專利名稱：流體噴射裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)一種流體噴射裝置及其制造方法，特別有關(guān)一種可提高使用效率及延長壽命的流體噴射裝置及其制造方法。
背景技術(shù)：
目前流體噴射裝置大多運用于噴墨頭、燃料噴射器等元件上，其中噴墨頭更是大量的使用熱趨氣泡式設(shè)計。
圖1顯示一種現(xiàn)有的美國專利號6,102,530的單石化的流體噴射裝置1，其以一硅基底10作為本體，且在硅基底10上形成一結(jié)構(gòu)層12，而在硅基底10和結(jié)構(gòu)層12之間形成一流體腔14，用以容納流體26；而在結(jié)構(gòu)層12上設(shè)有一第一加熱器20、以及一第二加熱器22，第一加熱器20用以在流體腔14內(nèi)產(chǎn)生一第一氣泡30，第二加熱器22用以在流體腔14內(nèi)產(chǎn)生一第二氣泡32，以將流體腔14內(nèi)的流體26射出。
由于單石化的流體噴射裝置1具有虛擬氣閥(virtual valve)的設(shè)計，并擁有高排列密度、低交互干擾、低熱量損失的特性，且無須另外利用組裝方式接合噴孔片，因此可以降低生產(chǎn)成本。
然而，在現(xiàn)有的單石化的流體噴射裝置1中，結(jié)構(gòu)層12主要由低應(yīng)力的氧化硅所組成，在工藝上，其厚度有所限制，因此對于整體結(jié)構(gòu)的壽命有其影響，且由于受氣泡擠壓而飛離裝置的液滴因為結(jié)構(gòu)層12厚度不足，而會有方向無法導(dǎo)正的缺點；其次，當微液滴噴射離開噴孔之后，流體經(jīng)由歧管回填至流體腔，流體經(jīng)由噴孔擴散至噴射裝置表面，造成溢墨現(xiàn)象，間接影響后續(xù)噴墨液滴的尺寸。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種流體噴射裝置及其制造方法，可提高使用效率，且可延長壽命。
為達成上述目的，本發(fā)明提供一種流體噴射裝置，其包括一基材、一第一通孔、一流體致動裝置、一保護層、以及一具疏水性的厚膜層；基材具有一流體腔以及一表面，第一通孔設(shè)置于表面且與流體腔相連通；流體致動裝置于表面上并鄰近第一通孔，且位于基材的流體腔外；保護層設(shè)置于表面上，具疏水性的厚膜層以位于流體腔外的方式設(shè)置于保護層上，且具有一第二通孔，其中第二通孔與第一通孔連通。
在本發(fā)明的一優(yōu)選實施例中，第二通孔與第一通孔連通的一端的直徑比未與第一通孔連通的另一端的直徑大。
流體致動裝置可為電熱式氣泡產(chǎn)生器，亦可為壓電式薄膜致動器。優(yōu)選者為由一電阻層所構(gòu)成的電熱式氣泡產(chǎn)生器。
應(yīng)了解的是具疏水性的圖案化厚膜層與純水的接觸角大于90度。具疏水性的厚膜層的材質(zhì)可為優(yōu)選者為感光性高分子材質(zhì)，例如聚酰亞胺(polyimide)、環(huán)氧樹脂(epoxy resin)、甲基丙烯酸縮水甘油酯(glycidylmethacrylate)、丙烯酸樹脂(acrylic resin)、丙烯酸或丙烯酸甲酯清漆型環(huán)氧樹脂(an acrylate or a methacrylate of a novolak epoxy resin)、聚砜(polysulfones)、聚苯撐(polyphenylenes)、聚醚砜(polyether sulfones)、聚酰胺-酰亞胺(polyamide-imides，PAI)、聚亞芳基醚(polyarylene ethers，PAE)、聚亞苯基硫化物(polyphenylene sulfides)、聚亞芳基醚酮(polyarylene etherketones)、苯氧樹脂(phenoxy resins)、聚碳酸樹脂(polycarbonates)、聚醚-酰亞胺(polyether imides)、聚喹喔啉(polyquinoxalines)、聚喹啉(polyquinolines)、聚苯并咪唑(polybenzimidazoles)、聚苯惡唑(polybenzoxazoles)、聚苯并噻唑(polybenzothiazoles)、聚惡二唑(polyoxadiazoles)等材質(zhì)，而結(jié)構(gòu)層的材質(zhì)為低應(yīng)力的氮氧化硅(SiON)或氮化硅(SiN)。
又在本發(fā)明中，提供一種流體噴射裝置的制造方法，包括下列步驟提供一基底；形成一圖案化犧牲層于基底的一第一面上；形成一圖案化結(jié)構(gòu)層于基底上，且覆蓋圖案化犧牲層；設(shè)置一流體致動裝置于結(jié)構(gòu)層上，其中流體致動裝置位于流體腔外；形成一圖案化導(dǎo)電層于結(jié)構(gòu)層上，以形成一訊號傳送線路；在結(jié)構(gòu)層上形成一保護層并覆蓋流體致動裝置；在保護層上形成一具疏水性的厚膜層；形成一流體通道于基板的一第二面，且第二面相對于第一面，以露出犧牲層；移除犧牲層以形成一流體腔；以及形成一噴孔于厚膜層、保護層與結(jié)構(gòu)層中，噴孔與流體腔連通且鄰近流體致動裝置。
應(yīng)了解的是具疏水性的厚膜層覆蓋氣泡產(chǎn)生裝置，且具疏水性的厚膜層藉由旋轉(zhuǎn)涂布的方式或滾壓貼合的方式而披覆于保護層上，而結(jié)構(gòu)層的材質(zhì)為低應(yīng)力的氮氧化硅(SiON)或氮化硅(SiN)。
形成噴孔的步驟，包括利用一灰階光掩模及光刻工藝，形成一上窄下寬的第二通孔。以及依序蝕刻保護層及結(jié)構(gòu)層，以形成連通流體腔與第二通孔的第一通孔。
本發(fā)明主要在單石化的流體噴射裝置外層覆蓋一具有疏水性質(zhì)結(jié)構(gòu)加強層，使其具有增加結(jié)構(gòu)強度并改善表面性質(zhì)的功能。
以下配合附圖以及優(yōu)選實施例，以更詳細地說明本發(fā)明。


圖1顯示一種現(xiàn)有的單石化的流體噴射裝置；圖2顯示本發(fā)明的流體噴射裝置的第一實施例；圖3a～3e說明本發(fā)明的第一實施例的流體噴射裝置的制造方法，其中僅顯示圖2中的P1部分；圖4為本發(fā)明的流體噴射裝置的第二實施例的示意圖；以及圖5a～5c為利用灰階光刻工藝形成疏水性厚膜噴孔的步驟。
附圖標記說明現(xiàn)有部分(圖1)1～單石化的流體噴射裝置；10～硅基底；12～結(jié)構(gòu)層；14～流體腔；20～第一加熱器；22～第二加熱器；26～流體；30～第一氣泡；32～第二氣泡。
本發(fā)明部分(圖2～5)100、100a、100b～流體噴射裝置；110～基材；111～硅基底；112～結(jié)構(gòu)層；1122～表面；113～流體腔；114～第一通孔；120、120a～氣泡產(chǎn)生裝置；121～第一加熱器；122～第二加熱器；130～保護層；131～第三通孔；140～具疏水性的厚膜層；141、141b～第二通孔；500～灰階光掩模；520～不透光區(qū)域；540～部分透光區(qū)域；560～透光區(qū)域；600～入射光源；660～穿透光源；640～部分穿透光源。
具體實施例方式
第一實施例參考圖2，其顯示本發(fā)明的流體噴射裝置的第一實施例，本實施例的流體噴射裝置100包括一基材110、一第一通孔114、一流體致動裝置120、一保護層130、以及一具疏水性的厚膜層140。
基材110包括一硅基底111、以及一結(jié)構(gòu)層112，結(jié)構(gòu)層112設(shè)置在硅基底111上，且在硅基底111與結(jié)構(gòu)層112之間形成一流體腔113，第一通孔114則形成在結(jié)構(gòu)層112中并與流體腔113相連通。
流體致動裝置120設(shè)置于結(jié)構(gòu)層112的一表面1122(參考圖3a)上，并鄰近第一通孔114，且位于基材110中的流體腔113外；流體致動裝置可為電熱式氣泡產(chǎn)生器，亦可為壓電式薄膜致動器，優(yōu)選者為由電阻層所構(gòu)成的電熱式氣泡產(chǎn)生器。在本實施例中，氣泡產(chǎn)生裝置120包括一第一加熱器121、以及一第二加熱器122，第一加熱器121如公知的那樣，用以在流體腔113內(nèi)產(chǎn)生一第一氣泡(參考圖1)，第二加熱器122與第一加熱器121分別位于第一通孔114的相對側(cè)，且如公知那樣，用以在流體腔113內(nèi)產(chǎn)生一第二氣泡(參考圖1)以將流體腔113內(nèi)的流體射出。
上述氣泡產(chǎn)生裝置還包括一訊號傳送線路(未圖示)，形成于該結(jié)構(gòu)層與該保護層之間，連接驅(qū)動氣泡產(chǎn)生裝置的電路。訊號傳送線路利用物理氣相沉積法(PVD)沉積一圖案化導(dǎo)電層，例如Al、Cu、AlCu或其他導(dǎo)線材料于結(jié)構(gòu)層上。
保護層130(例如氮化硅)設(shè)置于結(jié)構(gòu)層112的表面1122上，且具有一第三通孔131。具疏水性的厚膜層140設(shè)置于保護層130上，且具有一第二通孔141，其中第二通孔141經(jīng)由第三通孔131而與第一通孔114連通。
應(yīng)了解的是具疏水性的圖案化厚膜層與純水的接觸角大于90度。具疏水性的厚膜層的材質(zhì)可為優(yōu)選者為感光性高分子材質(zhì)，例如聚酰亞胺(polyimide)、環(huán)氧樹脂(epoxy resin)、甲基丙烯酸縮水甘油酯(glycidylmethacrylate)、丙烯酸樹脂(acrylic resin)、丙烯酸或丙烯酸甲酯清漆型環(huán)氧樹脂(an acrylate or a methacrylate of a novolak epoxy resin)、聚砜(polysulfones)、聚苯撐(polyphenylenes)、聚醚砜(polyether sulfones)、聚酰胺-酰亞胺(polyamide-imides，PAI)、聚亞芳基醚(polyarylene ethers，PAE)、聚亞苯基硫化物(polyphenylene sulfides)、聚亞芳基醚酮(polyarylene etherketones)、苯氧樹脂(phenoxy resins)、聚碳酸樹脂(polycarbonates)、聚醚-酰亞胺(polyether imides)、聚喹喔啉(polyquinoxalines)、聚喹啉(polyquinolines)、聚苯并咪唑(polybenzimidazoles)、聚苯惡唑(polybenzoxazoles)、聚苯并噻唑(polybenzothiazoles)、聚惡二唑(polyoxadiazoles)等材質(zhì)，而結(jié)構(gòu)層的材質(zhì)為低應(yīng)力的氮氧化硅(SiON)，其應(yīng)力介于100～200百萬帕(MPa)。
低應(yīng)力的氮氧化硅(SiON)薄膜是一種脆性材料。在本發(fā)明的流體噴射裝置中，主要將低應(yīng)力的氮氧化硅形成一懸浮結(jié)構(gòu)，此懸浮結(jié)構(gòu)在實際操作上，必須經(jīng)過多次的熱應(yīng)力以及外力沖擊，因而必須具備相當程度的結(jié)構(gòu)強度。若僅以單層低應(yīng)力的氮氧化硅，在結(jié)構(gòu)強度上會有相當?shù)南拗啤Ｒ虼吮景l(fā)明提出在低應(yīng)力的氮氧化硅層外部披覆上一既定厚度且經(jīng)曝光產(chǎn)生交聯(lián)作用(cross-link)的疏水性的厚膜層，可有效地增加懸浮結(jié)構(gòu)的強度，使流體噴射裝置使用的壽命顯著提升。
本實施例的流體噴射裝置的構(gòu)成如上所述，以下參考圖3a～3e說明本實施例的一種流體噴射裝置的制造方法，其中僅顯示圖2中的P1部分。
提供一硅基底111，且在硅基底111上形成一圖案化犧牲層(未圖示)。犧牲層系由化學氣相沉積(CVD)法所沉積的硼硅酸磷玻璃(BPSG)、硅酸磷玻璃(PSG)或其他氧化硅材質(zhì)。接著，順應(yīng)性形成一圖案化結(jié)構(gòu)層112于基底111上，且覆蓋圖案化犧牲層。結(jié)構(gòu)層112可由化學氣相沉積法(CVD)所形成的一低應(yīng)力的氮氧化硅(SiON)薄膜。接著，以濕蝕刻法蝕刻于基底111背面形成一流體通道，且露出犧牲層。然后，再蝕刻犧牲層以形成一流體腔113，如圖3a所示。
請參考圖3b，設(shè)置一氣泡產(chǎn)生裝置120于結(jié)構(gòu)層112上，此氣泡產(chǎn)生裝置120位于流體腔113外。氣泡產(chǎn)生裝置120可為電熱式氣泡產(chǎn)生器，亦可為一壓電式氣泡產(chǎn)生器。優(yōu)選者為由一電阻層所構(gòu)成的電熱式氣泡產(chǎn)生器，其中電阻層系由物理氣相沉積法(PVD)，例如蒸鍍、濺鍍法或反應(yīng)性濺鍍法，形成如HfB2、TaAl、TaN或其他電阻材料。接著，在結(jié)構(gòu)層112上形成一保護層130，如圖3c所示。之后在保護層130上形成一具疏水性的厚膜層140，如圖3d所示；最后，分別在結(jié)構(gòu)層112、保護層130、具疏水性的厚膜層140上形成相互連通的第一通孔114、第三通孔131、第二通孔141，如圖3e所示，其中第一通孔114與流體腔113連通。
上述具疏水性的厚膜層140可藉由滾壓貼合的方式或高速旋轉(zhuǎn)涂布的方式而披覆于保護層130上。
如上所述，本實施例的流體噴射裝置在其外部形成一層具疏水性的厚膜層，一方面可加強流體噴射裝置的結(jié)構(gòu)強度，另一方面利用厚膜層本身的疏水特性，使得流體經(jīng)由歧管回填至流體腔時，表面的疏水性質(zhì)會抑制流體經(jīng)由噴孔擴散至噴射裝置表面。
又，具疏水性的厚膜層也可使液滴飛離的通道增長，而使飛離液滴的脫離方向更加穩(wěn)定。
當氣泡于該流體腔的入口形成時，會限制流體由流體腔回流至歧管。同時使流體腔內(nèi)的壓力增加，當流體腔內(nèi)的壓力上升至可強迫流體由增加厚度的噴孔射出，以穩(wěn)定其飛離流體方向。流體由噴孔射出后，流體經(jīng)由歧管回填至流體腔時，表面的疏水性質(zhì)會抑制流體經(jīng)由噴孔擴散至噴射裝置表面。
第二實施例圖4為本發(fā)明的流體噴射裝置的第二實施例的示意圖，在本實施例的流體噴射裝置100a中，氣泡產(chǎn)生裝置120由單一加熱器120a所構(gòu)成，此為與第一實施例的流體噴射裝置100的不同點，至于其他構(gòu)成均與第一實施例相同，在此省略其說明。
低應(yīng)力的氮氧化硅(SiON)薄膜是一種脆性材料。在本發(fā)明的流體噴射裝置中，主要將低應(yīng)力的氮氧化硅形成一懸浮結(jié)構(gòu)，此懸浮結(jié)構(gòu)在實際操作上，必須經(jīng)過多次的熱應(yīng)力以及外力沖擊，因而必須具備相當程度的結(jié)構(gòu)強度。若僅以單層低應(yīng)力的氮氧化硅，在結(jié)構(gòu)強度上會有相當?shù)南拗啤Ｒ虼吮景l(fā)明提出在低應(yīng)力的氮氧化硅層外部披覆上一既定厚度且經(jīng)曝光產(chǎn)生交聯(lián)作用(cross-link)的疏水性的厚膜層，可有效地增加懸浮結(jié)構(gòu)的強度，使流體噴射裝置使用的壽命顯著提升。
由于在本實施例的流體噴射裝置外部也形成有具疏水性的厚膜層，因此也可達到與第一實施例相同的功效，亦即，可加強流體噴射裝置的結(jié)構(gòu)強度，另一方面利用厚膜層本身的疏水特性，使得流體經(jīng)由歧管回填至流體腔時，表面的疏水性質(zhì)會抑制流體經(jīng)由噴孔擴散至噴射裝置表面。而具疏水性的厚膜層也可提供一較長的通道，使飛離液滴的脫離方向更加穩(wěn)定。
第三實施例圖5a～5c為本發(fā)明的流體噴射裝置的一變形例。利用多次光刻工藝或藉控制光刻工藝參數(shù)等多種方式來控制第二通孔141b的外型，以獲得欲得的噴孔形狀。再者，利用厚膜本身所具的負型光阻的特性，并加上灰階光掩模的使用，可獲得倒漏斗狀(inverted funnel shaped)的通孔，即出口端寬而入口端窄的通孔。請參考圖5a，由于灰階光掩模500可在不同的特定區(qū)域提供不同的透光率，因此在預(yù)形成的噴孔中心處520，設(shè)定透光率為零，然后依序向外漸增透光率，在噴孔外部的透光率為100％。一入射光源600經(jīng)過灰階光掩模的不透光區(qū)域520、部分透光區(qū)域540以及透光區(qū)域560后，產(chǎn)生穿透光源660及部分穿透光源640。負型光阻受到紫外光而產(chǎn)生交聯(lián)作用的深度隨著穿透光源的強度漸強也依序漸深，如此經(jīng)過顯影后，可形成如圖5b所示的噴孔外形。
請參考圖5c，最后使用干蝕刻工藝，完成噴孔制作。流體噴射裝置100b中，其改變第二通孔141b的形狀，使第二通孔141b與第一通孔114連通的一端的直徑比未與第一通孔114連通的另一端的直徑大，以使液滴的脫離方向能更加穩(wěn)定。
由于圖5c中的流體噴射裝置100b的運作方式是藉由致動器產(chǎn)生壓力迫使部分流體經(jīng)由噴孔飛離流體噴射裝置。因此，具疏水性的厚膜層可提供一較長的通道并且上窄下寬的噴孔外形，可使飛離液滴的脫離方向更加穩(wěn)定。
本發(fā)明的特征與效果在于形成一具疏水性的厚膜層于流體噴射裝置上，一方面加強單石化流體噴射裝置的結(jié)構(gòu)強度；另一方面利用厚膜層本身的疏水特性，使得流體經(jīng)由歧管回填至流體腔時，表面的疏水性質(zhì)會抑制流體經(jīng)由噴孔擴散至噴射裝置表面。而具疏水性的厚膜層也可提供一較長的通道，使飛離液滴的脫離方向更加穩(wěn)定。
還有，由于具疏水性的厚膜層使得單石化流體噴射裝置的結(jié)構(gòu)強度增加，故能使流體噴射裝置的使用壽命大幅地提升。
雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施例公開如上，但是其并非用以限定本發(fā)明，本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，當可作更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當以所附的權(quán)利要求所確定的為準。
權(quán)利要求
1.一種流體噴射裝置，包括一基材，具有一流體腔以及一表面；一第一通孔，設(shè)置于該表面且與該流體腔相連通；一致動裝置，設(shè)置于該表面上并鄰近該第一通孔，且位于該基材的流體腔外；一保護層，設(shè)置于該表面上；以及一具疏水性的厚膜層，位于該保護層上，且具有一第二通孔，其中該第二通孔與該第一通孔連通。
2.如權(quán)利要求1所述的流體噴射裝置，其中該基材包括一硅基底；以及一結(jié)構(gòu)層，設(shè)置在該硅基底上，且在與該硅基底之間形成該流體腔。
3.如權(quán)利要求1所述的流體噴射裝置，其中該致動裝置系電熱式氣泡產(chǎn)生器。
4.如權(quán)利要求3所述的流體噴射裝置，其中該電熱式氣泡產(chǎn)生器包括一第一加熱器，以位于該流體腔外的方式設(shè)置于該表面上，用以在該流體腔內(nèi)產(chǎn)生一第一氣泡；以及一第二加熱器，以位于該流體腔外的方式設(shè)置于該表面上，且與該第一加熱器分別位于該第一通孔的相對側(cè)，用以在該流體腔內(nèi)產(chǎn)生一第二氣泡以將該流體腔內(nèi)的流體射出。
5.如權(quán)利要求1所述的流體噴射裝置，其中該致動裝置系壓電式致動器。
6.如權(quán)利要求1所述的流體噴射裝置，其中該第二通孔為倒漏斗狀的通孔。
7.如權(quán)利要求1所述的流體噴射裝置，其中該具疏水性的厚膜層與純水的接觸角大于或等于90度。
8.如權(quán)利要求1所述的流體噴射裝置，其中該具疏水性的厚膜層的材質(zhì)系選自于聚酰亞胺、環(huán)氧樹脂、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸樹脂、丙烯酸或丙烯酸甲酯清漆型環(huán)氧樹脂、聚砜、聚苯撐、聚醚砜、聚酰胺-酰亞胺、聚亞芳基醚、聚亞苯基硫化物、聚亞芳基醚酮、苯氧樹脂、聚碳酸樹脂、聚醚-酰亞胺、聚喹喔啉、聚喹啉、聚苯并咪唑、聚苯惡唑、聚苯并噻唑以及聚惡二唑所構(gòu)成族群中的任一種。
9.一種流體噴射裝置的制造方法，包括下列步驟提供一基底；形成一圖案化犧牲層于該基底的一第一面上；形成一圖案化結(jié)構(gòu)層于該基底上，且覆蓋該圖案化犧牲層；設(shè)置一致動裝置于該結(jié)構(gòu)層上，其中該致動裝置位于該流體腔外；在該結(jié)構(gòu)層上形成一保護層并覆蓋該致動裝置；在該保護層上形成一具疏水性的厚膜層；形成一流體通道于該基板的一第二面，且該第二面相對于該第一面，以露出該犧牲層；以及移除該犧牲層以形成一流體腔。
10.如權(quán)利要求9所述的流體噴射裝置的制造方法，其中該具疏水性的厚膜層與純水的接觸角大于或等于90度。
11.如權(quán)利要求9所述的流體噴射裝置的制造方法，其中該具疏水性的厚膜層的材質(zhì)系選自于聚酰亞胺、環(huán)氧樹脂、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸樹脂、丙烯酸或丙烯酸甲酯清漆型環(huán)氧樹脂、聚砜、聚苯撐、聚醚砜、聚酰胺-酰亞胺、聚亞芳基醚、聚亞苯基硫化物、聚亞芳基醚酮、苯氧樹脂、聚碳酸樹脂、聚醚-酰亞胺、聚喹喔啉、聚喹啉、聚苯并咪唑、聚苯惡唑、聚苯并噻唑以及聚惡二唑所構(gòu)成族群中的任一種。
12.如權(quán)利要求9所述的流體噴射裝置的制造方法，其中該具疏水性的厚膜層由旋轉(zhuǎn)涂布的方式被覆。
13.如權(quán)利要求9所述的流體噴射裝置的制造方法，其中該具疏水性的厚膜層由滾壓貼合的方式被覆。
14.如權(quán)利要求9所述的流體噴射裝置的制造方法，其中形成噴孔的該步驟，還包括定義該厚膜層以形成一倒漏斗狀的一第二通孔；以及沿該第二通孔，依序蝕刻該保護層及該結(jié)構(gòu)層，以形成連通該流體腔與該第二通孔的一第一通孔。
全文摘要
本發(fā)明提供一種流體噴射裝置及其制造方法，其中流體噴射裝置包括一基材、一第一通孔、一流體致動裝置、一保護層、以及一具疏水性的厚膜層；基材具有一流體腔以及一表面，第一通孔設(shè)置于表面且與流體腔相連通；流體致動裝置設(shè)置于表面上并鄰近第一通孔，且位于基材的流體腔外；保護層設(shè)置于表面上，具疏水性的厚膜層以位于流體腔外的方式設(shè)置于保護層上，且具有一第二通孔，其中第二通孔與第一通孔連通。
文檔編號B05B1/24GK1631551SQ200310123719
公開日2005年6月29日 申請日期2003年12月23日 優(yōu)先權(quán)日2003年12月23日
發(fā)明者陳葦霖, 胡宏盛 申請人:明基電通股份有限公司