本申請主張于2020年1月21日向韓國專利局提交的韓國專利申請第10-2020-0007825號(hào)的優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容包含在本說明書中。本說明書涉及化合物及包含其的有機(jī)發(fā)光器件。

背景技術(shù)：

1、通常情況下，有機(jī)發(fā)光現(xiàn)象是指利用有機(jī)物質(zhì)將電能轉(zhuǎn)換為光能的現(xiàn)象。利用有機(jī)發(fā)光現(xiàn)象的有機(jī)發(fā)光器件通常具有包括陽極和陰極以及位于它們之間的有機(jī)物層的結(jié)構(gòu)。在這里，為了提高有機(jī)發(fā)光器件的效率和穩(wěn)定性，有機(jī)物層大多情況下由分別利用不同的物質(zhì)構(gòu)成的多層結(jié)構(gòu)形成，例如，可以由空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層等形成。對于這樣的有機(jī)發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)而言，如果在兩電極之間施加電壓，則空穴從陽極注入有機(jī)物層，電子從陰極注入有機(jī)物層，當(dāng)所注入的空穴和電子相遇時(shí)會(huì)形成激子(exciton)，該激子重新躍遷至基態(tài)時(shí)就會(huì)發(fā)出光。

2、持續(xù)要求開發(fā)用于如上所述的有機(jī)發(fā)光器件的新的材料。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、技術(shù)課題

2、本說明書提供化合物及包含其的有機(jī)發(fā)光器件。

3、課題的解決方法

4、本說明書的一實(shí)施方式提供由下述化學(xué)式1表示的化合物。

5、[化學(xué)式1]

6、

7、在上述化學(xué)式1中，

8、l1為直接鍵合、或者取代或未取代的亞芳基，

9、d為氘，

10、n1為0至9的整數(shù)，

11、n2為0至8的整數(shù)，

12、n3為0至7的整數(shù)，

13、上述1≤n1+n2+n3≤24。

14、另外，本說明書提供一種有機(jī)發(fā)光器件，其中，包括：第一電極；與上述第一電極對置而設(shè)置的第二電極；以及設(shè)置在上述第一電極與上述第二電極之間的一層或更多層有機(jī)物層，上述有機(jī)物層中的一層或更多層包含上述化合物。

15、發(fā)明效果

16、本說明書中記載的化合物可以用作有機(jī)發(fā)光器件的有機(jī)物層的材料。根據(jù)另一實(shí)施方式的化合物在有機(jī)發(fā)光器件中可以實(shí)現(xiàn)效率的提高、較低的驅(qū)動(dòng)電壓和/或壽命特性的提高。

技術(shù)特征：

1.一種由下述化學(xué)式1-2或1-5表示的化合物：化學(xué)式1-2

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，其中，所述l1為直接鍵合、或者被氘取代或未取代的碳原子數(shù)6至30的單環(huán)或多環(huán)的亞芳基。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，其中，所述化學(xué)式1-2或1-5為選自下述化合物中的任一個(gè)：

4.一種有機(jī)發(fā)光器件，包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)發(fā)光器件，所述有機(jī)物層包括空穴注入層、空穴傳輸層或電子阻擋層，所述空穴注入層、所述空穴傳輸層或所述電子阻擋層包含所述化合物。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)發(fā)光器件，其中，所述有機(jī)物層包括發(fā)光層，所述發(fā)光層包含所述化合物。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)發(fā)光器件，其中，所述有機(jī)物層包括發(fā)光層，所述發(fā)光層包含所述化合物作為所述發(fā)光層的主體。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的有機(jī)發(fā)光器件，其中，所述發(fā)光層還包含摻雜劑，所述摻雜劑包括選自熒光性摻雜劑、磷光性摻雜劑、以及熱延遲熒光系摻雜劑中的一種或更多種。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的有機(jī)發(fā)光器件，其中，所述熒光性摻雜劑包含選自芳基胺系化合物和硼系化合物中的一種或更多種。

技術(shù)總結(jié)
本說明書涉及化學(xué)式1?2或1?5的化合物及包含其的有機(jī)發(fā)光器件。本發(fā)明的化合物可以用作有機(jī)發(fā)光器件的有機(jī)物層的材料，并且在有機(jī)發(fā)光器件中可以實(shí)現(xiàn)效率的提高、較低的驅(qū)動(dòng)電壓和/或壽命特性的提高。

技術(shù)研發(fā)人員：李豪中,洪玩杓,河宰承,崔地寧,李禹哲,金周湖,金塤埈,金宣佑
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會(huì)社LG化學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2