專利名稱：附著于玻璃面的異物的除去方法及除去裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于液晶顯示基板、電致發(fā)光(EL)組件等裝置的除去附著在玻璃基板上的異物的技術(shù)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)在，在制造用于液晶顯示基板等的玻璃基板時，在玻璃的表面處在高溫時，浮游于環(huán)境中的玻璃粒子等的異物(碎玻璃)附著于表面，若如放3、4天的長時間，則會黏著。
而且，在制作液晶顯示基板時，將液晶材料放進兩枚玻璃基板之間進行密封時使用的封閉劑樹脂有附著于玻璃基板的表面的情形。
如果此種碎玻璃或樹脂等異物是會黏著于玻璃面，則很難以流水、刷洗凈或超聲波洗凈等加以除去。
近年來也被要求除去2至2μm的異物，提出用以除去如上述碎玻璃或樹脂等異物的各種方法。
例如有使切削器的刀刃抵接玻璃面的每一面后在玻璃面上移動，由此除去附著的異物的方法。但是，在該方法中，當將切削器的刀刃抵接于玻璃面時，或在玻璃面上移動時，會有傷及玻璃表面而成為不良產(chǎn)品的情形。
而且，在該方法中，每一面地進行異物的除去之故，因而除去其中一方的面的異物之后，在除去相反側(cè)的面的異物時，有異物再附著的問題。
作為其它方法，有使用所謂研磨薄膜來除去玻璃面上的異物的方法。圖8是表示使用研磨薄膜帶的已有裝置的一例。該裝置是在內(nèi)設(shè)研磨薄膜帶23的研磨頭20下面構(gòu)成有玻璃面24，通過推壓部21邊向玻璃面24施加若干壓力，邊抵接于玻璃基板10表面，如圖9所示，在玻璃表面上一面移動研磨頭20一面除去玻璃面的異物。由于使用卷取部22卷取帶23，因而玻璃面24經(jīng)常是全新的面。
然而，在該裝置中，除了研磨帶的更換復雜之外，研磨頭20的重量也大約有40公斤重，因而載重對于玻璃面過大，在厚度為0.7mm以下的玻璃基板或液晶顯示基板上施加高重量的研磨頭的載重時，會有玻璃基板破裂，或液晶顯示基板的液晶排列失去原形而成為不良品的問題。
而且，如此地使用研磨薄膜來除去玻璃面的異物的裝置也是每一面地除去異物者，除了占較多設(shè)備面積的問題之外，由于研磨其中一方的玻璃面，之后反轉(zhuǎn)另一單面進行相同的研磨，因而在被洗凈除去的玻璃面上，會在相反側(cè)的面的洗凈中再附著異物的大問題。
鑒于如上的缺點問題，本發(fā)明的目的是在于提供一種可將附著于玻璃基板的玻璃面的異物，不會傷及玻璃地加以除去，且不會引起異物的再附著，同時也不占場所的除去附著于玻璃面的異物的技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
為了達成上述目的，依照本發(fā)明提供一種附著于玻璃面的異物的除去方法，屬于除去附著于玻璃基板或至少單面由玻璃構(gòu)成的基板的玻璃面的異物的方法，其特征為一面供給洗凈液，一面使研磨機構(gòu)的研磨面邊旋轉(zhuǎn)邊接觸上述基板的兩面，而且使上述基板朝玻璃面方向平行移動而兩面同時地除去上述玻璃面上的異物。
依照此種方法，即使有黏著于玻璃面的異物，通過研磨不會傷及玻璃面也可確實地加以除去，而且可兩面同時地除去異物，因而可確實地防止異物再附著，可作成高品質(zhì)的玻璃基板或液晶顯示基板。而且，由于在平行移動玻璃基板的狀態(tài)下兩面同時進行處理，因而生產(chǎn)性極高，同時也不占場所。
這時候，以40至500rpm(轉(zhuǎn)速/分)旋轉(zhuǎn)研磨機構(gòu)的研磨面較理想，特別是作成100至500rpm更理想。
若以此種轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)研磨面，則不會傷及玻璃面而可更確實地除去兩面的異物。
而且，作為上述洗凈劑，使用水或界面活性劑含有液較理想。
在本發(fā)明中，由于通過研磨機構(gòu)的研磨面進行異物除去，因而并不一定需要研磨劑，使用水或界面活性劑含有液就可以確實地除去異物。
對每一研磨面供給10至300cc上述洗凈液較理想。
作成此種供給量，則不會傷及玻璃地可更確實地除去兩面的異物。
而且，再包括對于上述基板以水洗凈液的工序，將洗凈液加以氣體微粒子化并噴射的工序，照射紫外線的工序，以純水進行超聲波洗凈的工序，噴空氣加以干燥的工序，及以紅外線加以干燥的工序中至少一個工序以上的工序較理想。
在通過研磨同時地除去玻璃兩面的異物的工序，組合如上述的工序，可連續(xù)地又有效率地進行異物的除去、洗凈、沖洗、干燥等。這時候，對于工序順序，依目的可加以適當?shù)刈兏?、省略、或追加?br> 而且，依照本發(fā)明，提供一種附著于玻璃面的異物的除去裝置，屬于除去附著于玻璃基板或至少單面以玻璃所構(gòu)成的基板的玻璃面的異物的裝置，其特征為具備至少平行移動上述基板的基板移動機構(gòu)，及研磨基板的玻璃面的研磨機構(gòu)，及將洗凈液供給基板的洗凈液供給機構(gòu)；上述研磨機構(gòu)的玻璃面對向配置著，從上述洗凈液供給機構(gòu)供給洗凈液狀態(tài)下，一面旋轉(zhuǎn)上述研磨機構(gòu)的研磨面，一面為使得基板的兩面接觸該對向的研磨面，而通過上述基板移動機構(gòu)朝玻璃面方向平行移動基板，而能兩面同時地除去上述玻璃面上的異物。
依照此種裝置，即使有黏著于玻璃面的異物，也可不傷及玻璃面而確實地加以除去，而且兩面同時地可除去異物，因而可確實地防止異物再附著，可作成高品質(zhì)的玻璃基板或液晶顯示基板。而且，不必反轉(zhuǎn)玻璃，可在平行移動的狀態(tài)下兩面同時地除去玻璃面的異物，因而具有生產(chǎn)性較高，且設(shè)置面積較小的優(yōu)點。
作為研磨機構(gòu)，可將摩擦薄膜、砂紙、或研磨薄膜安裝于圓形的圓盤以構(gòu)成研磨面。
如此地將研磨薄膜等安裝在圓盤上，則可簡單地構(gòu)成，或也可將研磨面的表面粗糙度(研磨材的粒度)配合目的而簡單地更換，可確實地除去異物，同時可防止傷及玻璃面。
這時候，上述摩擦薄膜、砂紙、或研磨薄膜，通過面扣具(fastener)安裝于上述圓盤較理想。
研磨薄膜等經(jīng)由面扣具安裝于圓盤，則被賦予彈性，可確實地防止傷及玻璃。而且，具有容易更換的優(yōu)點。
上述圓盤的直徑是30至70mm較理想。
若為此種大小的圓盤，則對應(yīng)于通常被使用的30至1500mm的玻璃基板，不必更換圓盤就可確實地除去玻璃面上的異物。
而且，上述玻璃面的表面粗糙度是0.1至10μm較理想，特別是1至10μm更理想。
將研磨面的表面粗糙度作成上述范圍，則可確實地除去玻璃面上的異物，同時可確實地防止傷及玻璃面。而且，研磨面的表面粗糙度是通過研磨面的研磨材被調(diào)整的，作為研磨材使用上述范圍的粒度的就可以。
上述研磨機構(gòu)是在平行移動上述基板的方向，對于基板兩面交互地對向配置至少各兩列，且在基板的各面?zhèn)扰渲贸慑e開狀較理想。
如此地配置研磨機構(gòu)，則可避免研磨機構(gòu)彼此間的干擾，可將裝置構(gòu)成小型，同時在基板通過所有研磨機構(gòu)時，成為基板兩面沒有遺漏地與研磨機構(gòu)的研磨面接觸，而可均勻地除去基板兩面的異物。
理想的是，上述基板移動機構(gòu)包括對向配置的輥子，通過以輥子夾住上述基板進行旋轉(zhuǎn)而使基板平行移動。
使用如此對向配置的輥子，則在研磨中基板不會朝斜方向偏離，能以預定速度確實地平行移動。
理想的是，上述洗凈液供給機構(gòu)由噴淋式噴嘴或設(shè)在上述研磨機構(gòu)的研磨面的孔供給洗凈液者，而且，每一研磨面供給10至300cc的洗凈液。
如此供給洗凈液，則對于各研磨面可確實地供給預定量的洗凈液，可確實地進行玻璃面的異物除去與防止傷痕。
附著于上述玻璃面的異物的除去裝置，還具備噴水裝置、將洗凈液加以氣體微粒子化并進行噴射的裝置、紫外線照射裝置、超聲波洗凈裝置、氣刀、及紅外線干燥裝置中至少一種以上的裝置。
組裝如上述的各裝置，可連續(xù)地有效率地進行異物的除去、洗凈、沖洗、干燥等。


圖1(A)是概略表示本發(fā)明的附著于玻璃面的異物的除去裝置的一側(cè)的前視圖。
圖1(B)是概略表示本發(fā)明的附著于玻璃面的異物的除去裝置的一側(cè)的俯視圖。
圖2是表示噴淋式噴嘴的位置的局部放大圖。
圖3是表示噴淋式噴嘴的概略圖。
圖4是表示基板移動機構(gòu)的一例(輥子)的概略圖。
圖5是表示研磨機構(gòu)的一例的局部概略圖。
圖6是表示將洗凈液氣體微粒子化并噴射的裝置的洗凈噴嘴的一例的概略圖。
圖7是表示裝置的組合的一例的概略圖。
圖8是表示除去玻璃面上的異物的已有裝置(研磨頭)的概略圖。
圖9是表示研磨頭的移動方向的說明圖。
具體實施例方式
以下具體地說明本發(fā)明的實施形態(tài)，但本發(fā)明并不限于此。
本發(fā)明的發(fā)明人等針對已有洗凈技術(shù)對玻璃基板進行實驗檢證，同時針對防止異物再附著的方法重復很多實驗，其結(jié)果，獲知在如已有地一面一面的除去方法中很難防止異物的再附著。
如此，本案發(fā)明人等，考慮到兩面同時地除去附著于玻璃面的碎玻璃或樹脂異物是有效的，而進行專心檢討之同時也重復實驗之結(jié)果，發(fā)現(xiàn)了供給洗凈液之狀態(tài)下，在基板兩面一面旋轉(zhuǎn)研磨機構(gòu)的研磨面一面加以接觸，同時朝玻璃面方向平行移動基板并兩面同時地除去玻璃面上的異物，就可不會傷及玻璃而確實地除去異物，又可防止再附著異物，而完成本案發(fā)明。
圖1是概略表示本發(fā)明的附著于玻璃面的異物的除去裝置的一例者(A俯視圖，B前視圖)圖2是放大表示該裝置的局部者。
該裝置1具備平行移動玻璃基板的基板移動機構(gòu)3，及研磨基板的玻璃面的研磨機構(gòu)2a、2b，及將洗凈液供給基板的洗凈液供給機構(gòu)4。
基板移動機構(gòu)主要由輥子3構(gòu)成，一部分的輥子經(jīng)由馬達(未圖標)可旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，且可平行移動基板。如圖4所示，包括一部分被對向配置的輥子3a、3a’，通過以該輥子3a、3a’夾住玻璃基板10并進行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，防止基板10在研磨中朝斜方向偏離而可確實地平行移動。如此地構(gòu)成夾持基板，具有可對應(yīng)于處理各種尺寸基板的優(yōu)點。
如圖5所示，作為研磨機構(gòu)，使用在圓形的圓盤6上安裝研磨薄膜7以構(gòu)成研磨面8的。作為研磨薄膜7，可使用如在樹脂及布上填充研磨材(氧化鋁、氧化鈰等)，并涂敷在薄膜上后使之硬化。
研磨薄膜7也可用兩面黏接帶安裝在圓盤6上，但經(jīng)由面扣具安裝在基板上，則可具備若干彈性。而且，該面扣具是公知的一般作為魔術(shù)帶(注冊商標)的。由于如上所述具有彈性，就可不會傷及研磨面而確實地除去異物。而且，若使用面扣具也具有容易更換研磨薄膜的優(yōu)點。
而且，代替研磨薄膜，也可使用如研磨面被加工成具有四角錘狀的微小突起的摩擦薄膜，或極小的細孔眼的砂紙。但是，研磨面的表面粗糙度(研磨材的粒度)變大，則有傷及玻璃之虞，因此必須選擇可進行異物除去，且同時不會造成傷痕而影響玻璃表面的品質(zhì)的。
在圖1的裝置1中，安裝研磨薄膜7的基板6(以下，有時稱為研磨圓盤)，在平行移動玻璃基板的方向?qū)τ诨宓膬擅?，交互地各兩列對向配置有上?cè)研磨圓盤2a與下側(cè)研磨圓盤2b，且基板的各面?zhèn)?側(cè)彼此間，下側(cè)彼此間)的兩列研磨圓盤2a、2b是分別配置成錯開狀。
如此地配置研磨圓盤2a、2b則可防止圓盤2a、2b彼此間的接觸，同時在通過輥子3平行移動的玻璃基板10的兩面，可依次接觸研磨薄膜7(研磨面8)，而在玻璃基板10通過所有4列的研磨圓盤2a、2b時，變成玻璃基板10的所有兩面與研磨薄膜7(研磨面8)接觸的狀態(tài)。
而且，圓盤2a、2b是可分別控制的較理想，例如，各圓盤或各列分別變更圓盤的旋轉(zhuǎn)方向或旋轉(zhuǎn)數(shù)也可以。而且，1列的圓盤數(shù)是任意，或列數(shù)在單面分別為3以上也可以，例如使用表面粗糙度的不同研磨薄膜，經(jīng)粗研磨后進行粗研磨也可以。
而且，在圖1的裝置1中，作為洗凈液供給機構(gòu)，如圖2所示地在各研磨圓盤2a、2b的附近配置有噴淋式噴嘴4。如圖3所示地，該噴淋式噴嘴4是設(shè)有復數(shù)孔5，在噴嘴4內(nèi)部，以泵壓送洗凈液，可將預定量的洗凈液供給各研磨圓盤2a、2b與玻璃基板10之間。而且，作為洗凈液供給手段，在研磨圓盤2a、2b的中央設(shè)置孔，而從該孔可供給洗凈液也可以。這時候，研磨薄膜也成為在中央設(shè)置孔的，而形成此種環(huán)狀形狀，也可得到充分的研磨效果，且可良好地加工玻璃基板的表面。
使用該裝置1來除去附著于玻璃面的異物，從噴淋式噴嘴4供給洗凈液之狀態(tài)下，一面以預定轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)研磨圓盤2a、2b，一面能使玻璃基板10的兩面接觸對向的研磨面8地通過輥子3朝玻璃面方向平行移動玻璃基板10。就這樣，玻璃基板10通過輥子3的旋轉(zhuǎn)朝玻璃面方向以預定速度平行移動，且以玻璃基板10的上面的一部分、下表面的一部分、上表面剩余部分、下表面的剩余部分的順序，所有兩面與研磨面8接觸，且兩面同時地可確實地除去玻璃面上的異物。如此地兩面同時地處理，則可防止異物的再附著，提高生產(chǎn)性，也可減小處理空間。
而且，如上所述，使用研磨薄膜來進行除去玻璃面上的異物時，會在玻璃面上產(chǎn)生極細傷痕，但此種傷痕并不會影響品質(zhì)。而且，也不會有強大載重施加在玻璃基板上，因而幾乎不會有玻璃基板破裂之虞。因此，兩面都不會附著異物，可加工成極高品質(zhì)的玻璃基板。
本發(fā)明的研磨機構(gòu)的研磨面的表面粗糙度、洗凈液的供給量等是適當設(shè)定就可以，但本案發(fā)明人等為了求得最佳研磨條件，對于研磨薄膜的表面粗糙度、圓盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)、洗凈液的供給量及圓盤的大小等進行如下的實驗，發(fā)現(xiàn)了最佳條件。(1)有關(guān)于表面粗糙度的實驗使用利用面扣具將表面粗糙度0.5至20μm的研磨薄膜(研磨材氧化鋁)安裝在直徑60mm的圓盤上的，調(diào)查以旋轉(zhuǎn)數(shù)300rpm的研磨后的異物的除去效果及玻璃表面的傷痕的發(fā)生狀況。將其結(jié)果表示在表1中。而且，評價如下進行。異物除去效果○達成初期的目的，良好。
△雖未達成初期的目的，但是可看出效果。
×除去效果不充分。玻璃表面的傷痕的發(fā)生○未發(fā)生傷痕，良好。
△雖未看到發(fā)生傷痕，但是量、大小均小。
×看到發(fā)生傷痕，對品質(zhì)有影響之虞。[表1]

由表1所示的實驗結(jié)果，可知研磨面的表面粗糙度如果為1至10μm，則可充分發(fā)揮異物的除去效果，同時可確實地防止發(fā)生玻璃表面的傷痕。
另一方面，可知研磨面的表面粗糙度小于1μm時，則有無法充分除去附著于玻璃面的碎玻璃或樹脂異物之虞，而且，當大于10μm時，則有影響到玻璃面的品質(zhì)的傷痕之虞。
而且，使用氧化鈰作為研磨材的不同研磨薄膜進行同樣的調(diào)查，則在表面粗糙度0.1至10μm時得到充分的異物除去效果，且沒有發(fā)生玻璃面的傷痕。(2)有關(guān)于圓盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)的試驗將安裝表面粗糙度為5μm的研磨薄膜(研磨材氧化鋁)的直徑為60mm的圓盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)設(shè)定在30至900rpm，對有關(guān)異物除去效果與發(fā)生玻璃表面的傷痕進行與上述同樣的評價。將結(jié)果表示在表2中。[表2]

由表2所示的實驗結(jié)果，綜合地評價異物的除去效果與有無傷痕的發(fā)生狀況，可知若為100至500rpm，就可確實地除去異物，同時不會發(fā)生傷痕，較為理想。
而且，使用另一研磨薄膜(研磨材氧化鈰)進行同樣的實驗，在40至500rpm的情況下，有關(guān)于異物除去與防止傷痕發(fā)生這兩方面，都能得到較高效果。(3)有關(guān)于洗凈液的供給量的試驗使用安裝了表面粗糙度為5μm的研磨薄膜的直徑為60mm的圓盤，將以旋轉(zhuǎn)數(shù)300rpm進行研磨時的每一研磨面的洗凈液(水)的供給量設(shè)定為2至500cc，進行同樣的評價。將其結(jié)果表示在表3中。[表3]

由表3所示的實驗結(jié)果，綜合地評價異物的除去效果與有無傷痕的發(fā)生狀況，可知洗凈液是每一研磨面供給10至300cc較理想。
而且，流量為每一圓盤(研磨面)不足10cc時，有在玻璃面發(fā)生傷痕或無法充分地除去異物之虞。 一方面，流量大于300cc時，除了有研磨效果變少、玻璃面上的異物除去不充分之虞之外，還有因洗凈液的費用上升而影響到經(jīng)濟效果，因而不適用。(4)有關(guān)于研磨圓盤的大小的試驗準備直徑為10至200mm的圓盤，在各圓盤上安裝表面粗糙度為5μm的研磨薄膜，并將旋轉(zhuǎn)數(shù)設(shè)為300rpm，將洗凈液的供給量設(shè)為100cc進行同樣的評價。將其結(jié)果表示在表4中。[表4]

由表4所示的實驗結(jié)果，綜合地評價異物的除去效果與有無傷痕的發(fā)生狀況，可知圓盤直徑是30至70mm較理想。這可能因為旋轉(zhuǎn)的圓盤的中心部與外周部的周速的差，對于玻璃的損傷(傷痕的發(fā)生程)有很大影響。
而且，通常用于液晶屏的玻璃基板是一邊長度30至1500mm的四角形狀，對每一處理基板的大小變更圓盤尺寸，會導致成本上升，但如圖1的裝置那樣配置直徑為30至70mm的圓盤，也可以不傷及玻璃面而兩面同時地確實地除去處理附著于30至1500mm四角的任何大小的玻璃面的異物。
作為本發(fā)明的除去附著于玻璃面的異物的裝置，也可以以表示于圖1的裝置作為中心，再具備噴水裝置、將洗凈液氣體微粒子化并加以噴射的裝置、紫外線照射裝置、超聲波洗凈裝置、氣刀、及紅外線干燥裝置中至少一種以上的裝置而構(gòu)成。
圖7是表示依次組合LD(裝載機)41、純水噴淋裝置(噴水裝置)42、圖1所示的異物除去裝置43、將純水氣體微粒子化并加以噴射的裝置、純水超聲波洗凈裝置45、純水噴淋裝置46、噴出干燥空氣并進行干燥的氣刀47、ULD(卸載機)48的裝置50。作成如此構(gòu)成的除去玻璃面的異物的裝置，則可連續(xù)地進行通過輥子依次平行移動玻璃基板，除去玻璃基板兩面的異物之后，到洗凈、干燥加工為止的作業(yè)。
而且，作為將洗凈液作成氣體微粒子化并加以噴射的裝置44，可使用具備如表示圖6的洗凈噴射的裝置。
在該洗凈噴嘴30上，設(shè)有攪拌洗凈液以氣體微?；臄嚢枋?1，從洗凈液供給口33例如以200L/min的流量所供給的洗凈液，是在攪拌室31內(nèi)被攪拌，相撞于其內(nèi)壁并散亂。經(jīng)散亂的洗凈液是與溶于洗凈液中的氣體及起初就存在于攪拌室31中的空氣等在攪拌室31內(nèi)一起攪拌，被混合而產(chǎn)生氣體微粒子。包含該氣體微粒子的液體，從狹縫形狀的液體放出口34被送至連通的混合室32。
在混合室32中，將包含該氣體微粒子的液體，與從氣體供給口35所供給的氣體混合，并從狹縫形狀的洗凈液噴射口36噴射與氣體混合后洗凈液。由于如此將已包含氣體微粒子的洗凈液與氣體混合之后噴射至玻璃基板，因而洗凈液均勻地成為氣體混合液體，而該微粒子的尺寸也是極微細的。所以，能以高洗凈效率進行洗凈，并可防止損傷玻璃基板的情形。而且，由于可減小所供給的氣體壓力，因而也可減小所使用的洗凈液的流量，而可減低洗凈成本。
組裝于本發(fā)明的裝置的裝置的組合并不限于圖7，也可作成如下的1)至4)的組合。
1)噴水(普通水)裝置+圖1所示的裝置+噴水(純水)裝置+氣刀2)噴水(普通水)裝置+將洗凈液氣體微粒子化并噴射的裝置+圖1所示的裝置+純水超聲波洗凈裝置+氣刀3)圖1所示的裝置+噴水(純水)裝置+紫外線照射裝置+純水超聲波洗凈裝置+氣刀4)噴水(普通水)裝置+將洗凈液作成氣體微粒子化并噴射的裝置+圖1所示的裝置+噴水(純水)裝置+紫外線照射裝置+純水超聲波洗凈裝置+紅外線干燥裝置如此組合圖1所示的裝置及如上所述的裝置，則可連續(xù)地進行依圖1的裝置的異物的除去工序，及對于基板進行的以水洗凈的工序、將洗凈液氣體微粒子化并噴射的工序、照射紫外線的工序、以純水進行超聲波洗凈的工序、噴上空氣進行干燥的工序、及以紅外線進行干燥的工序中至少一種以上的工序，可作成可連續(xù)地進行玻璃面上的異物除去、洗凈、沖洗、干燥等的裝置。當然，也可以僅具備此些以外的裝置者，或任意地省略一部分、或置換等。
而且，本發(fā)明并不限于上述實施形態(tài)。上述實施形態(tài)僅為例示，具有與記載于本發(fā)明的權(quán)利要求范圍的技術(shù)性思想實質(zhì)上相同構(gòu)成，且具備同樣的作用效果者，均包含在本發(fā)明的技術(shù)性范圍。
在上述實施形態(tài)中，說明了處理一枚玻璃基板的情形，但本發(fā)明可適用的玻璃基板并不限于此，特別是，最適用于液晶面板或EL組件、以及成膜前的原玻璃或成膜后的玻璃基板等，至少單面由玻璃構(gòu)成的基板(組件)的異物除去。
而且，在上述實施形態(tài)所說明的裝置，是將基板水平加以移動的，但也可以將基板垂直移動，而研磨機構(gòu)的數(shù)量或配置，若可沒有遺漏地研磨玻璃基板的兩面，則并未特別加以限定。
發(fā)明的效果依照本發(fā)明，由于將研磨機構(gòu)的研磨面接觸玻璃基板的兩面，就可兩面同時地除去附著于玻璃面上的碎玻璃、樹脂異物，因而可有效率地不傷及玻璃面而可除去異物，也可防止異物的再附著。特別是可進行以平坦屏顯示業(yè)為主的電子產(chǎn)業(yè)的洗凈作為課題的亞微細粒洗凈。
圖號說明1、50附著于玻璃面的異物的除去裝置，2a、2b研磨機構(gòu)(研磨圓盤)，3基板移動機構(gòu)(輥子)，4洗凈液供給機構(gòu)(噴淋式噴嘴)，6圓形圓盤，7研磨薄膜，8、24研磨面，10玻璃基板，20研磨頭，21推壓部，22卷取部，23研磨薄膜帶，30洗凈噴嘴，31攪拌室，32混合室，33洗凈液供給口，34液體放出口，35氣體供給口，36洗凈液噴射口，41裝載機，42、46純水噴淋裝置，43異物除去裝置，44將純水作成氣體微粒子化并噴射的裝置，45純水超聲波洗凈裝置，47氣刀，48卸載機。
權(quán)利要求
1.一種附著于玻璃面的異物的除去方法，除去附著于玻璃基板或至少單面由玻璃構(gòu)成的基板的玻璃面的異物，其特征為在供給洗凈液的狀態(tài)下，一面旋轉(zhuǎn)研磨機構(gòu)的研磨面，一面使其接觸上述基板的兩面，而且將上述基板朝玻璃面方向平行移動，從而兩面同時地除去上述玻璃面上的異物。
2.如權(quán)利要求1所述的附著于玻璃面的異物的除去方法，其特征為以40至500rpm旋轉(zhuǎn)上述研磨機構(gòu)的研磨面。
3.如權(quán)利要求1所述的附著于玻璃面的異物的除去方法，其特征為作為上述洗凈劑，使用水或界面活性劑含有液。
4.如權(quán)利要求2所述的附著于玻璃面的異物的除去方法，其特征為作為上述洗凈劑，使用水或界面活性劑含有液。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的附著于玻璃面的異物的除去方法，其特征為供給每一研磨面10至300cc的上述洗凈液。
6.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的附著于玻璃面的異物的除去方法，其特征為，又包括對于上述基板以水洗凈的工序、將洗凈液加以氣體微粒子化并噴射的工序、照射紫外線的工序、以純水進行超聲波洗凈的工序、噴空氣加以干燥的工序、及以紅外線加以干燥的工序中至少一個工序以上的工序。
7.如權(quán)利要求5所述的附著于玻璃面的異物的除去方法，其特征為還包括對于上述基板以水洗凈的工序、將洗凈液加以氣體微粒子化并噴射的工序、照射紫外線的工序、以純水進行超聲波洗凈的工序、噴空氣加以干燥的工序、及以紅外線加以干燥的工序中至少一個工序以上的工序。
8.一種附著于玻璃面的異物的除去裝置，除去附著于玻璃基板或至少單面由玻璃構(gòu)成的基板的玻璃面的異物，其特征為具備至少平行移動上述基板的基板移動機構(gòu)、研磨基板的玻璃面的研磨機構(gòu)、及將洗凈液供給基板的洗凈液供給機構(gòu)，上述研磨機構(gòu)的玻璃面對向配置著，從上述洗凈液供給機構(gòu)供給洗凈液的狀態(tài)下，一面旋轉(zhuǎn)上述研磨機構(gòu)的研磨面，一面為使基板的兩面接觸該對置的研磨面而通過上述基板移動機構(gòu)朝玻璃面方向平行移動基板，而能兩面同時地除去上述玻璃面上的異物。
9.如權(quán)利要求8所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述研磨機構(gòu)是將摩擦薄膜、砂紙、或研磨薄膜安裝于圓形圓盤以構(gòu)成研磨面。
10.如權(quán)利要求9所述的旋轉(zhuǎn)，其特征為上述摩擦薄膜、砂紙、或研磨薄膜，經(jīng)由面扣具安裝于上述圓盤。
11.如權(quán)利要求9所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述圓盤的直徑是30至70mm。
12.如權(quán)利要求10所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述圓盤的直徑是30至70mm。
13.如權(quán)利要求8至12中任一項所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述研磨面的表面粗糙度是0.1至10μm。
14.如權(quán)利要求8至12中任一項所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述研磨機構(gòu)是在平行移動上述基板的方向，相對于基板兩面交互地對向配置至少各兩列，且在基板的各面?zhèn)扰渲贸慑e開狀。
15.如權(quán)利要求13所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述研磨機構(gòu)是在平行移動上述基板的方向，相對于基板兩面交互地對向配置至少各兩列，且在基板的各面?zhèn)扰渲贸慑e開狀。
16.如權(quán)利要求8至12中任一項所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述基板移動機構(gòu)包括對向配置的輥子，通過以輥子夾住上述基板進行旋轉(zhuǎn)而平行移動基板。
17.如權(quán)利要求15所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述基板移動機構(gòu)包括對向配置的輥子，通過以輥子夾住上述基板進行旋轉(zhuǎn)而平行移動基板。
18.如權(quán)利要求8至12中任一項所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述洗凈液供給機構(gòu)由噴淋式噴嘴或設(shè)在上述研磨機構(gòu)的研磨面的孔供給洗凈液。
19.如權(quán)利要求17所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述洗凈液供給機構(gòu)由噴淋式噴嘴或設(shè)在上述研磨機構(gòu)的研磨面的孔供給洗凈液。
20.如權(quán)利要求8至12中任一項所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述洗凈液供給機構(gòu)供給每一研磨面10至300cc的洗凈液。
21.如權(quán)利要求19所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為上述洗凈液供給機構(gòu)供給每一研磨面10至300cc的洗凈液。
22.如權(quán)利要求8至12中任一項所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為附著于上述玻璃面的異物的除去裝置，還具備噴水裝置、將洗凈液加以氣體微粒子化并進行噴射的裝置、紫外線照射裝置、超聲波洗凈裝置、氣刀、及紅外線干燥裝置中至少一種以上的裝置。
23.如權(quán)利要求21所述的附著于玻璃面的異物的除去裝置，其特征為附著于上述玻璃面的異物的除去裝置，還具備噴水裝置、將洗凈液加以氣體微粒子化并進行噴射的裝置、紫外線照射裝置、超聲波洗凈裝置、氣刀、及紅外線干燥裝置中至少一種以上的裝置。
全文摘要
一種可將附著于玻璃基板的玻璃面的異物，不會傷及玻璃地加以除去，且不會引起異物的再附著，同時也不占場所的除去附著于玻璃面的異物的技術(shù)。一種附著于玻璃面的異物的除去裝置，是除去附著于玻璃基板或至少單面由玻璃構(gòu)成的基板的玻璃面的異物的裝置，特征為具備至少平行移動上述基板的基板移動機構(gòu)、研磨基板的玻璃面的研磨機構(gòu)及將洗凈液供給基板的洗凈液供給機構(gòu)；上述研磨機構(gòu)(2a、2b)的研磨面對向配置著，從上述洗凈液供給機構(gòu)(4)供給洗凈液的狀態(tài)下，一面旋轉(zhuǎn)上述研磨機構(gòu)的研磨面，一面為使基板的兩面接觸該對向的研磨面，而通過上述基板移動機構(gòu)(3)朝玻璃面方向平行移動基板(10)，而能兩面同時地除去上述玻璃面上的異物。
文檔編號B05C1/00GK1472017SQ03102279
公開日2004年2月4日 申請日期2003年1月27日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月29日
發(fā)明者川原俊弘, 末廣修一, 小田部晃雄, 一, 晃雄 申請人:穌喜歐株式會社