本發(fā)明涉及樹脂組合物。而且,涉及樹脂片、固化物、柔性基板和半導體裝置。
背景技術(shù):
1、隨著近年來多樣的半導體封裝結(jié)構(gòu)的發(fā)展,對于可折彎的半導體封裝用基板的層間絕緣材料,高速通信或高多層化的需求也提高,絕緣材料的低介質(zhì)損耗角正切和絕緣可靠性或耐熱特性(回流焊后與導體的密合性)的必要性也進一步增加。
2、以往,為了確保折彎性,使用了包含柔性樹脂的絕緣材料(例如,專利文獻1)。
3、現(xiàn)有技術(shù)文獻
4、專利文獻
5、專利文獻1:日本特開2020-21851號公報。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、發(fā)明所要解決的課題
2、另一方面,如果以能夠確保折彎性(耐折性)的程度來摻混柔性樹脂,則會存在導致可靠性或耐熱特性不良的絕緣材料的問題。即,折彎性與絕緣可靠性、耐熱特性處于折衷的關(guān)系。
3、本發(fā)明的課題在于提供一種樹脂組合物,其帶來呈現(xiàn)良好的耐折性和絕緣可靠性、并且耐熱特性(回流焊后的基底密合性)也良好的固化物。
4、用于解決課題的手段
5、本發(fā)明人進行了深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過下述構(gòu)成的樹脂組合物可解決上述課題,所述樹脂組合物包含熱固化性樹脂、無機填充材料和特定的含有低聚亞苯基醚骨架的樹脂(以下,也稱為“含低聚亞苯基醚骨架的樹脂”),且在固化后呈現(xiàn)特定的物性,從而完成了本發(fā)明。
6、即,本發(fā)明包含以下的內(nèi)容。
7、[1]樹脂組合物,其是包含熱固化性樹脂、無機填充材料和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為25℃以下的含低聚亞苯基醚骨架的樹脂x的樹脂組合物,
8、該樹脂組合物的固化物呈現(xiàn)小于0.01的介質(zhì)損耗角正切df,且滿足以下條件(1)和(2)中的至少一者:
9、(1)伸長率為5%以上且小于50%;
10、(2)mit耐折性試驗中的耐折次數(shù)為200次以上。
11、[2][1]所述的樹脂組合物,其中,在將樹脂組合物中的樹脂成分設為100質(zhì)量%時,樹脂x的含量為20質(zhì)量%以上且小于85質(zhì)量%。
12、[3][1]或[2]所述的樹脂組合物,其中,在將樹脂組合物中的非揮發(fā)成分設為100質(zhì)量%時,無機填充材料的含量為50質(zhì)量%以下。
13、[4][1]~[3]中任一項所述的樹脂組合物,其中,樹脂x包含選自下述的1種以上的結(jié)構(gòu)單元:聚烯烴結(jié)構(gòu)單元、聚碳酸酯結(jié)構(gòu)單元、聚醚結(jié)構(gòu)單元、聚酯結(jié)構(gòu)單元、聚(甲基)丙烯酸結(jié)構(gòu)單元和聚硅氧烷結(jié)構(gòu)單元。
14、[5][1]~[4]中任一項所述的樹脂組合物,其中,樹脂x包含環(huán)狀酰亞胺結(jié)構(gòu)。
15、[6][1]~[5]中任一項所述的樹脂組合物,其用于形成柔性基板的絕緣層。
16、[7][1]~[6]中任一項所述的樹脂組合物的固化物。
17、[8]樹脂片,其包含:支撐體和設置于該支撐體上的[1]~[6]中任一項所述的樹脂組合物的層。
18、[9][8]所述的樹脂片,其中,支撐體為熱塑性樹脂膜或金屬箔。
19、[10]柔性基板,其包含由[1]~[6]中任一項所述的樹脂組合物的固化物構(gòu)成的絕緣層。
20、[11]半導體裝置,其包含[10]所述的柔性基板。
21、發(fā)明效果
22、根據(jù)本發(fā)明,可提供一種新的樹脂組合物,其可帶來呈現(xiàn)良好的耐折性和絕緣可靠性、并且耐熱特性(回流焊后的基底密合性)也良好的固化物。
1.樹脂組合物,其是包含熱固化性樹脂、無機填充材料和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為25℃以下的含低聚亞苯基醚骨架的樹脂x的樹脂組合物,
2.權(quán)利要求1所述的樹脂組合物,其中,在將樹脂組合物中的樹脂成分設為100質(zhì)量%時,樹脂x的含量為20質(zhì)量%以上且小于85質(zhì)量%。
3.權(quán)利要求1所述的樹脂組合物,其中,在將樹脂組合物中的非揮發(fā)成分設為100質(zhì)量%時,無機填充材料的含量為50質(zhì)量%以下。
4.權(quán)利要求1所述的樹脂組合物,其中,樹脂x包含選自下述的1種以上的結(jié)構(gòu)單元:聚烯烴結(jié)構(gòu)單元、聚碳酸酯結(jié)構(gòu)單元、聚醚結(jié)構(gòu)單元、聚酯結(jié)構(gòu)單元、聚(甲基)丙烯酸結(jié)構(gòu)單元和聚硅氧烷結(jié)構(gòu)單元。
5.權(quán)利要求1所述的樹脂組合物,其中,樹脂x包含環(huán)狀酰亞胺結(jié)構(gòu)。
6.權(quán)利要求1所述的樹脂組合物,其用于形成柔性基板的絕緣層。
7.權(quán)利要求1~6中任一項所述的樹脂組合物的固化物。
8.樹脂片,其包含:支撐體和設置于該支撐體上的權(quán)利要求1~6中任一項所述的樹脂組合物的層。
9.權(quán)利要求8所述的樹脂片,其中,支撐體為熱塑性樹脂膜或金屬箔。
10.柔性基板,其包含由權(quán)利要求1~6中任一項所述的樹脂組合物的固化物構(gòu)成的絕緣層。
11.半導體裝置,其包含權(quán)利要求10所述的柔性基板。