的餾分。可以將cl2/tfac混合物再循環(huán)到該光氧化步驟。

本發(fā)明還涉及通過根據(jù)本發(fā)明的方法可獲得的具有減少的雜質(zhì)含量的具有式(i)r1-c(o)x的化合物的餾分，特別地當該具有式(i)的化合物是通過氧化具有式(ii)的化合物制造的時，優(yōu)選地其中該具有式(i)的化合物選自由三氟乙酰氯、二氟乙酰氯和二氟氯代乙酰氯組成的組。在此實施例的一個優(yōu)選的方面，該具有式(i)的化合物是通過如描述于ep0638539a中的123的光氧化制造的tfac。在作為底部產(chǎn)物從該低壓蒸餾步驟回收含有tfac的餾分的情況中，其中在a)中進行三個蒸餾步驟，在該回收的餾分中的氟化物的含量是非常低的。經(jīng)常地，氟離子(f^-)含量是低于50ppm。優(yōu)選地，該氟離子(f^-)含量是低于30ppm，并且更優(yōu)選地，該氟離子(f^-)含量是低于10ppm。在作為頂部產(chǎn)物從該低壓蒸餾步驟回收含有tfac的餾分的情況中，在所回收的餾分中的氟化物的含量是低的。經(jīng)常地，氟離子(f^-)含量是低于150ppm。優(yōu)選地，該氟離子(f^-)含量是低于120ppm，并且更優(yōu)選地，該氟離子(f^-)含量是低于100ppm。在最優(yōu)選的方面，該氟離子(f^-)含量是低于40ppm。通過這種方法實現(xiàn)的(f^-)含量經(jīng)常是高于5ppm；總體上可以實現(xiàn)從5至90ppm的(f^-)含量。該(f^-)含量適當?shù)赝ㄟ^所水解的樣品的離子色譜來確定。此外，含有tfac和減少的量的雜質(zhì)的餾分通常含有從0至400ppm、優(yōu)選地從0至300ppm、并且更優(yōu)選地從0至250ppm的123。最優(yōu)選地，123含量是低于100ppm。123含量適當?shù)赝ㄟ^gc確定。含有tfac和減少的量的雜質(zhì)的餾分通常含有從0至30、優(yōu)選地從0至20、并且最優(yōu)選地從0至15ppm的cl2。cl2含量適當?shù)赝ㄟ^所水解的樣品的離子色譜來確定。含有tfac和減少的量的雜質(zhì)的餾分通常含有從0％至2％、優(yōu)選地從0％至1％、并且更優(yōu)選地從0％至0.5％的hcl。最優(yōu)選地，hcl含量是低于0.01％。該hcl含量適當?shù)赝ㄟ^所水解的樣品的離子色譜來確定。含有tfac和減少的量的雜質(zhì)的餾分通常含有從0％至0.2％、優(yōu)選地從0％至0.1％、并且更優(yōu)選地從0％至0.05％的cocl2。最優(yōu)選地，cocl2含量是低于0.01％。含有tfac和減少的量的雜質(zhì)的餾分通常含有從0％至0.2％、優(yōu)選地從0％至0.1％、并且更優(yōu)選地從0％至0.05％的cof2。最優(yōu)選地，cof2含量是低于0.01％。含有tfac和減少的量的雜質(zhì)的餾分通常含有從0％至0.5％、優(yōu)選地從0％至0.2％、并且最優(yōu)選地從0％至0.1％的113a。cocl2、cof2和113a的含量是通過gc適當?shù)貦z測的。

具有減少的雜質(zhì)含量的具有式(i)r1-c(o)x的化合物的餾分(特別是如果(i)是tfac、cdfac或dfac)可以被用于制造農(nóng)業(yè)或藥物活性化合物。可以例如在以上提及的公開物中發(fā)現(xiàn)通過本發(fā)明回收的餾分如何可以進一步作為起始材料用于制造農(nóng)業(yè)或藥物活性化合物的方法。

本發(fā)明還涉及一種用于制造農(nóng)業(yè)或藥物活性化合物的方法，該方法包括根據(jù)本發(fā)明的方法。用于進一步制造活性成分或其中間體的下游方法步驟從所獲得的具有式(i)的化合物的餾分的純度受益良多，因為可以在下游過程中實現(xiàn)更少的副產(chǎn)物、更少的廢物、更高的選擇性和更低的裝置腐蝕。可以例如在以上提及的公開物中發(fā)現(xiàn)其中通過本發(fā)明回收的餾分可以進一步作為起始材料用于制造農(nóng)業(yè)或藥物活性化合物的方法。

以下實例旨在說明本發(fā)明而非限制其范圍。

如果通過援引方式并入本申請的任何專利、專利申請、以及公開物的披露內(nèi)容與本申請的說明相沖突到了可能導(dǎo)致術(shù)語不清楚的程度，則本說明應(yīng)該優(yōu)先。

實例

tfac的制造

tfac是根據(jù)在ep0638539a中描述的方法制造的，并且該粗產(chǎn)物被用作有待經(jīng)受三步蒸餾方法的含有tfac和雜質(zhì)的粗餾分。

實例1：

使該含有tfac和雜質(zhì)的餾分在15巴下加壓并且經(jīng)受第一蒸餾柱(dn50，具有1cm直徑的陶瓷填充物，高度6米，材料：inox1.4571鋼)。將柱底部物(sump)保持在63℃；在該第一蒸餾柱的頂部，通過在-20℃截留回收主要含有hcl的餾分。該柱底部物主要含有tfac、123、cl2和cocl2。然后使該柱底部物經(jīng)受在9.5巴下的第二次蒸餾(柱dn50，具有1cm直徑的陶瓷填充物，高度6米，材料：inox1.4571鋼)。將柱底部物保持在63℃，在該柱的頂部，回收在53℃下的主要含有cl2的餾分以及cocl2的少量餾分。然后使此第二次蒸餾的柱底部物經(jīng)受在3巴下的第三次蒸餾(柱dn50，具有1cm直徑的陶瓷填充物，高度6米，材料：inox1.4571鋼)，其中在頂部(在18℃下，柱底部物84℃)回收含有tfac和減少的量的雜質(zhì)的餾分。

實例2：

使該含有tfac和雜質(zhì)的餾分在15巴下加壓并且經(jīng)受第一蒸餾柱(dn50，具有1cm直徑的陶瓷填充物，高度6米，材料：inox1.4571鋼)。將柱底部物保持在63℃；在該第一蒸餾柱的頂部，通過在-20℃截留回收主要含有hcl的餾分。該柱底部物主要含有tfac、123、cl2和cocl2。然后使該柱底部物經(jīng)受在7巴下的第二次蒸餾(柱dn50，具有1cm直徑的陶瓷填充物，高度6米，材料：inox1.4571鋼)。將柱底部物保持在104℃，在該柱的頂部回收在40℃下的主要含有tfac和cl2的餾分。然后使此第二次蒸餾的柱底部物經(jīng)受在6巴下的第三次蒸餾(柱dn50，具有1cm直徑的陶瓷填充物，高度6米，材料：inox1.4571鋼)，其中在頂部(在20℃下)蒸餾出主要含有tfac和cl2的餾分。作為含有tfac和減少的量的雜質(zhì)的餾分回收此第三次蒸餾的底部物(柱底部物)。

表i以重量％/ppm計的含量