技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
控制包含至少兩個嵌段的嵌段共聚物的合成的方法，所述至少兩個嵌段包括至少一個非極性嵌段和至少一個極性嵌段，所述方法使得可特別地控制嵌段之間的比率和各嵌段的分子量，所述共聚物為意圖通過直接自組裝件(DSA)用作納米光刻方法中的掩模的嵌段共聚物，所述控制是通過在非質(zhì)子非極性介質(zhì)中的半連續(xù)陰離子聚合實現(xiàn)的并且包括下列步驟：?合成大分子引發(fā)劑形式的第一非極性嵌段，?通過在非質(zhì)子非極性溶劑中混合先前合成的大分子引發(fā)劑與堿金屬醇鹽而制備所述先前合成的大分子引發(fā)劑的溶液，?在非質(zhì)子非極性溶劑中制備極性單體的溶液，?以恒定的流量比，將兩種先前制備的大分子引發(fā)劑和極性單體的溶液注入連接至聚合反應(yīng)器的微混合器中，?收取所獲得的共聚物。

技術(shù)研發(fā)人員：C.納瓦羅;C.尼科利特;X.舍瓦利耶
受保護的技術(shù)使用者：阿科瑪法國公司
技術(shù)研發(fā)日：2015.12.15
技術(shù)公布日：2017.08.29