技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種pH響應型模板組裝的表面增強拉曼散射基底、制備方法及利用該基底檢測分子的方法。其拉曼散射襯底上的模板是對pH敏感的聚二乙烯基吡啶，模板上修飾有貴金屬金或銀粒子，模板隨pH值調(diào)節(jié)產(chǎn)生收縮與膨脹，同時動態(tài)調(diào)節(jié)基底中的金或銀納米粒子間隙，從而形成可調(diào)的熱點；銀納米粒子大小為25～35nm，復合基底的大小約為1μm。本發(fā)明制備的基底SERS“熱點可調(diào)”，使待測分子有效的落入到基底“熱點”范圍內(nèi)。選擇pH敏感的聚合物作為模板，與金、銀納米粒子以及待測分子混合，調(diào)節(jié)溶液的pH值，即可動態(tài)的調(diào)節(jié)SERS熱點。

技術(shù)研發(fā)人員：吳義平;張霞;楊本宏;劉偉芳
受保護的技術(shù)使用者：合肥學院
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.20
技術(shù)公布日：2017.08.18