-鄰橫基苯甲酸酢
[0102] 己締基改性化合物C12-丙締基-鄰橫基苯甲酸酢
[0103] 己締基改性化合物C2 1-了締基-鄰橫基苯甲酸酢
[0104] 己締基改性化合物C3 2-己締基-鄰橫基苯甲酸酢 [01化]金屬氨氧化物D1;氨氧化儀
[0106] 金屬氨氧化物D2 ;氨氧化侶
[0107]TPO7467 美國(guó)杜邦
[0108] 實(shí)施例1
[0109] 改性LDS添加劑；通過(guò)前述的制備方法得到，100重量份的A1，10重量份的C1。
[0110]原料準(zhǔn)備；100重量份的TPO樹(shù)脂，80重量份的填料，5重量份的改性LDS添加劑。
[0111] 混合物料；將樹(shù)脂基體、導(dǎo)熱填料、激光敏感添加劑、其他添加劑加入到高速混合 機(jī)中，混合均勻；
[0112] 將所得到的混合物料利用雙螺桿擠出機(jī)擠出、冷卻、切粒得到目標(biāo)產(chǎn)品；
[0113] 在模具中，從一邊為60mm且厚度為1.5mm的扇狀誘口向60X60mm且厚度為2mm 的模腔內(nèi)填充樹(shù)脂，進(jìn)行成型。切去誘口部分，得到鍛覆試驗(yàn)片。
[0114] 在所得到的鍛覆試驗(yàn)片的10X10mm的范圍內(nèi)，使用LP-ZSERIES的激光照射裝置 (波長(zhǎng)1064皿的￥46激光最大輸出功率為13胖)，^輸出功率80%、脈沖周期20^3、速度 4m/s進(jìn)行照射。
[0115] 之后的鍛覆工序利用無(wú)電解的MacDermid公司制造的MIDCopperlOOXB Str化e， 用60°C的鍛槽。20分鐘后取出，W同樣的方法制備100片上述試驗(yàn)片，進(jìn)行百格測(cè)試。計(jì) 算得到平均脫落面積為3. 5%。
[0116] 實(shí)施例2
[0117] 與實(shí)施例1相同，但是采用的是100重量份的A2,20重量份的C2。計(jì)算得到平均 脫落面積為3. 5%。
[011引實(shí)施例3
[0119] 與實(shí)施例1相同，但是采用的是100重量份的A3, 30重量份的C3。計(jì)算得到平均 脫落面積為3.0%。
[0120] 對(duì)比例1
[0121] 與實(shí)施例1相同，但是采用的是100重量份的鄰橫基苯甲酸酢，10重量份的C1。計(jì) 算得到平均脫落面積為5. 5%。
[0122] 對(duì)比例2
[0123] 與實(shí)施例1相同，但是采用的是100重量份的A1，10重量份的C1，但是不采用前 述的方法制備改性LDS添加劑，而是直接加入至TP0組合物中。計(jì)算得到平均脫落面積為 5. 0%。
[0124] 可W看出，本發(fā)明在加入了帶有己締基基團(tuán)的改性化合物，大幅提高了平均脫落 面積，提高的金屬薄膜的附著力。同時(shí)采用具有駿基和橫酸基團(tuán)的化合物能夠有效提高 材料的力學(xué)性能，在本發(fā)明的實(shí)驗(yàn)中，實(shí)施例1的模制件的Izod缺口沖擊強(qiáng)度（根據(jù)ISO 180/4A在厚度為3. 2mm)與采用單一的駿酸基團(tuán)或橫酸基團(tuán)（苯甲酸與苯橫酸摩爾比為1; 1，總質(zhì)量與C1相同）相比，其沖擊強(qiáng)度提高約30%。
[0125] 實(shí)施例4
[01%] 與實(shí)施例1相同，但是采用的是20重量份的C2,10重量份的B1。計(jì)算得到平均脫 落面積為2.0%。
[0127] 實(shí)施例5
[0128] 與實(shí)施例1相同，但是采用的是10重量份的C3,10重量份的B2。計(jì)算得到平均脫 落面積為2.0%。
[0129] 實(shí)施例6
[0130] 與實(shí)施例1相同，但是采用的是10重量份的C2, 20重量份的B3。計(jì)算得到平均脫 落面積為2.0%。
[0131] 對(duì)比例3
[0132] 與實(shí)施例1相同，但是采用的是20重量份的C2,2重量份的B1。計(jì)算得到平均脫 落面積為3. 5%。
[013引可W看出，采用特定的比例，二者的配合性更好。
[0134]實(shí)施例7
[01巧]與實(shí)施例1相同，但是采用的是20重量份的C2,10重量份的B1，4重量份氨氧化 儀。計(jì)算得到平均脫落面積為1.0%。
[0136]實(shí)施例8
[0137] 與實(shí)施例1相同，但是采用的是30重量份的C2,15重量份的Bl，10重量份氨氧化 侶。計(jì)算得到平均脫落面積為0.5%。
[013引 實(shí)施例9
[0139] 與實(shí)施例1相同，但是采用的是30重量份的C2,15重量份的B1，10重量份氨氧化 侶，使用ABS鎮(zhèn)江奇美，PA-717C_ASTM作為樹(shù)脂。計(jì)算得到平均脫落面積為4. 5%。
[0140] 雖然本發(fā)明已經(jīng)W典型的實(shí)施方式被舉例說(shuō)明和描述，但是并不意味著其被限于 所示出的細(xì)節(jié)中，因?yàn)樵诓槐畴x本發(fā)明精神下可能存在多種修改和替代。由此，當(dāng)本領(lǐng)域技 術(shù)人員僅使用常規(guī)實(shí)驗(yàn)就可獲得與本文中所公開(kāi)之發(fā)明的改進(jìn)和等同，并且相信該些改進(jìn) 和等同都在權(quán)利要求中所定義的本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 改性LDS添加劑，包括100重量份的激光敏感化合物和10-30重量份的含乙烯基改 性化合物，所述含乙烯基改性化合物部分包覆于所述激光敏感化合物表面，所述激光敏感 化合物的化學(xué)通式為XY204，激光敏感化合物為等軸晶系，X與Y均為金屬元素，X與Y來(lái)自 元素周期表中第IIIA族、IB族、IIB族、VIB族、WB族、或VID族； 所述含乙烯基改性化合物的化學(xué)結(jié)構(gòu)式如下：X為具有乙烯基基團(tuán)的一價(jià)基團(tuán)或乙烯基。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的改性LDS添加劑，其特征在于，所述的改性LDS添加劑還包括 含羧基改性化合物，所述含羧基改性化合物的化學(xué)結(jié)構(gòu)式如下：X為具有羧基基團(tuán)的一價(jià)基團(tuán)或羧基。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的改性LDS添加劑，其特征在于，所述含羧基改性化合物與含乙 烯基改性化合物的質(zhì)量比為1 :〇. 5-2。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的改性LDS添加劑，其特征在于，所述的改性LDS添加劑還包括 1-10重量份的金屬氫氧化物，所述金屬氫氧化物部分包覆于激光敏感化合物表面。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的改性LDS添加劑，其特征在于，所述金屬氫氧化物與含乙烯基 改性化合物的質(zhì)量比為1 :3-5。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的改性LDS添加劑，其特征在于，所述的激光敏感化合物的粒徑 為1-50微米。7. 改性LDS添加劑的制備方法，包括以下步驟： S10、將100重量份激光敏感化合物、10-30重量份含乙烯基改性化合物中超聲分散5~ 30min，得到乳濁液； S20、將所得的乳濁液在50~90°C下攪拌5~30min后，溫度保持在70-85°C，繼續(xù)反 應(yīng)2~4h; S30、所得到的溶膠經(jīng)離心分離后分別用去離子水、無(wú)水乙醇各洗滌4次，再在90°C下 烘干獲得前驅(qū)體粉末； S40、將干燥后的前驅(qū)體粉末放置在150~200°C下煅燒2~3h得到改性LDS添加劑。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的改性LDS添加劑的制備方法，其特征在于，所述S10步驟還 包括含乙烯基改性化合物，所述含羧基改性化合物與含乙烯基改性化合物的質(zhì)量比為1: 0. 5_2〇9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的改性LDS添加劑的制備方法，其特征在于，所述的S10步驟還 包括以金屬氫氧化物為質(zhì)量計(jì)算，以金屬氫氧化物計(jì)，1-10重量份的金屬氯化物，在S20步 驟之后還包括S201步驟：緩慢滴加30重量份碳酸按沉淀劑溶液，繼續(xù)反應(yīng)2~4h。 10. TPO組合物，包括100重量份的TPO樹(shù)脂，10-100重量份的填料，1-30重量份的權(quán)利 要求1-6中任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的改性LDS添加劑。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及改性LDS添加劑，該改性LDS添加劑包括100重量份的激光敏感化合物和10-30重量份的含乙烯基改性化合物，所述含乙烯基改性化合物部分包覆于所述激光敏感化合物表面，所述激光敏感化合物的化學(xué)通式為XY2O4，激光敏感化合物為等軸晶系，X與Y均為金屬元素，X與Y來(lái)自元素周期表中第ⅢA族、ⅠB族、ⅡB族、ⅥB族、ⅦB族、或Ⅷ族，由該改性LDS添加劑制備得到的塑料制件上的金屬薄膜具有很好的附著力。
【IPC分類(lèi)】C08K3/22, C08K5/46, C08L23/00, C08K9/10
【公開(kāi)號(hào)】CN104987536
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510412724
【發(fā)明人】劉帥
【申請(qǐng)人】劉帥
【公開(kāi)日】2015年10月21日
【申請(qǐng)日】2015年7月11日