一種厄他培南單鈉鹽新晶型及其制備工藝的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及醫(yī)藥中間體合成技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種厄他培南單軸鹽新晶型及其 制備工藝技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002] 厄他培南軸為美國(guó)默克制藥公司開發(fā)的新型廣譜碳青霉帰類抗生素，化學(xué)名稱為 (4R，5S，6巧-3-[ [ (3S，5巧-5-[ [ (3-駿基苯基）氨基甲醜基]化咯焼-3-基]硫-6-(1-輕 基己基）-4-甲基-7-氧代-1-氮雜雙環(huán)化2. 0]庚-2-帰-2-甲酸軸鹽，其結(jié)構(gòu)式如下：
[0003]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種厄他培南單軸鹽晶型，在衍射角2 0為4. 63 + 0. r，5. 51+0. r，7. 32 + 0. r， 7. 74+0. r ,8. 19+0. r ,10. 99+0. r ,12. 99+0. r處有特征峰。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的厄他培南單軸鹽晶型，在衍射角20為4.63±0.r，5.51± O.r,7.32+0.r,7.74+0.r,8. 19 + 0.r,8.94+0.r,9.胡±0.r,10.99 + 0.r,11. 7 9+0.r,12.11+0.r,12.99+0.r,15.32+0.r,19.10+0.r處有特征峰。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厄他培南單軸鹽晶型，具有圖1所述的X-射線粉末衍射圖 譜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一權(quán)利要求所述的厄他培南單軸鹽晶型的制備工藝，包括如 下步驟： i)將具有式（C)結(jié)構(gòu)的雙保護(hù)厄他培南溶解在四氨巧喃中并冷卻至-5~1(TC，滴入 質(zhì)量分?jǐn)?shù)0. 5%~5%碳酸氨軸溶液，
ii)加入把碳，通入氨氣至1. 0~2. OMPa并保持溫度為-5~2(TC ; iii)反應(yīng)完畢后，過濾，濾餅用水淋洗； iv)濾液用醋酸/甲醇調(diào)抑至5-6 ; V)加入醇類溶劑/二氯甲焼攬拌分層，分得水層中加入A溶劑； Vi)加入晶種，在0~5°C溫度范圍內(nèi)滴入甲醇/正丙醇混合液； vii)過濾，濾餅用丙麗淋洗得到厄他培南單軸鹽晶型。 所述A溶劑為正下醇，甲酸甲醋，下麗，甲基異下基麗，異戊醇中的一種或兩種W上的 混合溶劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備工藝，所述步驟i)中，四氨巧喃的用量為式（C)化合物 的2~30倍（V/M);碳酸氨軸與式（C)化合物的摩爾用量比為（0. 5~5) ;1 ;優(yōu)選的反應(yīng)溫 度為0~1(TC。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備工藝，所述步驟ii)中，加入把碳與式（C)化合物的質(zhì)量 比為（0. 1~0. 3) ;1。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備工藝，所述步驟V)中，所述醇類溶劑為異丙醇、正丙醇、 正下醇、異戊醇中的一種或幾種。
8. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備工藝，所述步驟V)中，所述醇類溶劑與二氯甲焼的用量 比（V/V)為（0. 5~4) ;1 ;所述醇類溶劑的用量為式（C)化合物的5~20倍（V/M);所述正 下醇的用量為式（C)化合物的2~50倍（V/M)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備工藝，所述步驟Vi)中，甲醇/正丙醇混合液分兩次滴 入。
10. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，所述步驟Vi)中，分得水層中加入溶劑為正下醇。
【專利摘要】本發(fā)明涉及醫(yī)藥中間體合成技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種厄他培南單鈉鹽新晶型及其制備工藝技術(shù)領(lǐng)域，所述的厄他培南單鈉鹽在衍射角2θ為4.63±0.1°,5.51±0.1°,7.32±0.1°,7.74±0.1°,8.19±0.1°,10.99±0.1°,12.99±0.1°處有特征峰。
【IPC分類】C07D477-06, C07D477-20
【公開號(hào)】CN104788454
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410020002
【發(fā)明人】蔡亞祥, 方健, 張懷寶, 林荊鑫
【申請(qǐng)人】浙江九洲藥業(yè)股份有限公司
【公開日】2015年7月22日
【申請(qǐng)日】2014年1月16日