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掃描實時微流體熱循環(huán)儀和用于同步的熱循環(huán)和掃描光學(xué)檢測的方法與流程

文檔序號:11809710閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.進(jìn)行實時核酸擴增和檢測的裝置,包括:

光學(xué)模塊,其包括:

檢測器頭,安裝在放置于所述光學(xué)模塊中的導(dǎo)軌上,所述檢測器頭包括多個檢測器對,每個檢測器對具有至少一個光源和至少一個光檢測器;

孔板,所述孔板被布置在所述光學(xué)模塊的底面中,所述孔板包括多個孔;

規(guī)格化裝置板,布置在所述光學(xué)模塊的底面中,被配置以校準(zhǔn)所述檢測器頭中的所述檢測器對,所述規(guī)格化裝置板包括一個或多個具有已知、標(biāo)準(zhǔn)化的光學(xué)特性的部件;和

接收托盤,連接于所述光學(xué)模塊,用于接收微流體盒,所述微流體盒包括多個獨立的反應(yīng)室,其中所述接收托盤將所述微流體盒安置在所述光學(xué)模塊下面,使得所述多個反應(yīng)室中的每個與所述孔板的孔對齊。

2.權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述檢測器頭可沿所述導(dǎo)軌移動,以將所述光源安置在所述孔板的所述孔上。

3.權(quán)利要求2所述的裝置,其中,當(dāng)所述光源被安置在所述孔上時,每個光源被配置以穿過孔向所述微流體盒中的反應(yīng)室發(fā)射光。

4.權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述規(guī)格化裝置板連接于所述光學(xué)模塊的底面中的所述孔板。

5.權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述檢測器頭中的所述光源發(fā)射不同波長的光。

6.權(quán)利要求5所述的裝置,其中所述檢測器頭中的每個光源發(fā)射不同波長的光。

7.權(quán)利要求5所述的裝置,其中所述規(guī)格化裝置板包括針對所述檢測器頭發(fā)射的每種顏色的標(biāo)準(zhǔn)化的生色團(tuán)。

8.權(quán)利要求5所述的裝置,其中所述規(guī)格化裝置板包括針對所述檢測器頭發(fā)射的每種顏色的標(biāo)準(zhǔn)化的熒光團(tuán)。

9.權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述接收托盤包括一個或多個加熱器,所述加熱器與所述微流體盒的所述反應(yīng)室熱接觸。

10.權(quán)利要求9所述的裝置,其中當(dāng)所述盒存在于所述接收托盤內(nèi)時,所述孔板提供基本上通過所述微流體盒的區(qū)域的基本上均勻的壓力,并且其中所述基本上均勻的壓力促進(jìn)所述反應(yīng)室和所述加熱器之間基本上均勻的熱接觸。

11.權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述孔板的圍繞所述孔的邊緣處薄于所述孔板的其余部分。

12.權(quán)利要求11所述的裝置,其中所述孔板的大部分包括大約0.25英寸的厚度,并且所述孔的邊緣包括大約0.19英寸的厚度。

13.權(quán)利要求1所述的裝置,其中當(dāng)所述盒存在于所述接收托盤內(nèi)時,所述孔板提供通過所述微流體盒的區(qū)域的基本上均勻的壓力。

14.權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述多個檢測器對的每個所述光源在所述檢測器頭的第一排排列,并且所述多個檢測器對的每個所述光檢測器在所述檢測器頭的第二排排列。

15.權(quán)利要求14所述的裝置,其中所述孔板包括M排孔,所述檢測器頭包括至少N排檢測器對和光源對,并且所述檢測器頭被配置以在所述孔板上移動到至少M+N-1個位置。

16.權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述孔板包括化學(xué)轉(zhuǎn)化涂層。

17.權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述孔板的表面被處理以減少自身熒光。

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