質(zhì)量 ％。
[0022] <成分值)〉 成分值）的具有3個W上（甲基）丙締酷氧基的己內(nèi)醋低聚物衍生物是為了使光固化 性組合物的光固化物具有顯示良好的彎曲性、耐裂紋性等的柔軟性而配合的。在該樣的己 內(nèi)醋低聚物衍生物中，可優(yōu)選使用具有9個（甲基）丙締酷氧基的材料。成分值）的具有 3個W上（甲基）丙締酷氧基的己內(nèi)醋低聚物衍生物可優(yōu)選使用斷裂伸長率（低聚物伸長 率）為30-50%的材料。該里所述的斷裂伸長率（低聚物伸長率）表示如下伸長率；將在 100質(zhì)量份低聚物衍生物中配合3質(zhì)量份2-哲基-2-環(huán)己基苯己酬作為光聚合引發(fā)劑而得 的組合物，W使固化后的膜厚為60-100ym厚度的方式涂布，在200mW/cm2、300mJ/cm2的條 件下使其光固化，將所得低聚物固化物用拉伸試驗機（商品名；Tensilon,化ientecCo.， Ltd.)進行評價，到斷裂為止的伸長率（%)。低聚物中含有溶劑時，可根據(jù)需要在光固化前 后使溶劑揮發(fā)后測定?？稍谑袌錾汐@得的具體例子可舉出：日本合成化學(xué)工業(yè)（株）的商 品名"UT 5236"、"UT 5237"、Arkema公司的商品名"CN929"等所特定的材料。在不損害本 發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，還可W將具有2個（甲基）丙締酷氧基的己內(nèi)醋低聚物衍生物、例如 Arkema公司的商品名'乂抓￥6151"、〇3山6^切16〇Co.，Ltd.的商品名"EB8402"等與具有 3個W上（甲基）丙締酷氧基的己內(nèi)醋低聚物衍生物結(jié)合使用。
[002引成分做在光固化性組合物中的含量過少，則彎曲性、耐裂紋性、翅曲等特性有 變差傾向，過多則表面硬度、密合性等特性有變差傾向，因此優(yōu)選為10-80質(zhì)量％，更優(yōu)選 40-60 質(zhì)量 ％。
[0024] <成分巧）〉 成分巧）的光聚合引發(fā)劑可W從公知的光自由基聚合引發(fā)劑中適當(dāng)選擇使用。例如可 舉出；苯己酬類光聚合引發(fā)劑、芐基縮醒類光聚合引發(fā)劑、磯類光聚合引發(fā)劑等。具體來說， 苯己酬類光聚合引發(fā)劑可舉出；2-哲基-2-環(huán)己基苯己酬（IRGACURE184，BASF日本（株））、 曰-哲基-曰，曰，-二甲基苯己酉同值A(chǔ)R0CUR1173,BASF日本（株））、2,2-二甲氧基-2-苯 基苯己酬（IRGACURE651，BASF日本（株））、4-(2-哲基己氧基）苯基（2-哲基-2-丙基） 酬值A(chǔ)R0CUR2959,BASF日本（株））、2-哲基-l-{4-[2-哲基-2-甲基-丙酷基]-芐基} 苯基}-2-甲基-丙烷-1-酬（IRGACURE127,BASF日本（株））等。芐基縮醒類光聚合引 發(fā)劑可舉出；二苯甲酬、9-巧酬、二苯并環(huán)庚酬、4-氨基二苯甲酬、4, 4' -二氨基二苯甲酬、 4-哲基二苯甲酬、4-氯二苯甲酬、4, 4' -二氯二苯甲酬等。
[0025] 還可使用2-芐基-2-二甲基氨基-l-(4-嗎咐代苯基）-了酬-1(IRGACURE369， BASF日本（株））。磯類光聚合引發(fā)劑可舉出；雙化4,6-S甲基苯甲酯）-苯基氧化麟 (1尺64抓尺6819,845尸日本（株））、2,4,6-^甲基苯甲酯-二苯基氧化麟值4尺0(：抓1口0,8八5尸 日本（株））等。
[0026] 成分巧）在光固化性組合物中的含量過少，則有發(fā)生硬度性能降低導(dǎo)致的密合 性降低或硬度不足的傾向，過多則有聚合不良導(dǎo)致的密合性等特性降低的傾向，因此優(yōu)選 0. 5-25質(zhì)量％，更優(yōu)選1-10質(zhì)量％。
[0027] 在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，本發(fā)明的光固化性組合物可W含有溶劑、流平 劑、色調(diào)調(diào)節(jié)劑、著色劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、各種熱塑性樹脂材料等添加劑。為了調(diào) 節(jié)折射率W及有意使表面粗趟化，可W適當(dāng)添加由有機物、無機物和有機無機雜化物形成 的微粒。
[002引抗靜電劑例如可W使用導(dǎo)電性碳、無機微粒、無機微粉、表面活性劑、離子性液體 等。該些抗靜電劑可W單獨使用或?qū)?種W上結(jié)合使用。無機微粒和無機微粉的材料例如 可舉出W導(dǎo)電性金屬氧化物為主要成分的材料。導(dǎo)電性金屬氧化物例如可使用氧化錫、氧 化銅、AT0(滲雜鋪的氧化錫）、IT0(滲雜銅的氧化錫）、鋪酸化鋒等。
[0029] 本發(fā)明的光固化性組合物可將上述成分（A)、似、值）、巧）W及做還有各種添 加劑按照常規(guī)方法均勻混合來制造。
[0030] 如已說明的，W上說明的本發(fā)明的光固化性組合物作為帶保護涂層的膜中的用于 形成該保護涂層的保護涂層形成用組合物特別有用，所述帶保護涂層的膜包含由環(huán)狀締姪 類樹脂形成的基材膜、和在基材膜的至少一個面上形成的保護涂層。
[0031] 該里，作為環(huán)狀締姪類樹脂，可舉出；由環(huán)狀締姪（例如降冰片締類）的開環(huán)復(fù)分 解聚合W及之后的氨化反應(yīng)得到的、W環(huán)締姪為單體的主鏈上具有脂環(huán)結(jié)構(gòu)的樹脂（COP); 由環(huán)狀締姪（例如降冰片締類）與a-締姪（例如己締）的加成聚合得到的樹脂（C0C)。 [00對 COP的具體例子可舉出：日本Zeon(株）的商品名"ZE0N0R"所特定的聚四環(huán)十二 締等。C0C的具體例子可舉出；T0PASAdvancedPolymers公司的商品名"T0PAS"所特定的 己締?降冰片締共聚物、S井化學(xué)（株）的商品名"AP化"所特定的己締?四環(huán)十二締共聚 物、JSR(株）的商品名"ART0N"所特定的己締?四環(huán)十二締?甲基丙締酸醋共聚物等。包 含該些環(huán)狀締姪類樹脂的膜可通過公知的方法賦予相位差功能。
[0033]因此，利用本發(fā)明的光固化性組合物得到的帶保護涂層的膜也是本發(fā)明的一部 分，該帶保護涂層的膜包含由環(huán)狀締姪類樹脂形成的基材膜、和在基材膜的至少一個面上 形成的保護涂層，其中該保護涂層是本發(fā)明的光固化性組合物的光固化物層。
[0034] 圖1表示所述的帶保護涂層的膜3的截面圖。帶保護涂層的膜3具有在基材膜1 的兩面層合有保護涂層2的結(jié)構(gòu)。雖然未有圖示，但保護涂層2可W只層合在基材膜1的 一個面上。基材膜1的材質(zhì)、用于形成保護涂層2的光固化性組合物如已說明的那樣。
[0035] 基材膜1的厚度根據(jù)其所要應(yīng)用的光學(xué)裝置的種類、性能而不同，通常為 25-200ym，優(yōu)選40-150ym，保護涂層2的厚度通常為0. 5-8ym，優(yōu)選0. 8-7ym。
[0036] 在制造帶保護涂層的膜3時所進行的光固化性組合物的涂布方法、光固化條件可 根據(jù)所使用的光固化性組合物的配比處方等，適當(dāng)采用公知的方法和條件。W下對帶保護 涂層的膜的制造方法（涂料制備一基材膜前處理一涂布一干燥?固化）的一個例子進行說 明。
[0037](涂料制備） 首先，使用分散器值isper)等的攬拌機，按照常規(guī)方法將上述成分（A)、（C)、值）、巧）、W及根據(jù)需要的成分炬)，W及溶劑、流平劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、阻燃劑、抗氧化劑、 二氧化娃微粒粘度調(diào)節(jié)劑等各種添加劑均勻混合，由此制備光固化性組合物的涂料。優(yōu)選 該光固化性組合物不僅具有透光性，而且透射光的色調(diào)、透光量不因著色、混濁度而顯著變 化。
[003引溶劑只要可充分溶解例如所使用的樹脂原料即可，沒有特別限定，可W使用公知 的有機溶劑。有機溶劑例如可舉出；MEK、MI服、ANON等酬類溶劑；IPA、n-BuOH、t-BuOH等醇 類溶劑；己酸了醋、己酸己醋等醋類溶劑，二醇離類溶劑等。
[0039](基材膜前處理） 接著，為了提高基材膜與光固化性組合物的固化物層的密合性，優(yōu)選通過氧化法或凹 凸化法在基材膜的單面或兩面實施表面處理。氧化法可舉出；例如電暈放電處理、輝光放電 處理、銘酸處理（濕式）、火焰處理、熱風(fēng)處理、臭氧?紫外線照射處理等。
[0040] (涂布） 接著，將如上所述得到的涂料涂布在基材膜上。涂布方法沒有特別限定，可W采用公知 的涂布方法。公知的涂布方法例如可舉出；微凹版涂布法、線椿涂布法、直接凹版涂布法、模 頭涂布法、浸潰法、噴涂法、逆漉涂布法、幕涂法、缺角輪涂法、刀涂法、旋涂法等。
[0041] (干燥?固化） 接著，將涂布在基材膜上的涂料干燥、固化，由此形成光固化性組合物的固化物層（即 保護涂層）。由此得到本發(fā)明的帶保護涂層的膜。
[0042]干燥條件沒有特別限定，可W是自然干燥，也可W是調(diào)節(jié)干燥溫度、干燥時間等的 人工干燥。不過，干燥時涂料表面遇到風(fēng)時，優(yōu)選涂膜表面不會產(chǎn)生風(fēng)紋。原因在于若產(chǎn)生 風(fēng)紋則涂布外觀變差，產(chǎn)生表面性的厚度不均。