專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種通過(guò)不停止對(duì)基板進(jìn)行的處理而清洗細(xì)縫噴嘴，從而實(shí)現(xiàn)間歇時(shí)間的縮短的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
作為使用于基板的制造工序的裝置，公知的是通過(guò)從細(xì)縫噴嘴向基板表面噴出抗蝕劑液等處理液而將抗蝕劑液涂敷到基板上的細(xì)縫涂敷機(jī)(基板處理裝置)。
一直以來(lái)，根據(jù)基板的制造工序中提高生產(chǎn)性的要求，希望縮短基板處理的間歇時(shí)間，例如，在專利文獻(xiàn)1中記載了這樣的細(xì)縫涂敷機(jī)。在專利文獻(xiàn)1記載的裝置中，提出了由多個(gè)細(xì)縫噴嘴同時(shí)處理多個(gè)基板、從而實(shí)現(xiàn)間歇時(shí)間縮短的技術(shù)。
專利文獻(xiàn)1為日本特開平10-216599號(hào)公報(bào)。
另一方面，在細(xì)縫涂敷機(jī)中，為了使涂敷處理的精度提高，每次進(jìn)行對(duì)基板的涂敷處理時(shí)，最好進(jìn)行清洗細(xì)縫噴嘴前端等的維護(hù)。但是，例如即使細(xì)縫涂敷機(jī)處于動(dòng)作中，在進(jìn)行對(duì)細(xì)縫噴嘴的維護(hù)時(shí)，也不能使用所述細(xì)縫噴嘴，所以細(xì)縫涂敷機(jī)不能進(jìn)行對(duì)基板的涂敷處理。因此，在基板的運(yùn)入運(yùn)出處理的時(shí)間內(nèi)，在維護(hù)沒(méi)有結(jié)束的情況下，存在基板處理的間歇時(shí)間增大這樣的問(wèn)題。特別是，除掉積存在細(xì)縫噴嘴內(nèi)部的空氣的處理是比較花費(fèi)時(shí)間的處理，存在難以在基板的運(yùn)入運(yùn)出處理的時(shí)間內(nèi)使該處理結(jié)束的問(wèn)題。
即使在專利文獻(xiàn)1記載的裝置中并沒(méi)有解決這樣的問(wèn)題當(dāng)多個(gè)細(xì)縫噴嘴中的任一個(gè)進(jìn)行維護(hù)時(shí)，在其它細(xì)縫噴嘴處被處理過(guò)的基板也與此對(duì)應(yīng)處于等待過(guò)程，從而增大了由維護(hù)引起的間歇時(shí)間。
而且，在專利文獻(xiàn)1記載的細(xì)縫涂敷機(jī)中存在這樣的問(wèn)題例如在一個(gè)細(xì)縫噴嘴處發(fā)生異常，必須對(duì)該細(xì)縫噴嘴進(jìn)行大的維護(hù)時(shí)，必須使細(xì)縫涂敷機(jī)整體停止。即，當(dāng)細(xì)縫噴嘴的數(shù)量增加時(shí)，維護(hù)的機(jī)會(huì)也增加，所以在專利文獻(xiàn)1記載的細(xì)縫涂敷機(jī)中，還存在由維護(hù)引起的間歇時(shí)間增大這樣的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于上述問(wèn)題而提出的，其目的在于提供一種防止因維護(hù)引起的間隙時(shí)間的增加的基板處理裝置。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，第一方面的發(fā)明為一種基板處理裝置，在基板的涂敷區(qū)域涂敷規(guī)定的處理液，其中包括保持裝置，其保持一個(gè)基板；多個(gè)細(xì)縫噴嘴，其向由前述保持裝置保持的前述基板的涂敷區(qū)域的大致整個(gè)區(qū)域，從直線狀的噴出口噴出前述規(guī)定的處理液；供給機(jī)構(gòu)，其將前述規(guī)定的處理液供給到前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴；升降裝置，其使前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴分別獨(dú)立地升降；移動(dòng)裝置，其使由前述保持裝置保持的前述基板和前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴分別獨(dú)立地在沿前述基板表面的方向上相對(duì)移動(dòng)；維護(hù)裝置，其對(duì)前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴進(jìn)行規(guī)定的維護(hù)。
另外，第二方面的發(fā)明，是在第一方面的發(fā)明的基板處理裝置中，前述維護(hù)裝置具有清洗裝置，其通過(guò)規(guī)定的清洗液清洗不正在對(duì)前述基板進(jìn)行噴出的細(xì)縫噴嘴。
另外，第三方面的發(fā)明，是在第二方面的發(fā)明的基板處理裝置中，前述清洗裝置相對(duì)于前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴，具有分別獨(dú)立的清洗液供給路徑。
另外，第四方面的發(fā)明，是在第一方面的發(fā)明的基板處理裝置中，前述維護(hù)裝置還具有空氣清除裝置，其從不正在對(duì)前述基板進(jìn)行噴出的細(xì)縫噴嘴除去空氣。
另外，第五方面的發(fā)明，是在第一方面的發(fā)明的基板處理裝置中，前述供給機(jī)構(gòu)相對(duì)于前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴，具有分別獨(dú)立的處理液供給路徑。
另外，第六方面的發(fā)明，是在第一方面的發(fā)明的基板處理裝置中，還具有取得裝置，其取得維護(hù)條件；存儲(chǔ)裝置，其存儲(chǔ)由前述取得裝置取得的維護(hù)條件；控制裝置，其基于存儲(chǔ)在前述存儲(chǔ)裝置中的維護(hù)條件，控制前述維護(hù)裝置。
另外，第七方面的發(fā)明，是在第一方面的發(fā)明的基板處理裝置中，針對(duì)前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴的每一個(gè)，還具有測(cè)定與由前述保持裝置保持的前述基板之間的間隔的測(cè)定裝置，前述升降裝置對(duì)應(yīng)于前述測(cè)定裝置的檢測(cè)結(jié)果而使前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴升降。
另外，第八方面的發(fā)明，是在第一方面的發(fā)明的基板處理裝置中，前述移動(dòng)裝置為線性馬達(dá)。
另外，第九方面的發(fā)明，是在第一方面的發(fā)明的基板處理裝置中，前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴包括縱向的寬度相互不同的細(xì)縫噴嘴。
根據(jù)第一方面至第九方面所述的發(fā)明，由于具有向由保持裝置保持的基板的涂敷區(qū)域的大致整個(gè)區(qū)域、從直線狀的噴出口噴出規(guī)定的處理液的多個(gè)細(xì)縫噴嘴；和對(duì)多個(gè)細(xì)縫噴嘴進(jìn)行規(guī)定的維護(hù)的維護(hù)裝置，所以能一邊繼續(xù)對(duì)基板的處理，一邊充分地進(jìn)行其它細(xì)縫噴嘴的維護(hù)。
根據(jù)第二方面所述的發(fā)明，由于維護(hù)裝置具有通過(guò)規(guī)定的清洗液清洗未對(duì)前述基板進(jìn)行噴出的細(xì)縫噴嘴的清洗裝置，所以能一邊繼續(xù)對(duì)基板的處理，一邊充分地進(jìn)行其它細(xì)縫噴嘴的清洗。
根據(jù)第三方面所述的發(fā)明，由于清洗裝置相對(duì)于前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴，具有分別獨(dú)立的清洗液供給路徑，所以能夠提供適于各細(xì)縫噴嘴的清洗液。
根據(jù)第四方面所述的發(fā)明，由于維護(hù)裝置還具有從未對(duì)前述基板進(jìn)行噴出的細(xì)縫噴嘴除去空氣的空氣清除裝置，所以能一邊繼續(xù)對(duì)基板的處理，一邊充分地進(jìn)行其它細(xì)縫噴嘴的空氣清除。
根據(jù)第五方面所述的發(fā)明，由于供給機(jī)構(gòu)相對(duì)于前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴，具有分別獨(dú)立的處理液供給路徑，所以能夠提供適于各細(xì)縫噴嘴的處理液。
根據(jù)第六方面所述的發(fā)明，由于還具有基于存儲(chǔ)在存儲(chǔ)裝置中的維護(hù)條件，控制維護(hù)裝置的控制裝置，所以能高效率地進(jìn)行適當(dāng)必要的維護(hù)。
根據(jù)第七方面所述的發(fā)明，由于針對(duì)多個(gè)細(xì)縫噴嘴的每一個(gè)，還具有測(cè)定與由保持裝置保持的基板之間的間隔的測(cè)定裝置，升降裝置對(duì)應(yīng)于測(cè)定裝置的檢測(cè)結(jié)果而使多個(gè)細(xì)縫噴嘴升降，所以多個(gè)細(xì)縫噴嘴中的任一個(gè)都能對(duì)應(yīng)于任何厚度的基板。
根據(jù)第八方面所述的發(fā)明，由于移動(dòng)裝置為線性馬達(dá)，所以能防止軌跡印跡的增加。
根據(jù)第九方面所述的發(fā)明，由于多個(gè)細(xì)縫噴嘴包括縱向的寬度相互不同的細(xì)縫噴嘴，所以能對(duì)應(yīng)于寬度不同的基板。
圖1為表示本發(fā)明基板處理裝置的大概結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖2為表示基板處理裝置的主體的側(cè)斷面、同時(shí)示出抗蝕劑液的涂敷動(dòng)作的主要構(gòu)成元件的視圖。
圖3表示基板處理裝置的抗蝕劑液和清洗液的供給路徑的視圖。
圖4為詳細(xì)表示細(xì)縫噴嘴的抗蝕劑液供給路徑的視圖。
圖5為表示第一實(shí)施形式的基板處理裝置的動(dòng)作的流程圖。
圖6為表示第一實(shí)施形式的基板處理裝置的動(dòng)作的流程圖。
圖7為表示第一實(shí)施形式的初始化維護(hù)的動(dòng)作的流程圖。
圖8為表示第二實(shí)施形式的基板處理裝置的動(dòng)作的流程圖。
圖9為表示第二實(shí)施形式的基板處理裝置的動(dòng)作的流程圖。
圖10為表示第三實(shí)施形式的基板處理裝置的動(dòng)作的流程圖。
圖11為表示第三實(shí)施形式的基板處理裝置的動(dòng)作的流程圖。
圖12為表示第三實(shí)施形式的維護(hù)處理的動(dòng)作的流程圖。
圖13為表示第五實(shí)施形式的基板處理裝置的去除機(jī)構(gòu)的視圖。
圖14表示變型例的基板處理裝置的主體部的側(cè)斷面、和示出抗蝕劑液的涂敷動(dòng)作的主要構(gòu)成元件的視圖。
具體實(shí)施例方式
下面，參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施形式。
1、第一實(shí)施形式圖1為表示本發(fā)明基板處理裝置1的大概結(jié)構(gòu)的斜視圖。圖2為表示基板處理裝置1的主體2的側(cè)斷面、同時(shí)示出抗蝕劑液的涂敷動(dòng)作的主要構(gòu)成元件的視圖。
在圖1中，為了圖示及說(shuō)明的方便而如此定義，即，Z軸方向表示垂直方向，XY平面表示水平面，但這些是為了便于把握位置關(guān)系而定義的，并不限定以下說(shuō)明的各方向。在其余的圖中也是同樣的。
(整體結(jié)構(gòu))基板處理裝置1大致分為主體2和控制部6，在將制造液晶顯示裝置的畫面面板用的方形玻璃基板作為被處理基板(以下單稱為“基板”)90，選擇性蝕刻形成在基板90表面上的電極層等的工藝中，構(gòu)成為將作為處理液的抗蝕劑液涂敷到基板90的表面上的涂敷處理裝置。因此，在該實(shí)施形式中，細(xì)縫噴嘴41a、41b噴出抗蝕劑液。另外，基板處理裝置1不僅能用作對(duì)液晶顯示裝置用的玻璃基板涂敷處理液(藥液)的裝置，而且，一般地，能作為對(duì)平板顯示器用的各種基板涂敷處理液(藥液)的裝置而變形利用。
主體2具有工作臺(tái)3，該工作臺(tái)3用作放置并保持基板90的保持臺(tái)的同時(shí)，還用作所附屬的各機(jī)構(gòu)的基臺(tái)。工作臺(tái)3具有長(zhǎng)方體形狀，例如為一體的石制品，其上表面(保持面30)及側(cè)面被加工成平坦面。
工作臺(tái)3的上表面為水平面，成為基板90的保持面30。在保持面30上分布而形成有多個(gè)真空吸附口(未示出)，在基板處理裝置1處理基板90的期間，通過(guò)吸附基板90而將基板90保持于規(guī)定的水平位置。而且，在保持面30上，以適當(dāng)?shù)拈g隔設(shè)置多個(gè)通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置(未示出)可上下自由升降的升降銷LP。升降銷LP用于在取下基板90時(shí)使基板90上升等。
在保持面30中，在隔著基板90的保持區(qū)域(保持基板90的區(qū)域)的兩端部上，沿大致水平方向固定設(shè)置有平行延伸的一對(duì)移動(dòng)導(dǎo)軌31。移動(dòng)導(dǎo)軌31和固定設(shè)置在橋式構(gòu)件4a、4b兩端部最下方的支承塊(未示出)一起，構(gòu)造為引導(dǎo)橋式構(gòu)件4a、4b的移動(dòng)(移動(dòng)方向被規(guī)定為特定的方向)，并將橋式構(gòu)件4a、4b支承在保持面30的上方的線性導(dǎo)引件。
在工作臺(tái)3的上方設(shè)置從該工作臺(tái)3的兩側(cè)部分大致水平地架設(shè)的橋式構(gòu)件4a、4b。
橋式構(gòu)件4a主要由以如碳纖維增強(qiáng)樹脂為骨料的噴嘴支承部40a、和支承其兩端的升降機(jī)構(gòu)43a、44a構(gòu)成。而且，橋式構(gòu)件4b具有和橋式構(gòu)件4a基本相同的結(jié)構(gòu)，故適當(dāng)?shù)厥÷云湔f(shuō)明。
細(xì)縫噴嘴41a和間隙傳感器42a安裝在噴嘴支承部40a上。在沿圖1中Y軸方向具有長(zhǎng)度方向的細(xì)縫噴嘴41a上，連接有給細(xì)縫噴嘴41a供給抗蝕劑液用的供給機(jī)構(gòu)7(抗蝕劑泵72a)。
細(xì)縫噴嘴41a一邊掃描基板90的表面，一邊將由供給機(jī)構(gòu)7供給的抗蝕劑液噴出到基板90表面的規(guī)定區(qū)域(以下，稱作“抗蝕劑涂敷區(qū)域”)。由此，細(xì)縫噴嘴41a將抗蝕劑液涂敷到基板90上。這里，所謂的抗蝕劑涂敷區(qū)域是指在基板90的表面中即將涂敷抗蝕劑液的區(qū)域，通常為從基板90的整個(gè)面積中除去沿著端緣的規(guī)定寬度區(qū)域的區(qū)域。關(guān)于供給機(jī)構(gòu)7的詳細(xì)內(nèi)容在后面描述。
間隙傳感器42a、42b安裝在噴嘴支承部40a、40b上，而分別位于細(xì)縫噴嘴41a、41b的旁邊，而且所述傳感器測(cè)定其和下方的存在物(例如，基板90的表面或抗蝕膜的表面)之間的高度差(間隙)，將檢測(cè)結(jié)果傳遞給控制部6。即，間隙傳感器42a測(cè)定細(xì)縫噴嘴41a和下方的存在物之間的間隙，間隙傳感器42b測(cè)定細(xì)縫噴嘴41b和下方的存在物之間的間隙。這樣，基板處理裝置1分別獨(dú)立地測(cè)定保持在工作臺(tái)3上的基板90和多個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b的各個(gè)之間的間隔。
升降機(jī)構(gòu)43a、43b分別配置在噴嘴支承部40a的兩側(cè)，并通過(guò)噴嘴支承部40a與細(xì)縫噴嘴41a連接。升降機(jī)構(gòu)43a、43b主要由AC伺服馬達(dá)430a、440a以及圖中未示出的滾珠絲杠構(gòu)成，并根據(jù)來(lái)自控制部6的控制信號(hào)，產(chǎn)生橋式構(gòu)件4a的升降驅(qū)動(dòng)力。由此，升降機(jī)構(gòu)43a、44a使細(xì)縫噴嘴41a并行地升降。而且，升降機(jī)構(gòu)43a、44a也用于調(diào)整細(xì)縫噴嘴41a在YZ平面內(nèi)的姿勢(shì)。另外，對(duì)于細(xì)縫噴嘴41b同樣，通過(guò)升降機(jī)構(gòu)43b、44b的交流伺服馬達(dá)430b、440b，可以和細(xì)縫噴嘴41a獨(dú)立地進(jìn)行同樣的動(dòng)作。
在基板處理裝置1中，沿工作臺(tái)3兩側(cè)的邊緣側(cè)分別固定設(shè)置有固定件(定子)500、510。而且，在橋式構(gòu)件4a的兩端部設(shè)置有移動(dòng)件501a、511a，在橋式構(gòu)件4b的兩端部設(shè)置有移動(dòng)件501b、511b。固定件500和移動(dòng)件501a、501b，構(gòu)成為交流無(wú)芯線性馬達(dá)(以下，單稱為“線性馬達(dá)”)50，而固定件510和移動(dòng)件511a、511b構(gòu)成為線性馬達(dá)51。即，線性馬達(dá)50、51分別具有一對(duì)移動(dòng)件501a、501b和511a、511b，并使它們獨(dú)立地沿X軸方向移動(dòng)。
這樣，本實(shí)施形式的基板處理裝置1，因?yàn)閷⒕€性馬達(dá)50、51用作使橋式構(gòu)件4a、4b沿X軸方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，所以能使固定件500、510通用化。因此，比起通過(guò)采用了旋轉(zhuǎn)馬達(dá)和滾珠絲杠的一般移動(dòng)機(jī)構(gòu)而使橋式構(gòu)件4a、4b獨(dú)立地移動(dòng)的情況，能抑制軌跡印跡。
而且，在橋式構(gòu)件4a的兩端部分別固定設(shè)置具有刻度部和檢出件的線性編碼器52a(未示出)、53a。線性編碼器52a檢測(cè)出線性馬達(dá)50的移動(dòng)件501a的位置，線性編碼器53a檢測(cè)出線性馬達(dá)51的移動(dòng)件511a的位置。同樣，在橋式構(gòu)件4b的兩端部固定設(shè)置線性編碼器52b、53b。線性編碼器52b檢測(cè)出線性馬達(dá)50的移動(dòng)件501b的位置，線性編碼器53b檢測(cè)出線性馬達(dá)51的移動(dòng)件511b的位置。各線性編碼器52a、52b、53a、53b將檢測(cè)出的位置信息輸出到控制部6。
這樣，各線性編碼器52a、52b、53a、53b分別檢測(cè)出各移動(dòng)件501a、501b、511a、511b的位置，控制部6對(duì)應(yīng)于該檢測(cè)結(jié)果分別控制線性馬達(dá)50、51，由此，基板處理裝置1能使橋式構(gòu)件4a、4b分別獨(dú)立地移動(dòng)。因此，不受一個(gè)細(xì)縫噴嘴(例如細(xì)縫噴嘴41a)的狀態(tài)影響而能使另一個(gè)細(xì)縫噴嘴(例如細(xì)縫噴嘴41b)移動(dòng)。
在主體2的保持面30上，在保持區(qū)域的X軸方向兩側(cè)設(shè)置開口32a、32b。開口32a、32b和細(xì)縫噴嘴41a、41b一樣，沿Y軸方向具有長(zhǎng)度方向，而且該長(zhǎng)度方向的長(zhǎng)度和細(xì)縫噴嘴41a、41b的長(zhǎng)度方向的長(zhǎng)度大致相同。雖然在圖1中沒(méi)有示出，但是，在開口32a下方的主體2的內(nèi)部設(shè)有清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a、待機(jī)罐85a和預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86a，在開口32b下方的主體2的內(nèi)部設(shè)有清洗液噴出機(jī)構(gòu)83b、待機(jī)罐85b和預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86b。
圖3為表示供給機(jī)構(gòu)7和清洗機(jī)構(gòu)8的視圖。如圖3所示，將抗蝕劑液供給到細(xì)縫噴嘴41a、41b的供給機(jī)構(gòu)7主要由抗蝕劑容器70、作為抗蝕劑液流路的配管71a、71b、及抗蝕劑泵72a、72b構(gòu)成。從抗蝕劑容器70經(jīng)抗蝕劑泵72a接續(xù)到細(xì)縫噴嘴41a的配管71a，以及輸送配管71a內(nèi)的抗蝕劑液的抗蝕劑泵72a構(gòu)成針對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的抗蝕劑液供給路徑73a。同樣，從抗蝕劑容器70經(jīng)抗蝕劑泵72b接續(xù)到細(xì)縫噴嘴41b的配管71b，以及輸送配管71b內(nèi)的抗蝕劑液的抗蝕劑泵72b構(gòu)成針對(duì)細(xì)縫噴嘴41b的抗蝕劑液供給路徑73b。即，供給機(jī)構(gòu)7相對(duì)于各細(xì)縫噴嘴41a、41b，具有分別獨(dú)立設(shè)置的抗蝕劑液供給路徑73a、73b。
清洗細(xì)縫噴嘴41a、41b的清洗機(jī)構(gòu)8主要由清洗液容器80、作為清洗液流路的配管81a、81b、泵82a、82b及清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a、83b構(gòu)成。從清洗液容器80經(jīng)泵82a接續(xù)到清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a的配管81a、輸送配管81a內(nèi)的清洗液的泵82a，及將清洗液噴出到細(xì)縫噴嘴41a上的清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a構(gòu)成針對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的清洗液供給路徑84a。同樣，從清洗液容器80經(jīng)泵82b接續(xù)到清洗液噴出機(jī)構(gòu)83b的配管81b、輸送配管81b內(nèi)的清洗液的泵82b，及將清洗液噴出到細(xì)縫噴嘴41b上的清洗液噴出機(jī)構(gòu)83b構(gòu)成針對(duì)細(xì)縫噴嘴41b的清洗液供給路徑84b。即，清洗機(jī)構(gòu)8相對(duì)于多個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b，具有分別獨(dú)立的清洗液供給路徑84a、84b。
清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a、83b為將由清洗液容器80供給的清洗液分別向細(xì)縫噴嘴41a、41b噴出的機(jī)構(gòu)。而且，盡管在圖中沒(méi)有示出，但是可以從氣體供給部將惰性氣體(氮)供給到清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a、83b，并向細(xì)縫噴嘴41a、41b噴出。清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a、83b通過(guò)圖中未示出的移動(dòng)機(jī)構(gòu)沿Y軸方向在細(xì)縫噴嘴41a、41b的下方移動(dòng)，同時(shí)噴出清洗液，從而清洗細(xì)縫噴嘴41a、41b的前端部，并且可以通過(guò)噴吹氮?dú)鈦?lái)使清洗液干燥。
這樣，基板處理裝置1通過(guò)清洗機(jī)構(gòu)8，用清洗液清洗多個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b中未對(duì)基板90進(jìn)行噴出的噴嘴，從而對(duì)該噴嘴進(jìn)行清洗處理(維護(hù))，同時(shí)由其它噴嘴繼續(xù)對(duì)基板90進(jìn)行處理。因此，在抑制間歇時(shí)間增大的同時(shí)，能充分確保維護(hù)時(shí)間。
另外，按照本實(shí)施形式的基板處理裝置1，在相對(duì)于細(xì)縫噴嘴41a、41b使用相同清洗液的情況下，也可以使清洗液供給路徑84a、84b中至泵82a、82b的路徑共同化。這種情況下，也可以通過(guò)用開閉閥等打開/關(guān)閉從泵至清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a、83b的配管，從而僅相對(duì)進(jìn)行清洗處理的清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a、83b供給清洗液。
圖4為表示細(xì)縫噴嘴41a的抗蝕劑液供給路徑73a的詳細(xì)內(nèi)容的視圖。在配管71a上安裝有三通閥710及閥711。而且，在細(xì)縫噴嘴41b側(cè)設(shè)置同樣的結(jié)構(gòu)。在圖4中，盡管沒(méi)有示出，但是三通閥710、閥711和閥741與控制部6連接，它們?yōu)橥ㄟ^(guò)控制部6的控制而進(jìn)行開閉動(dòng)作的一種電磁閥。
三通閥710設(shè)置在配管81a與配管71a連接的位置處，將配管71a的上游側(cè)和配管81a選擇地連接到細(xì)縫噴嘴41a(配管71a的下流側(cè))。具體地說(shuō)，在將抗蝕劑液供給到細(xì)縫噴嘴41a的情況下，開放配管71a的上游側(cè)，封閉配管81a。這樣，從抗蝕劑泵72a輸送的抗蝕劑液被供給到細(xì)縫噴嘴41a。另一方面，在將清洗液供給到細(xì)縫噴嘴41a的情況下，封閉配管71a的上游側(cè)而開放配管81a。這樣，從泵82a輸送的清洗液被供給到細(xì)縫噴嘴41a。
而且，在細(xì)縫噴嘴41a上安裝有空氣清除機(jī)構(gòu)74a?？諝馇宄龣C(jī)構(gòu)74a具有空氣清除配管740和閥741。空氣清除配管740連接到圖中未示出的回收機(jī)構(gòu)，并由閥741打開、關(guān)閉。
在本實(shí)施形式的基板處理裝置1中，抗蝕劑液及清洗液從細(xì)縫噴嘴41a的左右供給，但是也可以例如從中央的一處位置供給。
待機(jī)罐85a、85b，以保證待機(jī)中的各細(xì)縫噴嘴41a、41b的前端不干燥的形式設(shè)置，而且在較長(zhǎng)時(shí)間不進(jìn)行涂敷處理時(shí)，細(xì)縫噴嘴41a、41b主要在待機(jī)罐85a、85b的上方待機(jī)。
預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86a、86b為在細(xì)縫噴嘴41a、41b對(duì)基板90進(jìn)行涂敷處理之前，進(jìn)行預(yù)涂敷用的機(jī)構(gòu)。預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86a、86b分別具有分配輥，細(xì)縫噴嘴41a、41b向所述分配輥噴出抗蝕劑液，從而進(jìn)行預(yù)涂敷。這樣，能提高基板處理裝置1的涂敷處理的精度。
返回圖1，控制部6的內(nèi)部具有根據(jù)程序處理各種數(shù)據(jù)的運(yùn)算部60、和保存程序及各種數(shù)據(jù)的存儲(chǔ)部61。而且，在前表面上設(shè)有操作部62和顯示各種數(shù)據(jù)的顯示部63，其中所述操作部62為操作者對(duì)基板處理裝置1輸入必要指令用的部件。
控制部6和通過(guò)圖1中未示出的電纜連接到主體2上的各機(jī)構(gòu)電連接?？刂撇?根據(jù)儲(chǔ)存在存儲(chǔ)部61中的數(shù)據(jù)、來(lái)自操作部62的輸入信號(hào)、或來(lái)自間隙傳感器42a、42b及其它圖中未示出的各種傳感器的信號(hào)等，控制各構(gòu)件。
特別是，控制部6使通過(guò)操作者操作所述操作部62而設(shè)定的維護(hù)條件儲(chǔ)存在存儲(chǔ)部61中。而且，控制部6能適當(dāng)?shù)刈x出存儲(chǔ)部61所儲(chǔ)存的維護(hù)條件，控制線性馬達(dá)50、51、供給機(jī)構(gòu)7及清洗機(jī)構(gòu)8等，進(jìn)行與各種情況對(duì)應(yīng)的維護(hù)。
具體地說(shuō)，臨時(shí)存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的RAM、讀取專用的ROM及磁盤裝置等與存儲(chǔ)部61相應(yīng)。或者，也可以是便攜式光磁盤、存儲(chǔ)卡等存儲(chǔ)介質(zhì)以及它們的讀取裝置等。而且，按鈕及開關(guān)類等(包含鍵盤和鼠標(biāo)等)與操作部62相應(yīng)?；蛘?，也可以是觸摸面板顯示器這樣的同時(shí)兼具有顯示部63的功能。液晶顯示器和各種指示燈等與顯示部63相應(yīng)。
以上說(shuō)明的是本實(shí)施形式的基板處理裝置1的結(jié)構(gòu)和功能。
(動(dòng)作說(shuō)明)圖5和圖6為表示本實(shí)施形式的基板處理裝置1的動(dòng)作的流程圖。下面通過(guò)圖5和6說(shuō)明基板處理裝置1的動(dòng)作。只要不特別說(shuō)明，以下的基板處理裝置1的動(dòng)作是基于控制部6的控制進(jìn)行的。
首先，基板處理裝置1進(jìn)行規(guī)定的初始設(shè)定(步驟S10)之后，直到基板90被運(yùn)入為止處于待機(jī)狀態(tài)(步驟S11)。而且，所謂規(guī)定的初始設(shè)定是指進(jìn)行基板處理裝置1的動(dòng)作所必需的準(zhǔn)備的工序。例如，不僅包括基板處理裝置1自動(dòng)進(jìn)行的工序(數(shù)據(jù)的讀出等)，而且包括操作者手動(dòng)進(jìn)行規(guī)定的設(shè)定操作(新方法的追加和維護(hù)條件的設(shè)定等)。而且，細(xì)縫噴嘴41a、41b的初始化維護(hù)也在初始設(shè)定期間進(jìn)行。
圖7為表示初始設(shè)定中進(jìn)行的初始化維護(hù)的詳細(xì)內(nèi)容的流程圖。根據(jù)本實(shí)施形式的基板處理裝置1，在初始化維護(hù)中，對(duì)細(xì)縫噴嘴41a、41b進(jìn)行內(nèi)部清洗處理和外部清洗處理。另外，維護(hù)并不限于這些。而且，由于使初始化維護(hù)相對(duì)于細(xì)縫噴嘴41a和細(xì)縫噴嘴41b基本同樣地進(jìn)行，所以這里，以對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的處理為例進(jìn)行說(shuō)明。
首先，控制部6控制線性馬達(dá)50、51，使細(xì)縫噴嘴41a移動(dòng)到預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86a的上方(步驟S101)。
當(dāng)細(xì)縫噴嘴41a的移動(dòng)結(jié)束后，控制部6控制三通閥7，使配管81a成為開放狀態(tài)，同時(shí)封閉配管71a的上游側(cè)。而且，控制閥711，開放配管71a的下游側(cè)。這樣，從清洗液容器80到細(xì)縫噴嘴41a的清洗液的流路被連通。另外，控制部6使空氣清除機(jī)構(gòu)74a的閥741成為打開狀態(tài)，從而開放空氣清除配管740。
接著，控制部6使泵82a驅(qū)動(dòng)，將清洗液從清洗液容器80供給到細(xì)縫噴嘴41a(步驟S102)，并進(jìn)行細(xì)縫噴嘴41a的空氣清除(步驟S103)。當(dāng)執(zhí)行步驟S102，將清洗液供給到細(xì)縫噴嘴41a時(shí)，所供給的清洗液被輸送到配管71a的下游側(cè)，并從細(xì)縫噴嘴41a排出。這樣，細(xì)縫噴嘴41a的內(nèi)部被洗凈。
由泵82a輸送、供給的清洗液也從空氣清除機(jī)構(gòu)74a溢出。細(xì)縫噴嘴41a內(nèi)的空氣由所述清洗液擠壓到空氣清除機(jī)構(gòu)74a中，并被朝向回收機(jī)構(gòu)排出。在圖7中，雖然為了圖示而將步驟S102和步驟S103作為分開的工序表示，但是實(shí)際上，這兩個(gè)工序是同時(shí)并行地進(jìn)行的處理。而且，也可以如此構(gòu)造，即在空氣清除機(jī)構(gòu)74a中設(shè)置空氣清除用的泵來(lái)強(qiáng)制排氣。
當(dāng)從泵82a的驅(qū)動(dòng)開始經(jīng)過(guò)規(guī)定的時(shí)間時(shí)，控制部6使泵82a停止，從而停止清洗液的供給。接著，控制三通閥710，封閉配管81a，同時(shí)開放配管71a的上游側(cè)。這樣，從抗蝕劑容器70到細(xì)縫噴嘴41a的抗蝕劑液的流路被連通。
而且，執(zhí)行步驟S102(S103)的時(shí)間(內(nèi)部清洗處理實(shí)際的清洗時(shí)間)作為維護(hù)條件被預(yù)先設(shè)定，并被存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部61中。這樣，在基板處理裝置1中，操作者將預(yù)先設(shè)定的維護(hù)條件儲(chǔ)存在存儲(chǔ)部61中，并以控制部6作為一種方法(維護(hù)方法)進(jìn)行處理，從而能以適當(dāng)?shù)亩〞r(shí)進(jìn)行必要的維護(hù)。
作為具體的例子，通過(guò)將必要的維護(hù)方法結(jié)合到下面實(shí)行的基板處理的方法(普通方法)中，即使沒(méi)有操作者的指令，也能逐一地進(jìn)行維護(hù)，從而能促進(jìn)自動(dòng)化。因此，減少了操作者必須介入的情況，從而能減輕操作者的負(fù)擔(dān)。下面，只要不特別說(shuō)明，維護(hù)中，控制部6所必需的各種條件作為維護(hù)條件預(yù)先設(shè)定，并被存儲(chǔ)起來(lái)。
接著，控制部6使抗蝕劑泵72a驅(qū)動(dòng)，從抗蝕劑容器70向細(xì)縫噴嘴41a供給抗蝕劑液(步驟S104)。這樣，細(xì)縫噴嘴41a、配管71a及空氣清除機(jī)構(gòu)74a內(nèi)的清洗液被擠壓出，由抗蝕劑液替換。
當(dāng)從抗蝕劑泵72a的驅(qū)動(dòng)開始經(jīng)過(guò)規(guī)定的時(shí)間時(shí)，控制部6使抗蝕劑泵72a停止，從而使抗蝕劑液的供給停止。接著，關(guān)閉閥711而封閉配管71a的下游側(cè)，同時(shí)關(guān)閉閥741a而封閉空氣清除配管740。這樣，細(xì)縫噴嘴41a及配管71a內(nèi)成為充滿抗蝕劑液的狀態(tài)，內(nèi)部清洗處理結(jié)束。
當(dāng)內(nèi)部清洗處理結(jié)束時(shí)，控制部6控制線性馬達(dá)50、51，使細(xì)縫噴嘴41a向待機(jī)罐85a的上方移動(dòng)(步驟S105)。這時(shí)，控制部6控制升降機(jī)構(gòu)43a、44a，以使清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a達(dá)到能掃描細(xì)縫噴嘴41a的噴出口周圍的高度位置(細(xì)縫噴嘴41a和清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a不干涉的高度位置)。
當(dāng)細(xì)縫噴嘴41a的移動(dòng)結(jié)束時(shí)，控制部6根據(jù)清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a的掃描次數(shù)而判斷噴出清洗液與否(步驟S106)，在使清洗液噴出的情況下，驅(qū)動(dòng)泵82a，向清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a供給清洗液。這樣，清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a向細(xì)縫噴嘴41a噴出清洗液(步驟S107)，同時(shí)掃描細(xì)縫噴嘴41a(步驟S108)。由此，從外部清洗細(xì)縫噴嘴41a的前端部。而且，使清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a掃描時(shí)的速度等也能作為維護(hù)條件而進(jìn)行設(shè)定。
另一方面，在不使清洗液噴出的情況下(步驟S106中為“否”)，跳過(guò)步驟S107，掃描細(xì)縫噴嘴41a(步驟S108)。在步驟S108中，由于清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a能吹出氮?dú)猓栽诓粐姵銮逑匆憾鴪?zhí)行步驟S108的情況下，可以進(jìn)行細(xì)縫噴嘴41a的干燥處理。
而且，在本實(shí)施形式的基板處理裝置1中，在執(zhí)行步驟S107時(shí)，由于步驟S108也進(jìn)行，所以可以吹出氮?dú)狻＿@可以用于抑制噴出的清洗液不必要的飛散等，但是如果不需要，清洗中也可以停止氮?dú)獾拇党?。由于控制?對(duì)應(yīng)于預(yù)先設(shè)定這種判斷的維護(hù)條件而控制各構(gòu)件，所以在基板處理裝置1中能實(shí)現(xiàn)根據(jù)需要的處理。
每次執(zhí)行步驟S108時(shí)，控制部6就對(duì)清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a的掃描次數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)，在規(guī)定的次數(shù)結(jié)束之前，反復(fù)執(zhí)行步驟S106至S109的處理(步驟S109)。
當(dāng)由清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a進(jìn)行的規(guī)定次數(shù)的掃描結(jié)束時(shí)，外部清洗結(jié)束，返回圖6所示的處理。這時(shí)，控制部6控制升降機(jī)構(gòu)43a、44a，使細(xì)縫噴嘴41a下降，前端部進(jìn)入待機(jī)罐85a內(nèi)。這樣，能抑制細(xì)縫噴嘴41a的前端部的干燥。下面，將這時(shí)的細(xì)縫噴嘴41a、41b的狀態(tài)稱作“待機(jī)狀態(tài)”。以上為初始化維護(hù)的處理。
返回圖6，在基板處理裝置1中，當(dāng)操作者或圖中未示出的運(yùn)送機(jī)構(gòu)將基板90運(yùn)送到規(guī)定的位置時(shí)，工作臺(tái)3的升降銷LP上升，接收基板90。而且，通過(guò)升降銷LP的下降，基板90被安置在工作臺(tái)3的保持面30上的規(guī)定位置，工作臺(tái)3吸附并保持著基板90。通過(guò)所述動(dòng)作，基板90的運(yùn)入完成(在步驟S11中判斷為“是”)。
當(dāng)基板90的運(yùn)入完成時(shí)，基板處理裝置1完成細(xì)縫噴嘴41a的維護(hù)，開始由細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行涂敷處理(步驟S12)，并繼續(xù)處理直到涂敷處理完成(步驟S13)。另外，步驟S12中的維護(hù)不限于初始化維護(hù)，還包括后述的維護(hù)。即，對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的維護(hù)在執(zhí)行步驟S12之前結(jié)束也可以，更詳細(xì)地說(shuō)，在執(zhí)行步驟S12時(shí)，細(xì)縫噴嘴41a處于待機(jī)狀態(tài)。
下面說(shuō)明細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行的涂敷處理，首先，響應(yīng)于來(lái)自控制部6的控制信號(hào)，升降機(jī)構(gòu)43a、44a及線性馬達(dá)50、51使細(xì)縫噴嘴41a移動(dòng)到預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86a的上方。接著，供給機(jī)構(gòu)7將規(guī)定量的抗蝕劑液供給細(xì)縫噴嘴41a，從而細(xì)縫噴嘴41a向預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86a的分配輥噴出抗蝕劑液。由此，實(shí)行基板處理裝置1中的預(yù)涂敷處理，細(xì)縫噴嘴41a的準(zhǔn)備結(jié)束，成為能進(jìn)行涂敷處理的狀態(tài)。
當(dāng)預(yù)涂敷處理結(jié)束時(shí)，根據(jù)來(lái)自控制部6的控制信號(hào)，升降機(jī)構(gòu)43a、44a使安裝在噴嘴支承部40a上的間隙傳感器42a移動(dòng)到比基板90的厚度高的規(guī)定高度(下面，稱作“測(cè)定高度”)。
當(dāng)將間隙傳感器42a設(shè)定在測(cè)定高度時(shí)，線性馬達(dá)50、51使橋式構(gòu)件4a向(+X)方向移動(dòng)(即，僅使移動(dòng)件501a、511a移動(dòng))，由此將間隙傳感器42a移動(dòng)到抗蝕劑液涂敷區(qū)域的上方。這時(shí)，控制部6根據(jù)線性編碼器52a、53a的檢出結(jié)果，發(fā)出控制信號(hào)到相應(yīng)的線性馬達(dá)50、51，由此控制間隙傳感器42a的X軸方向的位置。
接著，間隙傳感器42a開始檢測(cè)基板90表面的抗蝕劑涂敷區(qū)域的基板90表面和細(xì)縫噴嘴41a之間的間隙，并將測(cè)定結(jié)果傳遞給控制部6。這時(shí)，控制部6將間隙傳感器42a的測(cè)定結(jié)果保存在存儲(chǔ)部61中。
當(dāng)由間隙傳感器42a進(jìn)行的測(cè)定結(jié)束時(shí)，控制部6根據(jù)來(lái)自間隙傳感器42a的檢測(cè)結(jié)果，由運(yùn)算部60計(jì)算出細(xì)縫噴嘴41a在YZ平面上的姿勢(shì)成為適當(dāng)姿勢(shì)(細(xì)縫噴嘴41a和抗蝕劑液涂敷區(qū)域之間的間隔成為涂敷抗蝕劑液用的適當(dāng)間隔的姿勢(shì)。以下稱為“適當(dāng)姿勢(shì)”)的噴嘴支承部40a的位置。另外，根據(jù)運(yùn)算部60的算出結(jié)果，向各升降機(jī)構(gòu)43a、44a發(fā)出控制信號(hào)。根據(jù)來(lái)自控制部6的控制信號(hào)，各升降機(jī)構(gòu)43a、44a使噴嘴支承部40a沿Z軸方向移動(dòng)，將細(xì)縫噴嘴41a調(diào)整到適當(dāng)姿勢(shì)。
這樣，為了實(shí)現(xiàn)抗蝕劑液的均勻涂敷，必須嚴(yán)格地調(diào)整細(xì)縫噴嘴41a和基板90的表面之間的距離。在基板處理裝置1中，控制部6對(duì)應(yīng)于間隙傳感器42a的檢出結(jié)果，控制升降機(jī)構(gòu)43a、44a，由此進(jìn)行該距離的調(diào)整。
而且，如前所述，根據(jù)本實(shí)施形式的基板處理裝置1，由于相對(duì)于各細(xì)縫噴嘴41a、41b，升降機(jī)構(gòu)43a、43b、44a、44b及間隙傳感器42a、42b分別獨(dú)立地設(shè)置，所以可以相對(duì)于各細(xì)縫噴嘴41a、41b單獨(dú)地進(jìn)行這種姿勢(shì)調(diào)整。因此，即使基板處理裝置1處理任何厚度的基板90時(shí)，都能由細(xì)縫噴嘴41a、41b中的任一個(gè)進(jìn)行處理。即，可處理的細(xì)縫噴嘴41a、41b不由處理基板90的厚度限定。
另外，線性馬達(dá)50、51使橋式構(gòu)件4a沿X軸方向移動(dòng)，并使細(xì)縫噴嘴41a移動(dòng)到噴出開始位置。這里，所謂噴出開始位置是指細(xì)縫噴嘴41a大致沿著抗蝕劑涂敷區(qū)域一邊的位置。
當(dāng)細(xì)縫噴嘴41a移動(dòng)到噴出開始位置時(shí)，控制部6向線性馬達(dá)50、51發(fā)出控制信號(hào)。根據(jù)該控制信號(hào)，線性馬達(dá)50、51使橋式構(gòu)件4a沿(+X)方向移動(dòng)，由此，細(xì)縫噴嘴41a掃描基板90的表面。另外，控制部6根據(jù)線性編碼器52a、53a的檢出結(jié)果，監(jiān)視細(xì)縫噴嘴41a是否移動(dòng)到噴出結(jié)束位置。
而且，和細(xì)縫噴嘴41a的掃描并行，控制部6向供給機(jī)構(gòu)7發(fā)出控制信號(hào)，對(duì)應(yīng)于該控制信號(hào)，供給機(jī)構(gòu)7驅(qū)動(dòng)抗蝕劑泵72a。這樣，從抗蝕劑泵70經(jīng)由相對(duì)于細(xì)縫噴嘴41a獨(dú)立設(shè)置的抗蝕劑液供給路徑73a，將抗蝕劑液供給到細(xì)縫噴嘴41a。另外，控制部6控制供給機(jī)構(gòu)7，使得從細(xì)縫噴嘴41a噴出的抗蝕劑液的流量達(dá)到形成希望膜厚的薄膜所必需的流量。具體地說(shuō)，控制抗蝕劑泵72a的驅(qū)動(dòng)速度。
通過(guò)上述動(dòng)作，細(xì)縫噴嘴41a將抗蝕劑液噴出到抗蝕劑涂敷區(qū)域上，在基板90的表面上形成抗蝕劑液層(薄膜)。即，進(jìn)行由細(xì)縫噴嘴41a實(shí)行的涂敷處理。
當(dāng)細(xì)縫噴嘴41a移動(dòng)到噴出結(jié)束位置時(shí)，控制部6向供給機(jī)構(gòu)7發(fā)出控制信號(hào)。基于該控制信號(hào)，供給機(jī)構(gòu)7使抗蝕劑泵72a停止。這樣，從細(xì)縫噴嘴41a噴出抗蝕劑液的動(dòng)作停止，結(jié)束由細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行的涂敷處理(在步驟S13中判定為“是”)。另外，大致同樣地進(jìn)行后述的由細(xì)縫噴嘴41b實(shí)行的涂敷處理。
當(dāng)由細(xì)縫噴嘴41a實(shí)行的涂敷處理結(jié)束時(shí)，基板處理裝置1開始對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的維護(hù)(步驟S14)。
下面說(shuō)明在本實(shí)施形式的基板處理裝置1中，對(duì)細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行的維護(hù)。首先，控制部6向升降機(jī)構(gòu)43a、44a及線性馬達(dá)50、51發(fā)出控制信號(hào)，升降機(jī)構(gòu)43a、44a及線性馬達(dá)50、51使細(xì)縫噴嘴41a移動(dòng)到待機(jī)罐85a的上方。
接著，供給機(jī)構(gòu)7將規(guī)定量的抗蝕劑液供給細(xì)縫噴嘴41a，從而細(xì)縫噴嘴41a將抗蝕劑液排到待機(jī)罐85a中。這樣，能除去通過(guò)如涂敷結(jié)束時(shí)的倒吸等混入細(xì)縫噴嘴41a內(nèi)部的空氣。因此，下次進(jìn)行細(xì)縫噴嘴41a實(shí)行的涂敷處理時(shí)，可以提高噴出響應(yīng)性和噴出均勻性，從而能使細(xì)縫噴嘴41a的噴出精度提高。這樣，在本實(shí)施形式的基板處理裝置1中，也能通過(guò)控制部6、供給機(jī)構(gòu)7及待機(jī)罐85a(預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86a)進(jìn)行空氣清除處理。即，不僅空氣清除機(jī)構(gòu)74a，這些部件也可以用作本發(fā)明的空氣清除手段。
當(dāng)空氣清除處理結(jié)束時(shí)，清洗機(jī)構(gòu)8驅(qū)動(dòng)泵82a，將清洗液從清洗液容器80供給到清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a，同時(shí)使清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a沿Y軸方向移動(dòng)。由此，進(jìn)行細(xì)縫噴嘴41a的前端部的清洗處理(和圖7所示的外部清洗處理同樣的處理)，除掉附著的抗蝕劑液和其它污染物。因此，下次進(jìn)行細(xì)縫噴嘴41a實(shí)行的涂敷處理時(shí)，能抑制微粒附著到基板90上而使形成的膜的厚度變得不均勻的情況，從而能使細(xì)縫噴嘴41a的涂敷精度提高。
以上主要為對(duì)基板處理中的基板處理裝置1的細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行維護(hù)的內(nèi)容。對(duì)于后述的細(xì)縫噴嘴41b的維護(hù)基本為同樣的內(nèi)容。
與執(zhí)行步驟S14、開始對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的維護(hù)并行，基板處理裝置1進(jìn)行涂敷處理已經(jīng)完成的基板90的運(yùn)出處理，控制部6監(jiān)視基板90的運(yùn)出處理的結(jié)束(步驟S15)。在基板90的運(yùn)出處理中，首先，工作臺(tái)3停止對(duì)基板90的吸附，通過(guò)使升降銷LP上升而將基板90舉到規(guī)定的高度位置。這種狀態(tài)的基板90由操作者或運(yùn)送機(jī)構(gòu)接收，并被運(yùn)送到下面的處理工序，基板90的運(yùn)出處理結(jié)束(步驟S15中判定為“是”)。
當(dāng)基板90的運(yùn)出處理結(jié)束時(shí)，基板處理裝置1根據(jù)是否還存在應(yīng)處理的基板90(下面，將下次應(yīng)處理的基板90稱作“基板91”)，判斷動(dòng)作結(jié)束與否(步驟S16)，當(dāng)基板91不存在時(shí)(步驟S16中為“是”)，結(jié)束處理。
另一方面，基板處理裝置1在基板91存在的情況下(步驟S16中為“否”)，進(jìn)行基板91的運(yùn)入操作，并監(jiān)視該運(yùn)入操作的結(jié)束(步驟S21)。
當(dāng)基板91的運(yùn)入結(jié)束時(shí)，細(xì)縫噴嘴41b的維護(hù)結(jié)束，開始由細(xì)縫噴嘴41b進(jìn)行的涂敷處理(步驟S22)。由細(xì)縫噴嘴41b進(jìn)行的涂敷處理和由細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行的涂敷處理大致同樣地進(jìn)行。
這樣，在本實(shí)施形式的基板處理裝置1中，細(xì)縫噴嘴41b進(jìn)行對(duì)基板91的涂敷處理，所以在基板91被運(yùn)入的時(shí)刻，沒(méi)有必要結(jié)束對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的維護(hù)。即，在現(xiàn)有裝置中，執(zhí)行步驟S14后，只有基板運(yùn)出運(yùn)入的時(shí)間(相當(dāng)于執(zhí)行步驟S15、S1 6、S21期間的時(shí)間)能補(bǔ)入維護(hù)時(shí)間中，但是，在基板處理裝置1中，執(zhí)行步驟S15、S16、步驟S21至S26、步驟S11期間的時(shí)間能補(bǔ)入細(xì)縫噴嘴41a的維護(hù)時(shí)間中。因此，在不使基板處理裝置1停止，而即使進(jìn)行空氣清除處理這樣需要較長(zhǎng)時(shí)間的維護(hù)，也不會(huì)增大相對(duì)基板90的間歇時(shí)間。
當(dāng)由細(xì)縫噴嘴41b進(jìn)行的對(duì)基板91的涂敷處理結(jié)束時(shí)(步驟S23中為“是”)，基板處理裝置1開始細(xì)縫噴嘴41b的維護(hù)(步驟S24)，同時(shí)開始基板91的運(yùn)出操作，并監(jiān)視該運(yùn)出操作的結(jié)束(步驟S25)。
當(dāng)基板91的運(yùn)出結(jié)束時(shí)，判斷是否還存在應(yīng)處理的基板90，由此判斷動(dòng)作結(jié)束與否(步驟S26)，在應(yīng)處理的基板90不存在的情況下，結(jié)束處理。
另一方面，在應(yīng)處理的基板90存在的情況下，返回步驟S11繼續(xù)處理。這樣，基板處理裝置1在應(yīng)處理的基板90變?yōu)椴淮嬖谥?步驟S16或步驟S26中判定為“否”之前)，繼續(xù)步驟S11至S16及步驟S21至S26的處理。
如上所述，本實(shí)施形式的基板處理裝置1，具有朝向保持在工作臺(tái)3上的基板90的大致整個(gè)抗蝕劑涂敷區(qū)域噴出抗蝕劑液的多個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b，通過(guò)對(duì)多個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b中未對(duì)基板90進(jìn)行噴出的細(xì)縫噴嘴實(shí)行維護(hù)，可以一邊繼續(xù)對(duì)基板90的處理，一邊充分地清洗其它細(xì)縫噴嘴。
而且，所述裝置1具有分別獨(dú)立地使多個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b升降的升降機(jī)構(gòu)43a、44a、43b、44b，和測(cè)定保持在工作臺(tái)3上的基板90相對(duì)多個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b中各個(gè)噴嘴的間隔用的間隙傳感器42a、42b，通過(guò)對(duì)應(yīng)于間隙傳感器42a、42b的測(cè)定結(jié)果而使多個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b升降，可以使多個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b都與任何厚度的基板90對(duì)應(yīng)。
而且，作為使橋式構(gòu)件4a、4b沿X軸方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，采用線性馬達(dá)50、51，所以能防止軌跡印跡的增加。
另外，在本實(shí)施形式的基板處理裝置1中，供給細(xì)縫噴嘴41a、41b的抗蝕劑液為從任一個(gè)抗蝕劑容器70供給的抗蝕劑，它們?yōu)橥ㄓ玫目刮g劑液。但是，下述情況也可以，即，連接到各抗蝕劑液供給路徑73a、73b的抗蝕劑容器70分別獨(dú)立地設(shè)置，在這些抗蝕劑容器70中儲(chǔ)存相互不同的抗蝕劑液。即，本實(shí)施形式的基板處理裝置1，由于抗蝕劑液供給路徑73a、73b分別獨(dú)立地設(shè)置，所以也可以使細(xì)縫噴嘴41a、41b噴出相互不同的處理液。這種情況下，雖然基板90和91被涂敷相互不同的處理液，但是即使在這種情況下，也能充分地確保細(xì)縫噴嘴41a、41b的維護(hù)時(shí)間。
而且，清洗機(jī)構(gòu)8向清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a、83b供給的清洗液為從任一個(gè)清洗液容器80供給的清洗液，它們?yōu)橥ㄓ玫那逑匆骸５?，下述情況也可以，即，連接到各清洗液供給路徑84a、84b的清洗液容器80分別獨(dú)立地設(shè)置，在這些清洗液容器80中儲(chǔ)存相互不同的清洗液。即，本實(shí)施形式的基板處理裝置1，由于清洗液供給路徑84a、84b分別獨(dú)立地設(shè)置，所以也可以例如對(duì)應(yīng)于細(xì)縫噴嘴41a、41b使用的處理液，使用適當(dāng)?shù)那逑匆呵逑锤骷?xì)縫噴嘴41a、41b。
而且，在步驟S14(或者S24)中的維護(hù)(由基板處理裝置1進(jìn)行的基板處理中的維護(hù))在處理一個(gè)基板期間難以結(jié)束的情況下，細(xì)縫噴嘴41a、41b也可以繼續(xù)對(duì)兩個(gè)基板進(jìn)行涂敷處理。即，每處理多少基板時(shí)使細(xì)縫噴嘴41a和細(xì)縫噴嘴41b交替，可以對(duì)應(yīng)于實(shí)行的維護(hù)所需要的時(shí)間而確定。
2、第二實(shí)施形式在上述第一實(shí)施形式中，說(shuō)明了通過(guò)由細(xì)縫噴嘴41a、41b交替地進(jìn)行涂敷處理，確保細(xì)縫噴嘴41a、41b的維護(hù)時(shí)間的方法。但是，維護(hù)不限于在基板處理裝置1的動(dòng)作中進(jìn)行，也包括例如，由于細(xì)縫噴嘴的異常而拆開該細(xì)縫噴嘴并對(duì)其進(jìn)行清洗、或更換等這樣的維護(hù)(下面，稱作“恢復(fù)維護(hù)”)?；謴?fù)維護(hù)為需要較長(zhǎng)時(shí)間的維護(hù)，一般必需由操作者進(jìn)行的操作，所以現(xiàn)有技術(shù)中，停止裝置，在維護(hù)結(jié)束時(shí)根據(jù)操作者的指示再次開始裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)。本發(fā)明的基板處理裝置1即使在進(jìn)行這種恢復(fù)維護(hù)的情況下也能抑制間歇時(shí)間的增加。
圖8和圖9為表示基于這種原理構(gòu)成的第二實(shí)施形式的基板處理裝置1的動(dòng)作的流程圖。第二實(shí)施形式的基板處理裝置1的結(jié)構(gòu)和第一實(shí)施形式的基板處理裝置1基本相同，所以省略對(duì)其結(jié)構(gòu)的說(shuō)明。
首先，當(dāng)圖中未示出的初始設(shè)定結(jié)束時(shí)，判斷細(xì)縫噴嘴41a是否發(fā)生異常(步驟S31)，在異常發(fā)生的情況下，開始細(xì)縫噴嘴41a的恢復(fù)維護(hù)(步驟S41)。而且，通過(guò)執(zhí)行步驟S31，在細(xì)縫噴嘴41a中發(fā)現(xiàn)異常的情況的處理如后所述。而且，對(duì)于異常的檢出，對(duì)應(yīng)于對(duì)處理后的基板90的檢查結(jié)果和操作者的操作等進(jìn)行檢測(cè)也可以，通過(guò)進(jìn)行規(guī)定數(shù)量的處理來(lái)定期地進(jìn)行也可以。
另一方面，在細(xì)縫噴嘴41a中沒(méi)有發(fā)生異常的情況下，進(jìn)行基板90的運(yùn)入，并監(jiān)視該運(yùn)入操作的結(jié)束(步驟S32)。
本實(shí)施形式的基板處理裝置1在基板90被運(yùn)入時(shí)，結(jié)束細(xì)縫噴嘴41a的維護(hù)，開始由細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行的涂敷處理(步驟S33)。本實(shí)施形式的涂敷處理和第一實(shí)施形式的涂敷處理相同，所以省略其說(shuō)明。
當(dāng)通過(guò)執(zhí)行步驟S34、檢測(cè)出由細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行的涂敷處理結(jié)束時(shí)，開始細(xì)縫噴嘴41a的維護(hù)(步驟S35)，同時(shí)進(jìn)行基板90的運(yùn)出操作。
當(dāng)通過(guò)執(zhí)行步驟S36、檢測(cè)出基板90的運(yùn)出結(jié)束時(shí)，判斷是否還存在應(yīng)處理的基板90(步驟S37)，在應(yīng)處理的基板90存在的情況下，返回步驟S31繼續(xù)處理。另一方面，在應(yīng)處理的基板90不存在的情況下，結(jié)束處理。
即，第二實(shí)施形式的基板處理裝置1在細(xì)縫噴嘴41a發(fā)生恢復(fù)維護(hù)所需要的異常之前(步驟S31中判定為“是”之前)，由細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行和現(xiàn)有裝置大致相同的處理。因此，動(dòng)作中，對(duì)細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行的維護(hù)主要在進(jìn)行基板90的運(yùn)入運(yùn)出期間的時(shí)間(執(zhí)行步驟S36、S37、S31、S32期間的時(shí)間)內(nèi)結(jié)束。
在第二實(shí)施形式的基板處理裝置1的動(dòng)作中，在檢測(cè)出細(xì)縫噴嘴41a的異常的情況下(步驟S31中為“是”)，如前所述，執(zhí)行步驟S41，開始細(xì)縫噴嘴41a的恢復(fù)維護(hù)。
另外，在進(jìn)行處理基板90的運(yùn)入的同時(shí)，監(jiān)視基板90的運(yùn)入操作結(jié)束(步驟S42)。而且，當(dāng)基板90被運(yùn)入時(shí)，細(xì)縫噴嘴41b的維護(hù)結(jié)束，開始由細(xì)縫噴嘴41b進(jìn)行的涂敷處理(步驟S43)。
即，第二實(shí)施形式的基板處理裝置1，當(dāng)在細(xì)縫噴嘴41a中必須進(jìn)行恢復(fù)維護(hù)時(shí)，使用細(xì)縫噴嘴41b繼續(xù)進(jìn)行涂敷處理。在現(xiàn)有的裝置中，在這種情況下，必須停止裝置的動(dòng)作(生產(chǎn)線停止)來(lái)進(jìn)行恢復(fù)維護(hù)，其間，裝置處于完全不能處理基板90的狀態(tài)。但是，在本實(shí)施形式的基板處理裝置1，即使在這種情況下，也沒(méi)有必要使生產(chǎn)線停止，從而能抑制由恢復(fù)維護(hù)引起的間歇時(shí)間的增大。
當(dāng)通過(guò)執(zhí)行步驟S44，結(jié)束由細(xì)縫噴嘴41b進(jìn)行的涂敷處理時(shí)，基板處理裝置1開始細(xì)縫噴嘴41b的維護(hù)(步驟S45)，同時(shí)進(jìn)行基板90的運(yùn)出。
另外，當(dāng)通過(guò)執(zhí)行步驟S46而檢測(cè)出基板90的運(yùn)出結(jié)束時(shí)，判斷對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的恢復(fù)維護(hù)結(jié)束與否(步驟S47)，在恢復(fù)維護(hù)結(jié)束的情況下，返回圖8的步驟S37繼續(xù)處理。
在對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的恢復(fù)維護(hù)沒(méi)有結(jié)束的情況下，判斷是否還存在應(yīng)處理的基板90(步驟S48)，在應(yīng)處理的基板90存在的情況下，返回步驟S42繼續(xù)處理。另一方面，在應(yīng)處理的基板90不存在的情況下，結(jié)束處理。
如上所述，在第二實(shí)施形式的基板處理裝置1中，和第一實(shí)施形式的基板處理裝置1相同，也能抑制由維護(hù)引起的間歇時(shí)間的增大。
而且，在恢復(fù)維護(hù)中，不限于如“異?！蹦菢硬豢赡茴A(yù)測(cè)的情況下必需的維護(hù)。還包括例如抗蝕劑液的交換處理等這樣的執(zhí)行可預(yù)測(cè)的維護(hù)。
3、第三實(shí)施形式在第一實(shí)施形式中，說(shuō)明了僅在初始設(shè)定中實(shí)行需要較長(zhǎng)時(shí)間的內(nèi)部清洗處理的例子。但是，通過(guò)適當(dāng)設(shè)定維護(hù)條件，在開始基板處理裝置1中的涂敷處理之后，一邊繼續(xù)涂敷處理，一邊進(jìn)行內(nèi)部清洗處理也是可以的。
圖10和圖11為表示第三實(shí)施形式的基板處理裝置1的動(dòng)作的流程圖。本實(shí)施形式的基板處理裝置1的結(jié)構(gòu)和第一實(shí)施形式的基板處理裝置1大致相同，所以省略其說(shuō)明。
首先，和第一實(shí)施形式的步驟S10、S11相同，進(jìn)行初始設(shè)定(步驟S51)和基板90的運(yùn)入結(jié)束確認(rèn)(步驟S52)。
當(dāng)基板90被運(yùn)入時(shí)，控制部6判斷對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的維護(hù)結(jié)束與否(步驟S53)，在進(jìn)行對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的維護(hù)的情況下，還判斷對(duì)細(xì)縫噴嘴41b的維護(hù)是否結(jié)束(步驟S54)。即，本實(shí)施形式的基板處理裝置1在細(xì)縫噴嘴41a和細(xì)縫噴嘴41b中任一個(gè)可使用之前，一邊重復(fù)步驟S53、S54，一邊等待涂敷處理。
在細(xì)縫噴嘴41a可使用的情況下(步驟S53中為“是”)，開始由細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行的涂敷處理(步驟S55)；在細(xì)縫噴嘴41b可使用的情況下(步驟S54中為“是”)，開始由細(xì)縫噴嘴41b進(jìn)行的涂敷處理(步驟S56)。這樣，將細(xì)縫噴嘴41a及細(xì)縫噴嘴41b中被選作對(duì)基板90進(jìn)行涂敷處理的細(xì)縫噴嘴稱作“目標(biāo)細(xì)縫噴嘴”。而且，由目標(biāo)細(xì)縫噴嘴進(jìn)行的涂敷處理和第一實(shí)施形式中說(shuō)明的涂敷處理相同，所以省略其說(shuō)明。
當(dāng)由對(duì)象細(xì)縫噴嘴進(jìn)行的涂敷處理結(jié)束時(shí)(步驟S61中為“是”)，控制部6遞增目標(biāo)細(xì)縫噴嘴的使用次數(shù)。所謂使用次數(shù)是指從上次的內(nèi)部清洗處理開始，該目標(biāo)細(xì)縫噴嘴連續(xù)進(jìn)行涂敷處理的次數(shù)。這樣，在以后的處理中，控制部6能得知細(xì)縫噴嘴41a、41連續(xù)進(jìn)行了多少次的涂敷處理。
接著，控制部6開始維護(hù)處理(步驟S62)，同時(shí)監(jiān)視基板90的運(yùn)出結(jié)束(步驟S63)。即，本實(shí)施形式的基板處理裝置1雖然由步驟S62開始維護(hù)處理，但是不等其結(jié)束就繼續(xù)進(jìn)行涂敷處理。
圖12為表示第三實(shí)施形式的維護(hù)處理的動(dòng)作的流程圖。在維護(hù)處理中，首先，進(jìn)行細(xì)縫噴嘴檢查(步驟S71)。所謂細(xì)縫噴嘴檢查是指確定進(jìn)行維護(hù)處理的細(xì)縫噴嘴的處理，在本實(shí)施形式中，選擇進(jìn)行之前的涂敷處理的細(xì)縫噴嘴(目標(biāo)細(xì)縫噴嘴)。
當(dāng)確定了目標(biāo)細(xì)縫噴嘴時(shí)，控制部6參照所統(tǒng)計(jì)的該目標(biāo)細(xì)縫噴嘴的使用次數(shù)，判斷是否使用了規(guī)定次數(shù)(步驟S72)。作為這時(shí)的判斷基準(zhǔn)的規(guī)定次數(shù)作為維護(hù)條件由操作者預(yù)先輸入并設(shè)定?？刂撇?通過(guò)參照作為規(guī)定次數(shù)儲(chǔ)存在存儲(chǔ)部61中的該設(shè)定值，實(shí)行步驟S72的判定。
在已經(jīng)使用了規(guī)定次數(shù)的情況下，控制部6控制線性馬達(dá)50、51，使目標(biāo)細(xì)縫噴嘴移動(dòng)到預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86a(或者預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86b)的上方(步驟S73)。而且，當(dāng)目標(biāo)細(xì)縫噴嘴的移動(dòng)結(jié)束時(shí)，實(shí)行內(nèi)部清洗處理(步驟S74)。步驟S74的內(nèi)部清洗處理為和第一實(shí)施形式中步驟S102至S104(圖7)大致相同的處理，所以省略其說(shuō)明。
另一方面，在還沒(méi)有使用規(guī)定次數(shù)的情況下，為了省略內(nèi)部清洗處理，跳過(guò)步驟S73、S74。
接著，控制部6控制線性馬達(dá)50、51，使目標(biāo)細(xì)縫噴嘴移動(dòng)到待機(jī)罐85a(或者待機(jī)罐85b)的上方(步驟S75)。而且，當(dāng)目標(biāo)細(xì)縫噴嘴的移動(dòng)結(jié)束時(shí)，實(shí)行外部清洗處理(步驟S76)。步驟S76的外部清洗處理為和第一實(shí)施形式的步驟S106至S107(圖7)大致相同的處理，故省略其說(shuō)明。
這樣，對(duì)于已經(jīng)連續(xù)地進(jìn)行了規(guī)定次數(shù)涂敷處理的細(xì)縫噴嘴41a、41b，控制部6在該涂敷處理結(jié)束后連續(xù)地對(duì)其進(jìn)行內(nèi)部清洗處理(步驟S74)和外部清洗處理(步驟S76)。另一方面，對(duì)于連續(xù)使用次數(shù)還未達(dá)到規(guī)定次數(shù)的細(xì)縫噴嘴41a、41b，在涂敷處理之后僅進(jìn)行外部清洗處理(步驟S76)。這樣，在本實(shí)施形式的基板處理裝置1中，控制部6對(duì)應(yīng)于維護(hù)條件，實(shí)行適當(dāng)必要的維護(hù)，從而可以正常保持細(xì)縫噴嘴41a、41b的狀態(tài)。
當(dāng)外部清洗處理結(jié)束時(shí)，控制部6控制升降機(jī)構(gòu)43a、44a(或者升降機(jī)構(gòu)43b、44b)，使目標(biāo)細(xì)縫噴嘴下降，使前端部進(jìn)入到待機(jī)罐85a(或待機(jī)罐85b)內(nèi)。即，使目標(biāo)細(xì)縫噴嘴移動(dòng)到待機(jī)位置(步驟S77)。
這樣，維護(hù)處理結(jié)束。如前所述，維護(hù)處理雖然由步驟S62(圖11)開始，但是不等其結(jié)束就持續(xù)進(jìn)行涂敷處理。因此，即使維護(hù)處理沒(méi)有結(jié)束，當(dāng)基板90的運(yùn)出結(jié)束時(shí)，判斷是否還存在要處理的基板90(步驟S64)，在還應(yīng)該實(shí)施涂敷處理的基板90存在的情況下，返回步驟S52(圖10)重復(fù)進(jìn)行處理。
但是，由于成為維護(hù)處理對(duì)象的細(xì)縫噴嘴41a、41b不能進(jìn)行涂敷處理，所以從通過(guò)步驟S71特定為目標(biāo)細(xì)縫噴嘴到步驟S77的處理結(jié)束期間，該目標(biāo)細(xì)縫噴嘴的狀態(tài)為“維護(hù)中”。在步驟S53、S54(圖10)中，控制部6參照所述狀態(tài)，確定下次進(jìn)行涂敷處理的細(xì)縫噴嘴41a、41b。
這樣，本實(shí)施形式的基板處理裝置1，由于具有多個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b，所以只要能使用任一個(gè)(步驟S53、S54中任一個(gè)為“是”)，都能進(jìn)行涂敷處理。因此，一邊對(duì)一個(gè)細(xì)縫噴嘴進(jìn)行如內(nèi)部清洗處理那樣的需要較長(zhǎng)時(shí)間的維護(hù)，一邊可以由另一個(gè)細(xì)縫噴嘴繼續(xù)涂敷處理，從而能提高基板90的處理效率。
另外，本實(shí)施形式的基板處理裝置1，雖然可以對(duì)細(xì)縫噴嘴41a、41b并行地進(jìn)行維護(hù)處理，但是在這種情況下，在任一方的維護(hù)處理結(jié)束之前，反復(fù)執(zhí)行步驟S53、S54，等待涂敷處理。
當(dāng)基板處理裝置1在步驟S64中判斷不存在應(yīng)處理的基板90時(shí)，等待維護(hù)處理的結(jié)束并結(jié)束所述處理。
如上所述，本實(shí)施形式的基板處理裝置1能得到和上述實(shí)施形式相同的效果。
另外，如本實(shí)施形式所示，當(dāng)從涂敷處理的開始時(shí)間起，交替使用細(xì)縫噴嘴41a、41b時(shí)，它們基本同時(shí)達(dá)到規(guī)定次數(shù)，而且基本同時(shí)必需內(nèi)部清洗處理(步驟S74)。這種情況下，較長(zhǎng)時(shí)間不能使用兩個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b。因此，例如，也可以是，最初的一定數(shù)量的基板僅由細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行涂敷處理，之后開始交替使用細(xì)縫噴嘴41a、41b。
4、第四實(shí)施形式基板處理裝置1具有獨(dú)立的抗蝕劑液供給路徑73a、73b，所以能分別供給不同的抗蝕劑液并進(jìn)行相互不同的涂敷處理，這在上述第一實(shí)施形式中已經(jīng)說(shuō)明了。但是，在使用多種抗蝕劑液的情況下，可以如此操作，以確保交換抗蝕劑液的時(shí)間。
以下簡(jiǎn)單地說(shuō)明本實(shí)施形式的原理，在僅由細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行與抗蝕劑液A相關(guān)的涂敷處理期間，將供給細(xì)縫噴嘴41b的抗蝕劑液替換為抗蝕劑液B。這樣，能確保向抗蝕劑液B替換的維護(hù)時(shí)間。
當(dāng)向抗蝕劑液B的替換結(jié)束時(shí)，細(xì)縫噴嘴41a和細(xì)縫噴嘴41b交替地進(jìn)行涂敷處理。這樣，能確保各細(xì)縫噴嘴41a、41b的外部清洗處理的維護(hù)時(shí)間。
另外，當(dāng)涂敷抗蝕劑液A的涂敷處理結(jié)束時(shí)，一邊僅由細(xì)縫噴嘴41b繼續(xù)涂敷處理，一邊將抗蝕劑液A替換為抗蝕劑液C。這樣，能確保替換為抗蝕劑液C的維護(hù)時(shí)間。
這樣，只要根據(jù)預(yù)先的制造計(jì)劃明確由哪種抗蝕劑液處理多少基板90，就可以將其作為維護(hù)條件進(jìn)行設(shè)定，從而可以效率更高的操作。
5、第五實(shí)施形式作為為了除去附著到細(xì)縫噴嘴41a、41b上的抗蝕劑液而進(jìn)行的維護(hù)，在上述實(shí)施形式中，雖然主要對(duì)外部清洗處理進(jìn)行了說(shuō)明，但是除去抗蝕劑液的方法不限于此。
圖13表示基于這種原理構(gòu)成的第五實(shí)施形式的基板處理裝置1的除去機(jī)構(gòu)75。在圖13中，雖然僅示出一個(gè)除去機(jī)構(gòu)75，但是本實(shí)施形式的基板處理裝置1具有兩個(gè)除去機(jī)構(gòu)75，分別配置在待機(jī)罐85a、85b的上方。
除去機(jī)構(gòu)75具有基座750、一對(duì)刮取部件751、進(jìn)給螺母部752、滾珠絲杠753和圖中未示出的旋轉(zhuǎn)馬達(dá)。
基座750為板狀的部件，一對(duì)沿Y軸方向配置的刮取部件751固定在基座的(+Z)側(cè)的表面上。刮取部件751為板狀的樹脂制元件，如圖13所示，在各上部形成切口部751a。所述切口部751a具有與細(xì)縫噴嘴41a、41b的前端部相符合的形狀。而且，刮取部件751的個(gè)數(shù)和形狀不限于圖13所示出的情況。
在基座750的(一Z)側(cè)的表面上固定有進(jìn)給螺母部752。在作為大致呈箱狀的元件的進(jìn)給螺母部752上形成沿Y軸方向貫通的螺紋孔，滾珠絲杠753螺紋接合到所述螺紋孔中。
滾珠絲杠753沿Y軸配置，其Y軸方向的長(zhǎng)度大于細(xì)縫噴嘴41a、41b的Y軸方向的長(zhǎng)度。而且，在滾珠絲杠753的一端安裝有旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，通過(guò)旋轉(zhuǎn)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，滾珠絲杠753以大致平行于Y軸的軸為中心旋轉(zhuǎn)。而且，基座750和省略圖示的導(dǎo)引部件配合，不會(huì)因滾珠絲杠753的旋轉(zhuǎn)而轉(zhuǎn)動(dòng)。因此，當(dāng)滾珠絲杠753通過(guò)旋轉(zhuǎn)馬達(dá)而旋轉(zhuǎn)時(shí)，進(jìn)給螺母部752和基座750及一對(duì)刮取部件751一起沿Y軸方向移動(dòng)。而且，旋轉(zhuǎn)馬達(dá)通過(guò)來(lái)自控制部6的控制，可以調(diào)節(jié)其旋轉(zhuǎn)方向和旋轉(zhuǎn)速度。
下面說(shuō)明由上述結(jié)構(gòu)的除去機(jī)構(gòu)75除去附著到細(xì)縫噴嘴41a、41b上的抗蝕劑液的方法(以下，稱作“除去處理”)。但是，由于針對(duì)細(xì)縫噴嘴41a、41b的方法基本相同，所以在這里僅對(duì)細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行說(shuō)明。
在本實(shí)施形式的基板處理裝置1中，接著對(duì)細(xì)縫噴嘴41a的外部清洗處理(和圖7所示的步驟S106至S109同樣的處理)，進(jìn)行除去處理。
首先，控制部6控制線性馬達(dá)50、51及升降機(jī)構(gòu)43a、44a，使外部清洗處理已經(jīng)結(jié)束的細(xì)縫噴嘴41a移動(dòng)到除去機(jī)構(gòu)75的上方。另外，升降機(jī)構(gòu)43a、44a使細(xì)縫噴嘴41a下降少許，將細(xì)縫噴嘴41a的前端部以符合的方式壓在刮取部件751的切口部751a上。
在這種狀態(tài)下，控制部6驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，使?jié)L珠絲杠753旋轉(zhuǎn)。這樣，刮取部件751接觸著細(xì)縫噴嘴41a的前端部，同時(shí)刮取部件751沿Y軸方向移動(dòng)。因此，附著到細(xì)縫噴嘴41a上的附著物被刮取部件751刮取并被除去。
而且，在本實(shí)施形式的基板處理裝置1中，作為刮取部件751的材料而采用樹脂，但是可以使用比形成細(xì)縫噴嘴41a、41b的材料軟的任何材料。而且，刮取部件751經(jīng)向(+Z)方向推壓刮取部件751的元件(例如彈簧或橡膠等)而安裝在基座750上也可以。
在反復(fù)進(jìn)行由維護(hù)條件設(shè)定的次數(shù)的掃描之后，控制部6結(jié)束除去處理。
如上所述，即使維護(hù)裝置為如除去機(jī)構(gòu)75那樣的刮取除去抗蝕劑液的機(jī)構(gòu)，也能得到和上述實(shí)施形式相同的效果。
另外，代替刮取部件751，使用布制的擦拭部件也能實(shí)現(xiàn)除去處理。這種情況下，可以通過(guò)卷曲輥狀的擦拭部件，擦去附著的抗蝕劑液。
6、變形例上面雖然說(shuō)明了本發(fā)明的實(shí)施形式，但是本發(fā)明不限于上述實(shí)施形式，可以有種種變形。
例如，也可以如此構(gòu)成，即在細(xì)縫噴嘴41a、41b的任一個(gè)中，在必需維護(hù)之前，如第一實(shí)施形式的基板處理裝置1那樣，交替地進(jìn)行由細(xì)縫噴嘴41a、41b實(shí)施的涂敷處理，同時(shí)在必需維護(hù)的情況下，如第二實(shí)施形式的基板處理裝置1那樣，使用不需維護(hù)的那個(gè)細(xì)縫噴嘴實(shí)行處理。
而且，清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a、83b及預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86a、86b各自為1個(gè)也可以。圖14為表示基于這種原理構(gòu)成的基板處理裝置1的主體部2a的側(cè)斷面，和與抗蝕劑液的涂敷動(dòng)作相關(guān)的主要構(gòu)成元件的視圖。圖14所示的主體部2a不設(shè)有與上述實(shí)施形式的基板處理裝置1的清洗液噴出機(jī)構(gòu)83b及預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86b相當(dāng)?shù)臉?gòu)成。即使在這種結(jié)構(gòu)中，例如也能進(jìn)行如第二實(shí)施形式的基板處理裝置1那樣的動(dòng)作。即，通常由細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行涂敷處理，在必需對(duì)細(xì)縫噴嘴41a進(jìn)行拆卸維修等恢復(fù)維護(hù)的情況下，使細(xì)縫噴嘴41a較大的退避之后，進(jìn)行由細(xì)縫噴嘴41b實(shí)施的涂敷處理。這時(shí)，對(duì)細(xì)縫噴嘴41b的動(dòng)作中的維護(hù)在開口32a內(nèi)進(jìn)行。即，在細(xì)縫噴嘴41b處于在待機(jī)罐85a的上方待機(jī)的狀態(tài)下，通過(guò)清洗液噴出機(jī)構(gòu)83a噴出清洗液來(lái)進(jìn)行細(xì)縫噴嘴41b的清洗，同時(shí)在細(xì)縫噴嘴41b進(jìn)行預(yù)涂敷處理的情況下，使用預(yù)涂敷機(jī)構(gòu)86a。通過(guò)這種結(jié)構(gòu)，也能得到和例如第二實(shí)施形式的基板處理裝置1相同的效果。
而且，多個(gè)細(xì)縫噴嘴41a、41b沿縱向(Y軸方向)的寬度相互不同也可以。這種情況下，基板處理裝置1能應(yīng)對(duì)寬度不同的基板。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，在基板的涂敷區(qū)域涂敷規(guī)定的處理液，其特征在于，包括保持裝置，其保持一個(gè)基板；多個(gè)細(xì)縫噴嘴，其向由前述保持裝置保持的前述基板的涂敷區(qū)域的大致整個(gè)區(qū)域，從直線狀的噴出口噴出前述規(guī)定的處理液；供給機(jī)構(gòu)，其將前述規(guī)定的處理液供給到前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴；升降裝置，其使前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴分別獨(dú)立地升降；移動(dòng)裝置，其使由前述保持裝置保持的前述基板和前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴分別獨(dú)立地在沿前述基板表面的方向上相對(duì)移動(dòng)；維護(hù)裝置，其對(duì)前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴進(jìn)行規(guī)定的維護(hù)。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，前述維護(hù)裝置具有清洗裝置，其通過(guò)規(guī)定的清洗液清洗不正在對(duì)前述基板進(jìn)行噴出的細(xì)縫噴嘴。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，前述清洗裝置相對(duì)于前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴，具有分別獨(dú)立的清洗液供給路徑。
4.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，前述維護(hù)裝置還具有空氣清除裝置，其從不正在對(duì)前述基板進(jìn)行噴出的細(xì)縫噴嘴除去空氣。
5.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，前述供給機(jī)構(gòu)相對(duì)于前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴，具有分別獨(dú)立的處理液供給路徑。
6.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有取得裝置，其取得維護(hù)條件；存儲(chǔ)裝置，其存儲(chǔ)由前述取得裝置取得的維護(hù)條件；控制裝置，其基于存儲(chǔ)在前述存儲(chǔ)裝置中的維護(hù)條件，控制前述維護(hù)裝置。
7.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，針對(duì)前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴的每一個(gè)，還具有測(cè)定與由前述保持裝置保持的前述基板之間的間隔的測(cè)定裝置，前述升降裝置對(duì)應(yīng)于前述測(cè)定裝置的檢測(cè)結(jié)果而使前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴升降。
8.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，前述移動(dòng)裝置為線性馬達(dá)。
9.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，前述多個(gè)細(xì)縫噴嘴包括縱向的寬度相互不同的細(xì)縫噴嘴。
全文摘要
一種基板處理裝置，能抑制由于維護(hù)造成的間歇時(shí)間的增大。在基板處理裝置(1)的主體(2)上設(shè)置有多個(gè)細(xì)縫噴嘴(41a、41b)。針對(duì)細(xì)縫噴嘴(41a)，設(shè)置有間隙傳感器(42a)、升降機(jī)構(gòu)(43a、44a)、線性馬達(dá)(50、51)的移動(dòng)件(501a、510a)。而且，針對(duì)細(xì)縫噴嘴(41b)，設(shè)置有間隙傳感器(42b)、升降機(jī)構(gòu)(43b、44b)、線性馬達(dá)(50、51)的移動(dòng)件(501b、510b)。在基板處理裝置(1)的動(dòng)作中，在進(jìn)行由細(xì)縫噴嘴(41a)執(zhí)行的涂敷處理期間，進(jìn)行針對(duì)細(xì)縫噴嘴(41b)的維護(hù)，在進(jìn)行由細(xì)縫噴嘴(41b)執(zhí)行的涂敷處理期間，進(jìn)行針對(duì)細(xì)縫噴嘴(41a)的維護(hù)。
文檔編號(hào)B05C5/02GK1644246SQ200510004658
公開日2005年7月27日 申請(qǐng)日期2005年1月21日 優(yōu)先權(quán)日2004年1月23日
發(fā)明者高木善則, 川口靖弘 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社