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一種復(fù)合薄膜及其制備方法及應(yīng)用

文檔序號:40654894發(fā)布日期:2025-01-10 19:04閱讀:3來源:國知局
一種復(fù)合薄膜及其制備方法及應(yīng)用

本發(fā)明涉及聚合物納米復(fù)合材料領(lǐng)域,具體涉及一種復(fù)合薄膜及其制備方法及應(yīng)用。


背景技術(shù):

1、5g時代推動了電子電氣設(shè)備的快速發(fā)展。在電子電氣設(shè)備效率提高的同時,也會產(chǎn)生更多的電磁干擾(emi)。電磁干擾除了使電子設(shè)備發(fā)生故障外,還會破壞人體器官周圍的穩(wěn)定磁場,危害人體健康。研究一種集成多功能性的高性能電磁干擾屏蔽材料是迫切需要的。

2、mxene材料因其豐富的表面官能團、典型的二維層狀結(jié)構(gòu)以及將金屬的優(yōu)越導(dǎo)電性與碳基材料的高化學(xué)穩(wěn)定性相結(jié)合的能力,被視為一種很有前途的emi屏蔽材料。然而,材料表面優(yōu)越的導(dǎo)電性導(dǎo)致的阻抗失配也意味著電磁波的高反射,這可能導(dǎo)致二次電磁污染,阻礙了新型環(huán)保emi屏蔽材料的發(fā)展。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明提供了一種復(fù)合薄膜及其制備方法及應(yīng)用,本發(fā)明的復(fù)合薄膜具有高效的電磁屏蔽性能和低電磁波反射。

2、本發(fā)明提供了一種復(fù)合薄膜,包括依次層疊的mxene膜和阻抗匹配層;所述阻抗匹配層包括依次層疊的吸收層;每層吸收層中獨立地包括纖維素,分散于所述纖維素中的mxene和分散于所述纖維素中的hfo;所述hfo為中空結(jié)構(gòu);

3、沿所述mxene膜到阻抗匹配層的方向上,每層吸收層中,所述mxene的含量逐漸降低,所述hfo的含量逐漸提高。

4、優(yōu)選的,所述纖維素包括細(xì)菌纖維素和/或植物纖維素。

5、優(yōu)選的,所述細(xì)菌纖維素的直徑為50~100nm,長度20~25μm;

6、所述植物纖維素的直徑為5~10nm,長度為1~3μm。

7、優(yōu)選的,所述每層吸收層中的mxene和mxene膜中的mxene包括氟鹽法制備的單少層ti3c2tx。

8、優(yōu)選的,所述hfo的平均粒徑為350~400nm,殼的厚度為10~15nm。

9、優(yōu)選的,每層吸收層中纖維素與mxene的質(zhì)量比獨立地為1:0~1,纖維素與hfo的質(zhì)量比獨立地為1:0~1。

10、優(yōu)選的,所述阻抗匹配層包括依次層疊的四層膜。

11、優(yōu)選的,所述阻抗匹配層的第一層膜中纖維素與mxene的質(zhì)量比為1:0.15~0.4,纖維素與hfo的質(zhì)量比為1:0.1~0.35;

12、第二層膜中纖維素與mxene的質(zhì)量比為1:0.1~0.2,纖維素與hfo的質(zhì)量比為1:0.3~0.4;

13、第三層膜中纖維素與mxene的質(zhì)量比為1:0.05~0.1,纖維素與hfo的質(zhì)量比為1:0.4~0.45;

14、第四層膜中無mxene,纖維素與hfo的質(zhì)量比為1:0.5。

15、本發(fā)明還提供了上述技術(shù)方案所述復(fù)合薄膜的制備方法,包括以下步驟:

16、按照設(shè)計,對復(fù)合薄膜中每層膜原料的分散液依次進行抽濾、干燥,得到所述復(fù)合薄膜。

17、本發(fā)明還提供了上述技術(shù)方案所述復(fù)合薄膜或上述技術(shù)方案所述制備方法制備的復(fù)合薄膜在復(fù)合材料薄膜制備中的應(yīng)用。

18、本發(fā)明復(fù)合薄膜中的hfo(fe3o4)為磁性填料,中空結(jié)構(gòu)的hfo可以減少阻抗失配,并使得入射進來的電磁波在復(fù)合薄膜內(nèi)部具有眾多的損耗路徑,從而達到良好的屏蔽效果,中空結(jié)構(gòu)的hfo降低電磁干擾屏蔽材料的重量;另外,本發(fā)明控制吸收層中mxene的含量構(gòu)建了mxene膜到阻抗匹配層的方向上的電性梯度,控制hfo的含量構(gòu)建了磁性梯度,使得復(fù)合薄膜具有了電磁雙梯度,電磁雙梯度可以使電磁波進入復(fù)合薄膜而不會產(chǎn)生太多反射,從而提高了電磁屏蔽性能,降低了電磁波反射;mxene膜中具有高導(dǎo)電性的純mxene底層可以有效反射,防止殘余電磁波穿透復(fù)合薄膜,確保高的電磁屏蔽效能值,并且mxene膜反射回至阻抗匹配層的電磁波會繼續(xù)經(jīng)歷介電損耗和磁損耗的衰減,這提高了復(fù)合薄膜對電磁波的吸收值,從而提高了電磁屏蔽性能,降低了電磁波反射。因此,本發(fā)明通過電磁雙梯度的構(gòu)建、合理排列mxene膜和阻抗匹配層以及中空結(jié)構(gòu)hfo的使用,在磁損耗、電損耗和介電損耗等方面協(xié)同改善了其微波吸收,加強了“吸收-反射-重吸收”屏蔽機制,提高emi屏蔽效能,有效減少阻抗失配,降低了反射比。

19、進一步地,本發(fā)明以細(xì)菌纖維素作為吸收層的基體材料,環(huán)保無毒可再生,存在于mxene層之間和表面,起到了支撐和連接的作用,改善了復(fù)合薄膜力學(xué)性能差的問題。

20、進一步地,氟鹽法制備的單少層ti3c2tx具有良好的分散性和電導(dǎo)率,同時為其表面增加了大量活性含氧基團,有利于對其表面修飾。

21、本發(fā)明所制備的阻抗匹配層同時展現(xiàn)出高效的電磁屏蔽性能和低電磁波反射特征。且由于兩側(cè)不同的化學(xué)成分和微觀形態(tài),薄膜還表現(xiàn)出多功能性。具有廣泛的市場應(yīng)用前景。



技術(shù)特征:

1.一種復(fù)合薄膜,其特征在于,包括依次層疊的mxene膜和阻抗匹配層;所述阻抗匹配層包括依次層疊的吸收層;每層吸收層中獨立地包括纖維素,分散于所述纖維素中的mxene和分散于所述纖維素中的hfo;所述hfo為中空結(jié)構(gòu);

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合薄膜,其特征在于,所述纖維素包括細(xì)菌纖維素和/或植物纖維素。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的復(fù)合薄膜,其特征在于,所述細(xì)菌纖維素的直徑為50~100nm,長度20~25μm;

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合薄膜,其特征在于,所述每層吸收層中的mxene和mxene膜中的mxene包括氟鹽法制備的單少層ti3c2tx。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合薄膜,其特征在于,所述hfo的平均粒徑為350~400nm,殼的厚度為10~15nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1、4或5所述的復(fù)合薄膜,其特征在于,每層吸收層中纖維素與mxene的質(zhì)量比獨立地為1:0~1,纖維素與hfo的質(zhì)量比獨立地為1:0~1。

7.根據(jù)權(quán)利要求1、4或5所述的復(fù)合薄膜,其特征在于,所述阻抗匹配層包括依次層疊的四層膜。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的復(fù)合薄膜,其特征在于,所述阻抗匹配層的第一層膜中纖維素與mxene的質(zhì)量比為1:0.15~0.4,纖維素與hfo的質(zhì)量比為1:0.1~0.35;

9.權(quán)利要求1~8任一項所述復(fù)合薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:

10.權(quán)利要求1~8任一項所述復(fù)合薄膜或權(quán)利要求9所述制備方法制備的復(fù)合薄膜在復(fù)合材料薄膜制備中的應(yīng)用。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種復(fù)合薄膜及其制備方法及應(yīng)用,屬于聚合物納米復(fù)合材料領(lǐng)域。本發(fā)明提供了一種復(fù)合薄膜,包括依次層疊的MXene膜和阻抗匹配層;所述阻抗匹配層包括依次層疊的吸收層;每層吸收層中獨立地包括纖維素,分散于所述纖維素中的MXene和分散于所述纖維素中的HFO;所述HFO為中空結(jié)構(gòu);所述MXene膜到阻抗匹配層的方向上,每層吸收層中,所述MXene的含量逐漸降低,所述HFO的含量逐漸提高。本發(fā)明通過電磁雙梯度的構(gòu)建、合理排列MXene膜和阻抗匹配層以及中空結(jié)構(gòu)HFO的使用,協(xié)同加強了“吸收?反射?重吸收”屏蔽機制,提高EMI屏蔽效能,有效減少阻抗失配,降低了反射比。

技術(shù)研發(fā)人員:潘蕾,劉夢欣,張浩然,章子怡,黃心萌,黃姝琳,陳震午
受保護的技術(shù)使用者:南京航空航天大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/9
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