專利名稱：電子照相光電導(dǎo)體及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于采用電子照相體系的打印機、復(fù)印機或傳真機的電子照相光電導(dǎo)體(以下稱為光電導(dǎo)體)及其制造方法。具體地說，本發(fā)明涉及一種這樣的電子照相光電導(dǎo)體，它通過改進光敏層內(nèi)的光電物質(zhì)從而獲得良好的敏感性，本發(fā)明還涉及這種光電導(dǎo)體的制造方法。
背景技術(shù)：
電子照相光電導(dǎo)體一般需要具有在黑暗中保持表面電位、受光產(chǎn)生電荷并且受光后轉(zhuǎn)移電荷的功能。已知的兩種類型的光電導(dǎo)體包括所有功能集中在單一層中的所謂單層型光電導(dǎo)體以及由功能獨立的兩層制成的所謂疊層型光電導(dǎo)體，其疊層中一層主要用于產(chǎn)生電荷，另一層主要用于在黑暗中保持表面電荷并受光轉(zhuǎn)移電荷。
采用這些電子照相光電導(dǎo)體的電子照相體系形成圖像適用例如Carlson方法。此法包括光電導(dǎo)體在黑暗中電暈充電，在光電導(dǎo)體帶電的表面上形成靜電潛影(如原始的字符或圖像的潛影)，用色料粉顯影如此形成的靜電圖像，將顯示的色料圖像轉(zhuǎn)移并固定在載體(如紙)上來用這種方法形成圖像。色料圖像轉(zhuǎn)移后，光電導(dǎo)體除去電荷和殘留的色料，通過光照放電，然后循環(huán)使用。
作為電子照相光電導(dǎo)體的光敏材料，使用的是分散在樹脂粘合劑中的無機光電導(dǎo)物質(zhì)，如硒、硒合金、氧化鋅和硫化鎘，和分散在樹脂粘合劑中或者真空沉積的有機光導(dǎo)電物質(zhì)，如聚N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、酞菁化合物或雙偶氮化合物等。
在這些有機光電物質(zhì)中，特別深入研究了酞菁化合物的應(yīng)用。僅用一種和兩種的混合物的情形已經(jīng)有報道。
使用有意混合的兩種或多種酞菁化合物在例如日本未審查的專利申請NoH2-170166，H2-84661和H6-145550中有描述。但是多數(shù)這些報道的混合使用的例子都涉及混合晶體，即報道形成新晶體形式。已知混合晶體的形成能夠改變晶體的穩(wěn)定性、敏感性和壽命，混晶形式內(nèi)的酞菁的敏感性也會變化。但是，每種報道中都存在這樣的問題，即當(dāng)不同酞菁化合物的混合比在一個小區(qū)間內(nèi)變化時，電性能并沒有詳細(xì)研究。
使用有意混合的兩種或多種酞菁化合物的另一個例子在美國專利№5773181中有描述。該文獻描述了一種方法，該方法通過控制兩種或多種苯環(huán)上有氟的酞菁化合物的混合物內(nèi)的晶體形式來控制敏感性?；旌媳缺辉敿?xì)進行了研究。但是，該專利中的實施例僅顯示了中心原子固定的研究結(jié)果，具有不同中心原子的酞菁化合物的混合物沒有進行任何研究。
美國專利№5418107和5153313也揭示了晶體穩(wěn)定性、敏感性和壽命能夠通過混合兩種或多種酞菁而改變，通過混合鎵酞菁、銦酞菁或鈦氧基氧代酞菁次要組分，尤其可提高無金屬酞菁主要組分的敏感性。但是，在混合作為次要組分的無金屬酞菁與作為主要組分的鎵酞菁、銦酞菁或鈦氧基氧代酞菁的情形下，沒有揭示任何性能提高的例子。僅有一個通過混合次要組分與鈦氧基氧代酞菁主要組分來提高性能的例子是這樣的情形，次要組分釩氧基氧代酞菁的分子結(jié)構(gòu)與主要組分鈦氧基氧代酞菁相同。因為金屬酞菁表現(xiàn)出比無金屬酞菁高的性能，所以通過向無金屬酞菁加入一種金屬酞菁就會很容易提高性能。相反，包括無金屬酞菁并表現(xiàn)出較低的性能的具有中心元素氫的酞菁，加入到表現(xiàn)出較高性能的金屬酞菁中，預(yù)計很難提高性能，原因在于兩類酞菁的性能不同。因此，在性能提高方面，僅有很少的研究。
日本未審查的專利申請№H3-35245和2001-115054揭示了可以使用兩種或多種酞菁化合物，它們是合成酞菁過程中生成不同類型酞菁的副反應(yīng)的產(chǎn)物。但是，這些文獻僅涉及鈦氧基氧代酞菁內(nèi)氯化鈦氧基氧代酞菁的副產(chǎn)物。關(guān)于氯化鈦氧基氧代酞菁，已知存在兩氯取代的化合物的副產(chǎn)物和一氯取代的化合物的副產(chǎn)物。但是，這些文獻僅研究了單氯取代化合物的含量與副產(chǎn)物之間的關(guān)系。因為金屬酞菁的合成方法僅產(chǎn)生痕量的具有中心元素氫的酞菁，很難用常規(guī)方法檢測和定量分析。
雖然酞菁化合物用于電子照相光電導(dǎo)體的光敏材料是已知的，但是在使用兩種或多種酞菁化合物的情形下，混合比與電性能尤其敏感性之間的關(guān)系尚未揭示。
發(fā)明的內(nèi)容鑒于上述問題，本發(fā)明的一個目的是通過闡明上述關(guān)系，來提供一種電子照相光電導(dǎo)體，它表現(xiàn)出良好的電子照相性能，尤其是敏感性。本發(fā)明的另一個目的是提供一種制造電子照相光電導(dǎo)體的方法，它包括這樣的步驟，使用可形成具有高敏感性的光敏層的液態(tài)涂料形成光敏層。
本發(fā)明的發(fā)明人進行了深入研究解決了這個問題，發(fā)現(xiàn)當(dāng)具有中心元素氫的酞菁化合物作為次要組分與作為產(chǎn)生電荷的物質(zhì)存在于光電導(dǎo)體的光敏層內(nèi)的金屬酞菁化合物呈特定比例時，可以明顯提高光電導(dǎo)體的敏感性。本發(fā)明的電子照相光電導(dǎo)體是基于這樣的發(fā)現(xiàn)完成的。
本發(fā)明的電子照相光電導(dǎo)體包含導(dǎo)電基板，和含有光電物質(zhì)的光敏層，所述光電物質(zhì)含有金屬酞菁化合物主要組分和具有中心元素氫的酞菁化合物次要組分，所述次要組分的含量為1μmol-200mmol，以1mol主要組分為基準(zhǔn)。
本文所述的金屬酞菁是在酞菁環(huán)中心含有金屬元素原子的化合物，所述具有中心元素氫的酞菁化合物是在酞菁環(huán)中心含有兩個氫原子的化合物。
本發(fā)明的發(fā)明人還發(fā)現(xiàn)，當(dāng)液態(tài)涂料含有光敏物質(zhì)時，用制造電子照相光電導(dǎo)體的方法就可以明顯提高光電導(dǎo)體的敏感性，所述方法包括用液態(tài)涂料形成光敏層覆蓋導(dǎo)電基板的步驟，所述光敏物質(zhì)包含金屬酞菁主要組分和特定比例的具有具有中心元素氫的酞菁化合物次要組分。本發(fā)明的制造電子照相光電導(dǎo)體的方法是基于該發(fā)現(xiàn)完成的。
本發(fā)明的制造電子照相光電導(dǎo)體的方法包括如下步驟，用液態(tài)涂料涂布導(dǎo)電基板，所述液態(tài)涂料含有傳導(dǎo)光電的物質(zhì)，該物質(zhì)包括金屬酞菁化合物主要組分和具有中心元素氫的酞菁化合物次要組分，所述次要組分的含量為1μmol-200mmol，以1mol主要組分為基準(zhǔn)。
在本發(fā)明的制造方法中，金屬酞菁指在酞菁環(huán)中心具有一個金屬原子的化合物，具有中心元素氫的酞菁化合物指在酞菁環(huán)中心含有兩個氫原子的化合物。
本發(fā)明電子照相光電導(dǎo)體的光敏層可以是單層類型或疊層類型，負(fù)電類型或正電類型，不局限于這些類型的任一種的組合。本發(fā)明制造方法中的涂布方法可以是浸涂方法、噴涂方法和任何其他可能的方法，不局限于任一種特定方法。
發(fā)明的
具體實施例方式
下面詳細(xì)說明本發(fā)明的具體實施方式
。
電子照相光電導(dǎo)體分為負(fù)電疊層類型光電導(dǎo)體、正電疊層類型光電導(dǎo)體和正電單層類型光電導(dǎo)體。本發(fā)明具體描述負(fù)電疊層類型光電導(dǎo)體和正電單層類型光電導(dǎo)體。除了本發(fā)明所涉及的酞菁化合物，制造光電導(dǎo)體的組合物和方法可以合適地選自己知的物質(zhì)和方法。
充負(fù)電荷的疊層類型光電導(dǎo)體這樣形成，將光敏層疊加在底涂層上或中間層上，再依次疊加到導(dǎo)電基板上。該光電導(dǎo)體是功能獨立的光電導(dǎo)體，由電荷產(chǎn)生層和電荷轉(zhuǎn)移層組成。充正電荷的單層類型光電導(dǎo)體也可這樣形成，將光敏層疊加到底涂層或中間層上，而該光電導(dǎo)體是這樣的單層類型光電導(dǎo)體，其中單層光敏層起產(chǎn)生電荷和轉(zhuǎn)移電荷兩種作用。這兩種類型的光電導(dǎo)體不必帶有底涂層，可以帶有保護層。
導(dǎo)電基板用作光電導(dǎo)體的電極，同時用作其他層的載體?；牡男问揭部梢允寝D(zhuǎn)筒、平板或膜?；牡牟牧峡梢允墙饘黉X、不銹鋼或鎳，或具有傳導(dǎo)處理表面的玻璃或樹脂。
底涂層主要含有樹脂或氧化物膜例如氧化鋁膜。底涂層是為了防止過量電荷從導(dǎo)電基板射到光敏層，覆蓋基材表面的缺陷，并提高基材與光敏層之間的粘合質(zhì)量而提供的。底涂層的粘合劑樹脂可以選自氯乙烯、乙酸乙烯酯和其他樹脂組分的共聚物、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚(乙烯醇縮乙醛)樹脂、聚(乙烯醇縮丁醛)樹脂、聚(乙烯醇)樹脂、聚(氯乙烯)樹脂、聚(乙酸乙烯酯)樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、丙烯酸類樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、蜜胺樹脂、聚硅氧烷樹脂、聚酰胺樹脂、聚醇縮醛樹脂、聚烯丙基化物樹脂、聚砜樹脂、聚甲基丙烯酸酯和這些化合物的共聚物。這些化合物可以單獨使用或以合適的組合來使用。用于疊層類型光電導(dǎo)體的優(yōu)選樹脂尤其包括可溶于醇的聚酰胺、可溶于溶劑的芳族聚酰胺和熱固性聚氨酯樹脂?？扇苡诖嫉木埘０房梢詢?yōu)選選自以下共聚物例如尼龍6、尼龍8、尼龍12、尼龍66、尼龍610或尼龍612，或者N-烷基改性的或N-烷氧基烷基改性的尼龍。這些聚酰胺的可買到的化合物包括AMILAN CM8000(一種6/66/610/12共聚尼龍，購自Toray Industries，Inc.)、ELBAMIDE9061(一種6/66/612共聚尼龍，購自日本杜邦有限公司)和DAIAMIDE T-170(一種主要含尼龍12的共聚尼龍，購自Daicel-Huels Co.，Ltd.)。
底涂層可以含有金屬氧化物的微粒，例如氧化鈦(TiO2)、氧化錫(SnO2)、氧化硅(二氧化硅)、氧化鋅、氧化鈣、氧化鋁或氧化鋯，金屬的硫酸鹽例如硫酸鋇或硫酸鈣，金屬的氮化物例如氮化硅或氮化鋁，無機物質(zhì)的細(xì)粉例如碳酸鈣，或其他提供導(dǎo)電性的添加劑。所述添加劑的含量可以確定為任何值，只要允許形成穩(wěn)定層。
充正電荷類型的光電導(dǎo)體的底涂層的粘合劑樹脂可以含有提供轉(zhuǎn)移空穴物質(zhì)，來提供空穴轉(zhuǎn)移能力并減少捕獲的電荷。空穴轉(zhuǎn)移物質(zhì)的含量有利地處于0.1-60重量％范圍內(nèi)，更優(yōu)選5-40重量％，以底涂層的固態(tài)組分為基準(zhǔn)。其他已知的添加劑也可以包含于底涂層內(nèi)，只要它們不會損害電子照相的性能。
底涂層可以是單層或兩層或多層不同層的疊層。底涂層的厚度可以是任何值，只要不會產(chǎn)生不好的作用例如增大重復(fù)操作中的殘留電勢，同時，底涂層的組分必須要考慮。
產(chǎn)生電荷的層通過有機光電物質(zhì)的產(chǎn)生電荷物質(zhì)的真空沉積來形成，或應(yīng)用產(chǎn)生電荷的物質(zhì)粒子分散于樹脂粘合劑內(nèi)的材料來形成。產(chǎn)生電荷的層在接收光時產(chǎn)生電荷。產(chǎn)生電荷的層需要高的電荷產(chǎn)生率。同時，產(chǎn)生的電荷射入電荷轉(zhuǎn)移層的性能也很重要，適宜的是具有很小的電場依賴性和即使在低電場也有足夠的射入。
在本發(fā)明中，必需的是，產(chǎn)生電荷的層除了含有金屬酞菁主要組分，還含有特定比例的具有中心元素氫的酞菁化合物次要組分。這樣的組合物可明顯提高敏感性。雖然提高的機理尚不十分清楚，但是有人提出了以下理由。敏感性的提高可以通過加入次要組分來實現(xiàn)，所述次要組分能夠改善X射線衍射分析或類似裝置測不出的微晶格缺陷，而且能夠改善微觀區(qū)域內(nèi)的疊層特性。也有人提出所述提高是次要組分化合物自身的內(nèi)在功能所決定。
在本發(fā)明中，金屬酞菁指在酞菁環(huán)中心含有一個金屬元素原子的化合物，具有中心元素氫的酞菁化合物指在酞菁環(huán)的中心含有兩個氫原子的化合物。
能夠用于本發(fā)明的酞菁化合物可以用以下文獻所述的方法分析，例如C.C.Lezonff等人的“酞菁”，1989，VCM出版公司，和F.H.Moser等人的“酞菁”，1983，CRC出版社。
金屬酞菁主要組分優(yōu)選在酞菁環(huán)中心含有金屬鈦元素，鈦氧基酞菁尤其是有利的。有利的鈦氧基酞菁包括α類型鈦氧基酞菁、β類型鈦氧基酞菁、Y類型鈦氧基酞菁、無定形態(tài)的鈦氧基酞菁和在CuKαX射線衍射譜圖中Bragg角2θ＝9.6°時具有最大峰的鈦氧基酞菁，如日本未審查的專利申請NoH8-209023所述。另外，具有中心金屬元素鎵、銦、鈀或氧化值為3或更高的中心金屬元素的金屬酞菁化合物也可以有利地使用。還可以使用其他的金屬酞菁、銅酞菁例如ε-類型銅酞菁。
具有中心元素氫的酞菁化合物次要組分優(yōu)選是無金屬的酞菁。無金屬的酞菁的例子包括X類型無金屬酞菁和τ類型無金屬酞菁。酞菁化合物次要組分的含量需要是1μmol-200mmol，優(yōu)選1μmol-100mmol，以1mol金屬酞菁化合物主要組分為基準(zhǔn)。如果該次要組分的含量低于1μmol，那么就不能獲得提高敏感性的效果，如果該含量高于200mmol，那么該效果就達飽和，而且該次要組分的存在會抑制光敏性的提高。
根據(jù)需要，在合成過程中產(chǎn)生的額外酞菁化合物可以通過升華脫除。作為合成的副產(chǎn)物而產(chǎn)生的具有中心元素氫的酞菁化合物也可以用于本發(fā)明中。
本發(fā)明的電荷產(chǎn)生層基本含有金屬酞菁主要組分和具有中心元素氫的酞菁化合物次要組分。其他產(chǎn)生電荷的物質(zhì)可以同時包含于產(chǎn)生電荷層內(nèi)，例如顏料或染料例如偶氮、花蒽酮、二萘嵌苯、perynone、多環(huán)醌、squalirium、噻喃、喹吖酮、靛藍、花青、azulenium化合物。偶氮顏料包括雙偶氮顏料和三偶氮顏料、二萘嵌苯顏料包括N，N′-二(3，5-二甲基苯基)-3，49，10-二萘嵌苯二(羧基酰亞胺)。
產(chǎn)生電荷層的樹脂粘合劑可以選自以下聚合物和共聚物聚碳酸酯、聚酯、聚酰胺、聚氨酯、環(huán)氧、聚(乙烯醇縮丁醛)、苯氧基聚合物、聚硅氧烷、甲基丙烯酸酯、這些化合物的鹵化物和氰基乙醇鹽，和這些物質(zhì)的合適組合。產(chǎn)生電荷層內(nèi)產(chǎn)生電荷的物質(zhì)的含量是10-5000重量份，優(yōu)選50-1000重量份，以100重量份樹脂粘合劑為基準(zhǔn)。
產(chǎn)生電荷層的膜厚度由產(chǎn)生電荷物質(zhì)的吸光率決定，通常至多為5微米，優(yōu)選不超過1微米。產(chǎn)生電荷層主要含有產(chǎn)生電荷的物質(zhì)，并任選含有轉(zhuǎn)移電荷物質(zhì)添加劑或其他材料。
轉(zhuǎn)移電荷層是含有一種或合適地組合的多種的具有轉(zhuǎn)移空穴性能的轉(zhuǎn)移電荷物質(zhì)，分散于樹脂粘合劑內(nèi)。轉(zhuǎn)移電荷的物質(zhì)包括腙化合物、苯乙烯基化合物、胺化合物和這些化合物的衍生物。轉(zhuǎn)移電荷的層用作絕緣物，在黑暗中用于保持電荷，在受光后起轉(zhuǎn)移從電荷產(chǎn)生層注入的電荷的作用。電荷轉(zhuǎn)移層中使用的粘合劑樹脂包括以下聚合物、混合的聚合物和共聚物聚碳酸酯、聚酯、聚苯乙烯和甲基丙烯酸酯。粘合劑樹脂與電荷轉(zhuǎn)移物質(zhì)的相容性以及機械、化學(xué)和電學(xué)穩(wěn)定性和粘合性很重要。按100重量份樹脂粘合劑計，電荷轉(zhuǎn)移物質(zhì)在轉(zhuǎn)移電荷層內(nèi)的含量為20-500重量份，優(yōu)選為30-300重量份。電荷轉(zhuǎn)移層的厚度優(yōu)選3-50微米，更好為15-40微米以保持實際有效的表面電位。
單層類型的光敏層主要含有產(chǎn)生電荷物質(zhì)、轉(zhuǎn)移空穴物質(zhì)和作為轉(zhuǎn)移電荷物質(zhì)的轉(zhuǎn)移電子物質(zhì)(具有受體性質(zhì)的化合物)和粘合劑樹脂。該單層類型的光敏層，如在疊層類型中一樣，必需含有金屬酞菁化合物主要組分作為產(chǎn)生電荷物質(zhì)和含量為1μmol-200mmol的具有中心元素氫的酞菁次要組分，以本發(fā)明中的1mol主要組分為基準(zhǔn)。也可以包含疊層類型中所描述的其他的產(chǎn)生電荷物質(zhì)。單層類型光敏層內(nèi)產(chǎn)生電荷物質(zhì)的含量占光敏層的固態(tài)組分的0.1-20重量％，優(yōu)選0.5-10重量％。
充負(fù)電荷疊層類型的轉(zhuǎn)移空穴物質(zhì)也可以用于單層類型的光敏層內(nèi)，例如腙化合物、吡唑啉化合物、吡唑啉酮化合物、噁二唑化合物、噁唑化合物、芳胺化合物、聯(lián)苯胺化合物、stylbene化合物、苯乙烯基化合物、聚-N-乙烯基咔唑和聚硅烷。這些轉(zhuǎn)移空穴物質(zhì)可以單獨使用或以兩種或多種物質(zhì)的組合形式使用。轉(zhuǎn)移空穴物質(zhì)需要在受光時表現(xiàn)出高轉(zhuǎn)移空穴的能力，也需要表現(xiàn)出與產(chǎn)生電荷物質(zhì)的合適的組合能力。轉(zhuǎn)移空穴物質(zhì)的含量占光敏層的固態(tài)組分的5-80重量％，優(yōu)選10-60重量％。
轉(zhuǎn)移電子物質(zhì)(具有受體性質(zhì)的化合物)可以選自丁二酸酐、馬來酸酐、二溴丁二酸酐、鄰苯二甲酸酐、3-硝基鄰苯二甲酸酐、4-硝基鄰苯二甲酸酐、苯均四酸酐、苯均四酸、偏苯三酸、偏苯三酸酐、鄰苯二甲酰亞胺、4-硝基鄰苯二甲酰亞胺、四氰基乙烯、四氰基喹啉并二甲烷、氯醛縮三氯叔丁醇(chloranyl)、四溴代苯醌(bromanyl)、鄰硝基苯甲酸、丙二腈、三硝基芴酮、三硝基噻噸酮、二硝基苯、二硝基蒽、二硝基吖啶、硝基蒽醌、二硝基蒽醌、噻喃化合物、醌化合物、苯醌(benzoquinone)化合物、二苯酚合苯醌化合物、萘醌化合物、蒽醌化合物、1，2-二苯乙烯醌化合物和偶氮醌化合物。這些轉(zhuǎn)移電子物質(zhì)可以單獨使用或兩種或多種組合使用。轉(zhuǎn)移電子物質(zhì)的含量占光敏層的固態(tài)組分的1-50重量％，優(yōu)選5-40重量％。
單層類型光敏層的粘合劑樹脂可以選自與上述產(chǎn)生電荷層或轉(zhuǎn)移電荷層內(nèi)的粘合劑樹脂相同的樹脂。它們的例子是以下聚合物和共聚物聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚(乙烯醇縮乙醛)樹脂、聚(乙烯醇縮丁醛)樹脂、聚(乙烯醇)樹脂、聚(氯乙烯)樹脂、聚(乙酸乙烯酯)樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、丙烯酸類樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、蜜胺樹脂、聚硅氧烷樹脂、聚酰胺樹脂、聚醇縮醛樹脂、聚烯丙基化物樹脂、聚砜樹脂、聚甲基丙烯酸酯。這些化合物可以單獨使用或以合適的組合來使用。不同分子量的同樣類型的樹脂可以以混合物的形式使用。出售的樹脂的含量為光敏層固態(tài)組分的10-90重量％，優(yōu)選20-80重量％。
為了提高耐苛刻環(huán)境條件和有害光的性能，光敏層可以含有抗氧劑和抑制光降解的抑制劑。用于該目的的化合物包括酯化的化合物和色原烷醇的衍生物，例如生育酚、聚(芳基鏈烷)化合物、氫醌衍生物、酯化化合物和二醚化化合物、二苯甲酮衍生物、苯并三唑衍生物、硫醚化合物、苯二胺衍生物、膦酸酯、磷酸酯、苯酚化合物、受阻酚化合物、直鏈胺化合物、環(huán)胺化合物和受阻胺化合物。
為了提高形成的膜的勻涂質(zhì)量，并提供潤滑能力，光敏層可以含有勻涂劑例如硅油或氟油。為了降低摩擦系數(shù)和提供潤滑能力，光敏層也可以含有上述金屬氧化物的微粒、含氟樹脂的粒子例如聚四氟乙烯樹脂、或含氟的梳子類型的支化共聚物。根據(jù)需要，其他已知的添加劑也可以包含于光敏層內(nèi)，只要不明顯損害電子照相的性能。為了保持實際有效的表面電位，單層類型光敏層的有利的厚度是3-100微米，更優(yōu)選10-50微米。
為了提高重復(fù)印刷中的耐久性，根據(jù)需要，可以提供保護層。該保護層可以含有主粘合劑樹脂或例如無定形碳的無機膜。為了提高導(dǎo)電性、降低摩擦系數(shù)或給出潤滑性，粘合劑樹脂可以含有上述金屬氧化物、金屬硫酸鹽或金屬氮化物的微粒。為了賦予轉(zhuǎn)移電荷能力，所述粘合劑樹脂也可以含有上述轉(zhuǎn)移空穴物質(zhì)或轉(zhuǎn)移電子物質(zhì)，或為了提高形成的膜的勻涂性能或給出潤滑性，含有勻涂劑硅油或含氟油。其他已知的添加劑也可以根據(jù)需要包含于保護層內(nèi)，只要它們不妨害光電性能。
光電導(dǎo)體層可以這樣施加和形成，用已知的油漆攪拌器、球磨機、超聲分散儀的方法，用合適溶劑將上述構(gòu)成材料溶解并分散，制成涂敷液，然后用選自浸涂、噴涂刮板涂布、輥涂、螺旋涂布和滑動跳涂的已知涂布方法施加該涂敷液，形成層，最后干燥。
制備涂敷液的溶劑可以選自多種有機溶劑。底涂層的涂敷液的有機溶劑可以選自醚溶劑例如二甲醚、二乙醚、1，4-二噁烷、四氫呋喃、四氫吡喃、乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚，和酮溶劑例如丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、甲基異丁基酮、甲基異丙基酮。這些溶劑可以有效地單獨使用或以兩種或多種的混合物的形式使用，或以與其他溶劑的混合物的形式使用。
當(dāng)光敏層形成于底涂層上時，用于形成疊層類型或單層類型的光敏層的涂敷液的有機溶劑優(yōu)選表現(xiàn)出對底涂層材料具有低溶解性，并優(yōu)選溶解用于光敏層的材料。有用的溶劑包括鹵化烴，例如二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烷、氯仿和氯苯。這些溶劑可以有效地單獨使用或合適地組合使用。也可以使用與其他有機溶劑的混合物。用于形成保護層的涂敷液的有機溶劑可以選自任何不溶解保護層下面的層，而溶解保護層材料的溶劑。
本發(fā)明的制備光電導(dǎo)體的方法包括如下步驟使用含有金屬酞菁化合物主要組分和含量為1μmol-200mmol(以1mol主要組分為基準(zhǔn))的具有中心元素氫的酞菁化合物次要組分的涂敷液，在導(dǎo)電基板上涂敷并形成光敏層。對于該制備方法，沒有提出其他特定的條件。也就是說，本發(fā)明的方法包括使用上述涂敷液，在疊層類型光電導(dǎo)體情形下形成產(chǎn)生電荷層，或在單層類型光電導(dǎo)體的情形下，形成單層光敏層的步驟。
實施例下面參照實施例來說明本發(fā)明。但是，本發(fā)明的范圍不局限于這些實施例。
實施例1-6和對比例1-2實施例1形成底涂層混合70重量份聚酰胺樹脂(AMILAN CM8000，Toray Industries Inc.生產(chǎn))和930重量份甲醇，制備底涂層的涂敷液。由浸涂方法將該涂敷液施加到鋁基板上，形成底涂層，干厚0.5微米。
鈦氧基氧代酞菁的合成將800g鄰-酞二腈(phthalodinitrile)(Tokyo Kasei Kogyo Co.Ltd生產(chǎn))和1.8L喹啉(Wako Pure Chemical Ltd生產(chǎn))放入反應(yīng)容器內(nèi)并攪拌。將297g四氯化鈦(Kishida Chemical Co.Ltd生產(chǎn))在干氮氣氣氛下滴加入容器內(nèi)并攪拌。然后，將混合物在2小時內(nèi)加熱至180C，在該溫度下保持并攪拌15小時。
使反應(yīng)液冷卻至130℃并過濾，然后用3L N-甲基-2-吡咯烷酮洗滌。在氮氣氣氛下，將濕餅在1.8L N-甲基-2-吡咯烷酮內(nèi)于160℃加熱，并攪拌1小時。將該液體冷卻并過濾，然后依次用3L N-甲基-2-吡咯烷酮、2L丙酮、2L甲醇和4L溫水洗滌。
將這樣獲得的鈦氧基氧代酞菁的濕餅在含有360ml36％鹽酸和4L水的稀鹽酸中于80℃加熱并攪拌1小時。將該液體冷卻，過濾，并用4L溫水洗滌，然后干燥。用真空升華的方法將該物質(zhì)純化三次，然后干燥。將200g這樣得到的干物質(zhì)放入-5℃的4kg96％硫酸中，攪拌并冷卻，保持在-5℃溫度或更低溫度1小時。將硫酸溶液加入到35L水和5kg冰中，同時冷卻并攪拌，使溫度保持在10℃以內(nèi)，冷卻并攪拌1小時。將該液體過濾，然后用10L溫水洗滌。
然后，將該物質(zhì)在含有770ml36％鹽酸和10L水的稀鹽酸中，于80℃加熱并攪拌1小時。將該液體冷卻并過濾，用10L溫水洗滌，并干燥。用升華的方法將該物質(zhì)純化，得到純鈦氧基氧代酞菁。
無金屬酞菁的合成用日本未審查的專利申請№H7-207183中實施例2所述的方法合成無金屬酞菁。用升華的方法將形成的物質(zhì)純化，得到純的無金屬酞菁。
形成產(chǎn)生電荷的層將1μmol(＝0.51455mg)得到的無金屬酞菁加入到1mol(＝576.44g)鈦氧基氧代酞菁。該將混合的物料，0.5L水和1.5L鄰-二氯苯放入包含6.6kg8mm直徑的氧化鋯球的球磨機內(nèi)，研磨24小時。然后，用1.5L丙酮和1.5L甲醇萃取形成的物料，然后過濾，用1.5L水洗滌，并干燥。
將10重量份得到的含無金屬酞菁的鈦氧基氧代酞菁與10重量份氯乙烯樹脂(MR-110，由ZEON公司生產(chǎn))、686重量份二氯甲烷和294重量份1，2-二氯乙烷混合，并超聲波分散，得到產(chǎn)生電荷層的涂敷液。用浸涂方法，將該涂敷液施加到上述底涂層上。由此就形成了干厚為0.2微米的產(chǎn)生電荷的層。
形成轉(zhuǎn)移電荷的層轉(zhuǎn)移電荷的層的涂敷液由以下方式形成混合100重量份4-(二苯基氨基)苯甲醛苯基(2-噻吩基甲基)腙(Fuji Electric有限公司生產(chǎn))、100重量份聚碳酸酯樹脂(PANLITE K-1300，Teijin Chemicals有限公司生產(chǎn))、800重量份二氯甲烷、1重量份硅烷偶聯(lián)劑和4重量份二(2，4-二-叔丁基苯基)苯基亞膦酸鹽(Fuji Electric有限公司生產(chǎn))。如上所述，由浸涂方式，將該涂敷液施加到產(chǎn)生電荷層上，形成干厚為20微米的轉(zhuǎn)移電荷的層。這樣，就制成了電子照相光電導(dǎo)體。
實施例2用與實施例1相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成50μmol，以1mol鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例3用與實施例1相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成1mmol，以1mol鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例4用與實施例1相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成10mmol，以1mol鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例5用與實施例1相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成100mmol，以1mol鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例6用與實施例1相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成200mmol，以1mol鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
對比例1用與實施例1相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成100nmol，以1mol鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
對比例2用與實施例1相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成300mmol，以1mol鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
這樣得到的光電導(dǎo)體的電性能采用靜電記錄紙測試儀(EPA-8200，由Kawaguchi Electric Works有限公司生產(chǎn))測試。表1示出了在衰減期-600V--300V期間的敏感性E1/2(μJ/cm2)，和在衰減期-600V--100V期間的敏感性E100(μJ/cm2)的測試結(jié)果。
表1


從表1中可以看出，每個實施例都表現(xiàn)出令人滿意的高敏感性，而每個對比例都表現(xiàn)出比實施例低的敏感性。
實施例7-12和對比例3-4實施例7用與實施例1所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了用根據(jù)日本未審查的專利申請№H1-123868中的實施例1所述的方法合成的準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁代替實施例1中的鈦氧基氧代酞菁。
實施例8用與實施例7所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成50μmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例9用與實施例7所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成1mmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例10用與實施例7所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成10mmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例11用與實施例7所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成100mmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例12
用與實施例7所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成200mmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
對比例3用與實施例7相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成100nmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
對比例4用與實施例7相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成300mmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
這樣得到的光電導(dǎo)體的電性能采用靜電記錄紙測試儀(EPA-8200，由Kawaguchi Electric Works有限公司生產(chǎn))測試，如實施例1所述。表2示出了敏感性E1/2(μJ/cm2)和E100(μJ/cm2)的測試結(jié)果。
表2

從表2中可以看出，每個實施例都表現(xiàn)出令人滿意的高敏感性，而每個對比例都表現(xiàn)出比實施例低的敏感性。
實施例13-18和對比例5-6實施例13用與實施例1所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了用普通方法合成的α類型鈦氧基氧代酞菁代替實施例1中的鈦氧基氧代酞菁。
實施例14用與實施例13所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成50μmol，以1molα類型鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例15用與實施例13所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成1mmol，以1molα類型鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例16用與實施例13所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成10mmol，以1molα類型鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例17用與實施例13所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成100mmol，以1molα類型鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例18用與實施例13所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成200mmol，以1molα類型鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
對比例5用與實施例13相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成100nmol，以1molα類型鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
對比例6用與實施例13相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成300mmol，以1molα類型鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
這樣得到的光電導(dǎo)體的電性能采用靜電記錄紙測試儀(EPA-8200，由Kawaguchi Electric Works有限公司生產(chǎn))測試，如實施例1所述。表3示出了敏感性E1/2(μJ/cm2)和E100(μJ/cm2)的測試結(jié)果。
表3

從表3中可以看出，每個實施例都表現(xiàn)出令人滿意的高敏感性，而每個對比例都表現(xiàn)出比實施例低的敏感性。
實施例19-24和對比例7-8實施例19形成底涂層由浸涂方法向鋁基板施加涂敷液，形成厚0.2微米的底涂層，并在100℃干燥30分鐘。底涂層的涂敷液通過如下所述的攪拌和溶解來制成。
下述的“份”指“重量份”。
氯乙烯-乙酸乙烯酯-乙烯醇共聚物50份(SOLBIN A，Nissin Chemical Industry有限公司生產(chǎn))(氯乙烯92％，乙酸乙烯酯3％，乙烯醇5％)
甲基乙基酮950份形成單層類型的光敏層無金屬酞菁采用日本未審查的專利申請NoH7-207183中實施例2所述的方法合成。所形成的物質(zhì)采用升華的方法進行純化，得到純無金屬酞菁。將該無金屬酞菁以1μmol的比例，加入到根據(jù)日本未審查的專利申請№H1-123868的實施例1所述方法合成的準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
為了制備單層類型光敏層的涂敷液，將以下物質(zhì)的混合物由油漆攪拌器分散1小時2重量份含無金屬酞菁的準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁、65重量份由下式HTM-1表示的轉(zhuǎn)移空穴物質(zhì)、28重量份由下式ETM-1表示的轉(zhuǎn)移電子物質(zhì)、0.1重量份硅油(KF-40，由Shin-Etsu Chemical有限公司生產(chǎn))和1000重量份二氯甲烷。 向該混合物中加入105重量份具有下式BD-1重復(fù)單元的聚碳酸酯樹脂 將該混合物攪拌并溶解，由油漆攪拌器分散1小時，得到單層類型光敏層的涂敷液。將該涂敷液由浸涂方法施加到上述底涂層上，形成單層類型的光敏層，干厚為25微米。這樣，就制成了實施例19的電子照相光電導(dǎo)體。
實施例20以與實施例19相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成50μmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例21以與實施例19相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成1mmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例22以與實施例19相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成10mmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例23以與實施例19相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成100mmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例24以與實施例19相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成200mmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
對比例7用與實施例19相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成100nmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
對比例8用與實施例19相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成300mmol，以1mol準(zhǔn)無定形態(tài)鈦氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
這樣得到的光電導(dǎo)體的電性能采用靜電記錄紙測試儀(EPA-8200，由Kawaguchi Electric Works有限公司生產(chǎn))測試。表4示出了在衰減期+600V-+300V期間的敏感性E1/2(μJ/cm2)，和在衰減期+600V-+100V期間的敏感性E100(μJ/cm2)的測試結(jié)果。
表4

從表4中可以看出，每個實施例都表現(xiàn)出令人滿意的高敏感性，而每個對比例都表現(xiàn)出比實施例低的敏感性。
實施例25-30和對比例9-10實施例25用與實施例1相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了用根據(jù)普通方法合成的氯化鎵酞菁代替實施例1中的鈦氧基氧代酞菁。
實施例26用與實施例25相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成50μmol，以1mol氯化鎵酞菁為基準(zhǔn)。
實施例27用與實施例25相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成1mmol，以1mol氯化鎵酞菁為基準(zhǔn)。
實施例28用與實施例25相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成10mmol，以1mol氯化鎵酞菁為基準(zhǔn)。
實施例29用與實施例25相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成100mmol，以1mol氯化鎵酞菁為基準(zhǔn)。
實施例30用與實施例25相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量改變成200mmol，以1mol氯化鎵酞菁為基準(zhǔn)。
對比例9用與實施例25相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成100nmol，以1mol氯化鎵酞菁為基準(zhǔn)。
對比例10用與實施例25相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成300mmol，以1mol氯化鎵酞菁為基準(zhǔn)。
這樣得到的光電導(dǎo)體的電性能采用靜電記錄紙測試儀(EPA-8200，由Kawaguchi Electric Works有限公司生產(chǎn))測試。表5示出了敏感性E1/2(μJ/cm2)和敏感性E100(μJ/cm2)的測試結(jié)果。
表5

從表5中可以看出，每個實施例都表現(xiàn)出令人滿意的高敏感性，而每個對比例都表現(xiàn)出比實施例低的敏感性。
實施例31-36和對比例11-12實施例31用與實施例1所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了用根據(jù)普通方法合成的氯化銦酞菁代替實施例1中的鈦氧基氧代酞菁。
實施例32
用與實施例31所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成50μmol，以1mol氯化銦酞菁為基準(zhǔn)。
實施例33用與實施例31所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成1mmol，以1mol氯化銦酞菁為基準(zhǔn)。
實施例34用與實施例31所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成10mmol，以1mol氯化銦酞菁為基準(zhǔn)。
實施例35用與實施例31所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成100mmol，以1mol氯化銦酞菁為基準(zhǔn)。
實施例36用與實施例31所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成200mmol，以1mol氯化銦酞菁為基準(zhǔn)。
對比例11用與實施例31相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成100nmol，以1mol氯化銦酞菁為基準(zhǔn)。
對比例12用與實施例31相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成300mmol，以1mol氯化銦酞菁為基準(zhǔn)。
這樣得到的光電導(dǎo)體的電性能采用靜電記錄紙測試儀(EPA-8200，由Kawaguchi Electric Works有限公司生產(chǎn))測試。表6示出了敏感性E1/2(μJ/cm2)和敏感性E100(μJ/cm2)的測試結(jié)果。
表6

從表6中可以看出，每個實施例都表現(xiàn)出令人滿意的高敏感性，而每個對比例都表現(xiàn)出比實施例低的敏感性。
實施例37-42和對比例13-14實施例37用與實施例1所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了用根據(jù)普通方法合成的釩氧基氧代酞菁代替實施例1中的鈦氧基氧代酞菁。
實施例38用與實施例37所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成50μmol，以1mol釩氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例39用與實施例37所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成1mmol，以1mol釩氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例40用與實施例37所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成10mmol，以1mol釩氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例41用與實施例37所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成100mmol，以1mol釩氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
實施例42用與實施例37所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成200mmol，以1mol釩氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
對比例13用與實施例37相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成100nmol，以lmol釩氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
對比例14用與實施例37相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成300mmol，以1mol釩氧基氧代酞菁為基準(zhǔn)。
這樣得到的光電導(dǎo)體的電性能采用靜電記錄紙測試儀(EPA-8200，由Kawaguchi Electric Works有限公司生產(chǎn))測試。表7示出了敏感性E1/2(μJ/cm2)和敏感性E100(μJ/cm2)的測試結(jié)果。
表7

從表7中可以看出，每個實施例都表現(xiàn)出令人滿意的高敏感性，而每個對比例都表現(xiàn)出比實施例低的敏感性。
實施例43-48和對比例15-16實施例43用與實施例1所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了用根據(jù)普通方法合成的鈀酞菁代替實施例1中的鈦氧基氧代酞菁。
實施例44用與實施例43所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成50μmol，以1mol鈀酞菁為基準(zhǔn)。
實施例45用與實施例43所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成1mmol，以1mol鈀酞菁為基準(zhǔn)。
實施例46用與實施例43所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成10mmol，以1mol鈀酞菁為基準(zhǔn)。
實施例47用與實施例43所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成100mmol，以1mol鈀酞菁為基準(zhǔn)。
實施例48用與實施例43所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成200mmol，以1mol鈀酞菁為基準(zhǔn)。
對比例15用與實施例43相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成100nmol，以1mol鈀酞菁為基準(zhǔn)。
對比例16用與實施例43相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成300mmol，以1mol鈀酞菁為基準(zhǔn)。
這樣得到的光電導(dǎo)體的電性能采用靜電記錄紙測試儀(EPA-8200，由Kawaguchi Electric Works有限公司生產(chǎn))測試。表8示出了敏感性E1/2(μJ/cm2)和敏感性E100(μJ/cm2)的測試結(jié)果。
表8

從表8中可以看出，每個實施例都表現(xiàn)出令人滿意的高敏感性，而每個對比例都表現(xiàn)出比實施例低的敏感性。
實施例49-54和對比例17-18實施例49用與實施例1所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了用根據(jù)日本未審查專利申請№H5-273775中合成實施例1所述方法合成的鈦氧基酞菁2，3-丁二醇配合物代替實施例1中的鈦氧基氧代酞菁。
實施例50用與實施例49所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成50μmol，以1mol鈦氧基酞菁配合物為基準(zhǔn)。
實施例51用與實施例49所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成1mmol，以1mol鈦氧基酞菁配合物為基準(zhǔn)。
實施例52用與實施例49所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成10mmol，以1mol鈦氧基酞菁配合物為基準(zhǔn)。
實施例53用與實施例49所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成100mmol，以1mol鈦氧基酞菁配合物為基準(zhǔn)。
實施例54用與實施例49所述相同的方式制備電子照相光電導(dǎo)體，除了將無金屬酞菁的含量改變成200mmol，以1mol鈦氧基酞菁配合物為基準(zhǔn)。
對比例17用與實施例49相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成100nmol，以1mol鈦氧基酞菁配合物為基準(zhǔn)。
對比例18用與實施例49相同的方式制成電子照相光電導(dǎo)體，除了無金屬酞菁的含量變化成300mmol，以1mol鈦氧基酞菁配合物為基準(zhǔn)。
這樣得到的光電導(dǎo)體的電性能采用靜電記錄紙測試儀(EPA-8200，由Kawaguchi Electric Works有限公司生產(chǎn))測試。表9示出了敏感性E1/2(μJ/cm2)和敏感性E100(μJ/cm2)的測試結(jié)果。
表9

從表9中可以看出，每個實施例都表現(xiàn)出令人滿意的高敏感性，而每個對比例都表現(xiàn)出比實施例低的敏感性。
本發(fā)明的效果如上所述，本發(fā)明提供一種電子照相光電導(dǎo)體，根據(jù)本發(fā)明，它表現(xiàn)出良好的電子照相性能，尤其是良好的敏感性，其中光敏層含有兩種呈特定混合比例的特定類型的酞菁化合物。本發(fā)明也提供一種制備這種電子照相光電導(dǎo)體的方法。
權(quán)利要求
1.一種電子照相光電導(dǎo)體，它包括導(dǎo)電基板；和形成在導(dǎo)電基板上的光敏層，該光敏層含有光電物質(zhì)，所述光電物質(zhì)包含金屬酞菁化合物主要組分和具有中心元素氫的酞菁化合物次要組分，以1mol主要組分為基準(zhǔn)，所述次要組分的含量是1μmol-200mmol。
2.如權(quán)利要求1所述的電子照相光電導(dǎo)體，其特征在于所述金屬酞菁化合物在酞菁環(huán)的中心有一個金屬元素的原子，所述具有中心元素氫的酞菁化合物在酞菁環(huán)的中心有兩個氫原子。
3.如權(quán)利要求2所述的電子照相光電導(dǎo)體，其特征在于所述金屬元素是鈦。
4.如權(quán)利要求1或2所述的電子照相光電導(dǎo)體，其特征在于所述金屬酞菁化合物是鈦氧基氧代酞菁。
5.如權(quán)利要求2所述的電子照相光電導(dǎo)體，其特征在于所述金屬元素是鎵。
6.如權(quán)利要求2所述的電子照相光電導(dǎo)體，其特征在于所述金屬元素是銦。
7.如權(quán)利要求2所述的電子照相光電導(dǎo)體，其特征在于所述金屬元素是鈀。
8.如權(quán)利要求2所述的電子照相光電導(dǎo)體，其特征在于所述金屬元素是能夠具有氧化值3或更高的元素。
9.如權(quán)利要求1或2所述的電子照相光電導(dǎo)體，其特征在于所述酞菁化合物是不含金屬的酞菁。
10.如權(quán)利要求1或2所述的電子照相光電導(dǎo)體，其特征在于以1mol主要組分為基準(zhǔn)，所述次要組分的含量是1μmol-100mmol。
11.一種制造電子照相光電導(dǎo)體的方法，它包括以下步驟用含有光電物質(zhì)的涂敷液涂布導(dǎo)電基板，所述光電物質(zhì)包含金屬酞菁化合物主要組分和具有中心元素氫的酞菁化合物次要組分，以1mol主要組分為基準(zhǔn)，所述次要組分的含量是1μmol-200mmol。
12.如權(quán)利要求11所述的制造電子照相光電導(dǎo)體的方法，其特征在于所述金屬酞菁化合物在酞菁環(huán)的中心有一個金屬元素的原子，所述具有中心元素氫的酞菁化合物在酞菁環(huán)的中心有兩個氫原子。
全文摘要
本發(fā)明的目的是提供一種電子照相光電導(dǎo)體，它表現(xiàn)出良好的電子照相性能，尤其是高敏感性。本發(fā)明的另一個目的是提供一種制備該電子照相光電導(dǎo)體的方法，它包括用涂敷液形成表現(xiàn)出高敏感性的光敏層的步驟。本發(fā)明的電子照相光電導(dǎo)體包含含有光電物質(zhì)的光敏層，其主要組分是金屬酞菁化合物，其次要組分是具有中心元素氫的酞菁化合物。次要組分的含量為1μmol－200mmol，以1mol主要組分為基準(zhǔn)。本發(fā)明的制造方法采用含有光電物質(zhì)的涂敷液，所述光電物質(zhì)包含金屬酞菁化合物主要組分和含量為1μmol－200mmol的具有中心元素氫的酞菁化合物次要組分，以1mol主要組分為基準(zhǔn)。
文檔編號C09B67/22GK1450414SQ0311040
公開日2003年10月22日 申請日期2003年4月11日 優(yōu)先權(quán)日2002年4月11日
發(fā)明者佐佐木輝夫, 鈴木信二郎, 中村洋一 申請人:富士電機影像器材有限公司