專利名稱：：光記錄材料及光記錄媒體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及利用光射照進(jìn)行信息記錄的光記錄媒體及該光記錄媒體所用的光記錄材料。
背景技術(shù)：
：光記錄媒體通常是向記錄層照射激光等的光，利用記錄層的形狀變化、磁疇變化、相變化等記錄信息。這類光記錄媒體有例如具備含偶氮色素等有機(jī)色素的記錄層的追記型光記錄媒體，作為CD-R(追記型袖珍光盤(pán))和DVD±R(追記型DVD)廣泛普及。上述追記型光記錄媒體中的CD-R通常是在具有導(dǎo)向槽的圓形基板上依次層疊由以色素為主要構(gòu)成成分的記錄層、以金屬為主要成分的反射層、紫外線固化樹(shù)脂等構(gòu)成的保護(hù)層而形成的。DVD±R與CD-R同樣層疊各層而且還在保護(hù)層上層疊粘接層及基板而形成。信息的記錄-再現(xiàn)原理如下更詳細(xì)地進(jìn)行說(shuō)明。首先，向光記錄媒體照射激光等并在照射的交差方向上以規(guī)定速度使之移動(dòng)，當(dāng)照射該光記錄媒體的記錄層時(shí)，記錄層的色素成分吸收該照射光的能量并被加熱。因此，激光等照射領(lǐng)域及其附近領(lǐng)域的記錄層等因分解、蒸發(fā)、溶解等而引起熱變形，形成凹坑(以上為記錄原理)。在CD-R或DVD-R的情況下，上述激光等的移動(dòng)以激光相對(duì)于這些光盤(pán)的線速度為規(guī)定速度的方式使光盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行。在再現(xiàn)信息時(shí)，當(dāng)向具有因熱的變形而形成的凹坑的記錄層照射光時(shí)，在凹坑的部分和除凹坑以外的部分上，光的反射率產(chǎn)生差異。光檢測(cè)器讀取該反射率的差，通過(guò)變換為電信號(hào)的強(qiáng)弱而再現(xiàn)信息(以上為再現(xiàn)原理)。因此，如果不能在期望的部分形成凹坑，即，如果不能得到良好的記錄特性，就難以精密度高且正確地再現(xiàn)信息。對(duì)記錄特性造成影響的因素之一可舉出記錄層所含有的色素材料的種類。目前，評(píng)價(jià)記錄層是否含有賦予良好記錄特性的色素材料的方法之一是檢查記錄層的構(gòu)成材料的一種或兩種以上的色素材料(以下稱為“色素成分”)的熱重量分析(TG)和/或差示熱分析(DTA)(參照日本專利文獻(xiàn)1～6)。而且還提出了記錄層含有滿足在這樣的TG和/或DTA中規(guī)定的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)的色素材料的光記錄媒體。例如，日本專利文獻(xiàn)2的目的是提供一種適合于波長(zhǎng)為600～700nm的短波長(zhǎng)記錄的光記錄媒體，并公開(kāi)了一種光記錄媒體，其特征是，記錄層因波長(zhǎng)600～700nm的激光而產(chǎn)生光學(xué)變化，在有機(jī)色素的熱重量分析中，在主減量過(guò)程(減量為18％以上的過(guò)程)中減量對(duì)溫度的斜率為2％/℃以上，在有機(jī)色素的熱重量分析中，在主減量過(guò)程中的總減量為25％以上。再者，日本專利文獻(xiàn)4的目的是提供一種可以高密度記錄的光記錄媒體，并公開(kāi)了一種記錄層由主成分色素A和化合物B的混合物構(gòu)成的光記錄媒體，在熱重量分析中，該主成分色素A滿足如下條件，即，在主減量過(guò)程(減量為15％以上的過(guò)程)中減量對(duì)溫度上升的斜率為0.5％/℃～3％/℃，且在主減量過(guò)程中的減量為總重量的40％～55％，或者，在主減量過(guò)程中的減量的斜率為3％/℃～20％/℃且在主減量過(guò)程中的減量為總重量的30％以上而小于50％；該化合物B滿足如下條件，即，在主減量過(guò)程中的減量的斜率為10％/℃以上且在主減量過(guò)程中的減量為總重量的55％以上，或者，在主減量過(guò)程的減量的斜率小于10％/℃且在主減量過(guò)程中的減量為總重量的75％以上。而且，日本專利文獻(xiàn)5的目的是得到一種適用于短波長(zhǎng)記錄的高反射率的高容量光記錄媒體，并公開(kāi)了一種光記錄媒體，該光記錄媒體均滿足如下的條件，即，記錄層含有有機(jī)色素，在由有機(jī)色素構(gòu)成的記錄層上具有金屬反射層，該有機(jī)色素在熱分析中，在比主減量開(kāi)始溫度低的溫度下實(shí)質(zhì)上沒(méi)有減量而且在主減量過(guò)程中的減量的斜率為2％/℃以上，其總減量％為30％以上；該有機(jī)色素在差示熱分析中的發(fā)熱峰大小為-10μV/mg以上、10μV/mg以下且峰寬度為20℃以下，或者，在差示熱分析中的發(fā)熱峰大小為10μV/mg以上、30μV/mg以下；該金屬反射層，在室溫附近的比電阻值的倒數(shù)為0.20/μΩcm以上、0.30/μΩcm以下，再現(xiàn)光±5nm的折射率為0.1以上、0.2以下，衰減系數(shù)為3以上5以下。特開(kāi)平8-297838號(hào)公報(bào)[專利文獻(xiàn)2]特開(kāi)平9-58123號(hào)公報(bào)[專利文獻(xiàn)3]特開(kāi)平9-274732號(hào)公報(bào)[專利文獻(xiàn)4]特開(kāi)平10-6644號(hào)公報(bào)[專利文獻(xiàn)5]特開(kāi)平10-188341號(hào)公報(bào)[專利文獻(xiàn)6]特開(kāi)平11-70732號(hào)公報(bào)近年來(lái)，為了在光記錄媒體上記錄更大量的信息，要求記錄層的凹坑高密度化，而且，為了縮短記錄時(shí)間，要求記錄信息時(shí)的線速度(記錄速度)高速化。但是，本發(fā)明人等詳細(xì)研究以上述日本專利文獻(xiàn)1～6所述的光記錄媒體為代表的現(xiàn)有光記錄媒體后，結(jié)果發(fā)現(xiàn)即使在光記錄媒體中使用滿足這樣的現(xiàn)有的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)的色素成分，在進(jìn)行高速記錄時(shí)，也難以確保充分的記錄特性。即，發(fā)現(xiàn)在記錄層的構(gòu)成材料中使用滿足日本專利文獻(xiàn)1～6所述的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)的色素成分且以更高速記錄時(shí)，難以得到所期望的凹坑長(zhǎng)，其結(jié)果是有顫動(dòng)增加、差錯(cuò)率上升的傾向。而且判明這樣的傾向特別是在想得到凹坑間的間隔比較短的記錄圖案的情況下顯著，在這樣的記錄圖案連續(xù)的情況下，即，在進(jìn)行高密度記錄的情況下，特別明顯。
發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明就是鑒于上述問(wèn)題點(diǎn)而完成的，其目的是提供一種在高速記錄時(shí)顯示出充分優(yōu)異的記錄特性的光記錄媒體及這樣的光記錄媒體中所使用的光記錄材料。本發(fā)明人等為了達(dá)到上述目的而專心研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)記錄層中所使用的色素成分的熱履歷若是與作為現(xiàn)有賦予媒體優(yōu)異的記錄特性的色素成分所顯示的熱履歷而已知的熱履歷所不同的特定熱履歷，則使用該色素成分的光記錄媒體顯示出充分優(yōu)異的記錄特性，從而完成了本發(fā)明。即，本發(fā)明的光記錄材料是利用光的照射可以記錄信息的光記錄媒體中所使用的光記錄材料，其特征在于，上述光記錄媒體是以14m/秒以上的線速度記錄信息的光記錄媒體，光記錄材料中所含有的色素成分含有1種以上的偶氮化合物與金屬的螯合化合物，色素成分是，在將該色素成分作為試樣、在不活性氣體環(huán)境下進(jìn)行熱重量分析時(shí)，在180～250℃時(shí)的上述試樣的質(zhì)量減少率的極大值為0.2～3.0％/℃。再者，本發(fā)明的光記錄媒體，是利用光的照射以14m/秒以上的線速度可以記錄信息的光記錄媒體，其特征在于，該光記錄媒體所具有的記錄層將含有1種以上的偶氮化合物和金屬的螯合化合物的色素成分作為構(gòu)成材料，色素成分是，在將該色素成分作為試樣、在不活性氣體環(huán)境下進(jìn)行熱重量分析時(shí)，在180～250℃時(shí)的上述試樣的質(zhì)量減少率的極大值為0.2～3.0％/℃。在本發(fā)明中，所謂“質(zhì)量減少率”是指在通過(guò)在一定的升溫程序下所進(jìn)行的熱重量分析(thermogravimetry；TG)而得到的曲線(以下稱為“TG曲線”)中、某溫度時(shí)的平均質(zhì)量減少率的極限值。對(duì)此，參照?qǐng)D1詳細(xì)地說(shuō)明。這里，上下左右等位置關(guān)系如無(wú)特殊聲明，以圖1所示的位置關(guān)系為準(zhǔn)。圖1是表示TG曲線及質(zhì)量減少率的溫度依存性的圖。橫軸表示試樣的周圍溫度。縱軸的左側(cè)表示將分析開(kāi)始時(shí)作為100％時(shí)的試樣質(zhì)量(％)，右側(cè)表示質(zhì)量減少率(％/℃)。在本發(fā)明的TG中，因?yàn)槭乖嚇又車臏囟壬仙耐瑫r(shí)，測(cè)定試樣的質(zhì)量變化，所以在圖1所示的圖中，隨著時(shí)間的推移，從左側(cè)向右側(cè)移動(dòng)。將該TG曲線表示為函數(shù)y＝f(x)。這里，y為質(zhì)量(％)，x為試樣周圍的溫度(℃)。首先，在TG中，通常認(rèn)為當(dāng)使作為試樣的色素成分的周圍溫度上升時(shí)，因色素成分的分解等，試樣的質(zhì)量變化(質(zhì)量減少)。例如，當(dāng)使試樣周圍的溫度從某溫度a℃只上升微少量h℃而為(a+h)℃時(shí)，這時(shí)的質(zhì)量變化為(f(a+h)-f(a))％，其質(zhì)量變化為正的情況下，質(zhì)量減少為-(f(a+h)-f(a))％；質(zhì)量變化為負(fù)的情況下，質(zhì)量減少為(f(a+h)-f(a))％。因此，質(zhì)量變化為正的情況下，a℃時(shí)的平均質(zhì)量減少率為-(f(a+h)-f(a))/h(單位％/℃)；質(zhì)量變化為負(fù)的情況下，a℃時(shí)的平均質(zhì)量減少率為(f(a+h)-f(a))/h(單位％/℃)。而且，這時(shí)的微少量h接近0時(shí)的平均質(zhì)量減少率的極限值為本發(fā)明的質(zhì)量減少率(單位％/℃)，當(dāng)質(zhì)量變化為正的情況下，可表示為數(shù)學(xué)函數(shù)-f’(a)；當(dāng)質(zhì)量變化為負(fù)的情況下，可表示為數(shù)學(xué)函數(shù)f’(a)。在圖1的情況下，因?yàn)橘|(zhì)量變化為負(fù)，所以質(zhì)量減少率為f’(a)。某溫度a℃的該質(zhì)量減少率，通常在TG曲線的a℃的切線的斜率顯示為負(fù)值。如以上說(shuō)明的那樣，質(zhì)量減少率可由TG曲線算出。本發(fā)明的光記錄材料可以形成顯示出優(yōu)異的記錄特性的光記錄媒體的主要原因現(xiàn)在并不清楚，但本發(fā)明人等認(rèn)為其主要原因之一如下。但是，主要原因并不限定于此。目前，作為用于得到記錄特性優(yōu)異的光記錄媒體的記錄層的色素成分而言，如日本專利文獻(xiàn)1～6所公開(kāi)的那樣，在TG中，一般說(shuō)來(lái)，隨著溫度的上升質(zhì)量急劇減少的色素成分是良好的。顯示出這樣熱履歷的色素成分，因?yàn)榘l(fā)生其質(zhì)量減少的溫度比較高，所以需要照射具有高能量的激光以形成凹坑。例如在記錄速度為2倍速即線速度為7m/秒以下的低速度的情況下，即使照射這樣高能量的激光，也難以產(chǎn)生有關(guān)記錄特性的課題。但是，本發(fā)明人等認(rèn)為當(dāng)向記錄凹坑間的間隔短的記錄圖案的部分照射高能量的激光時(shí)，記錄速度越高，因激光照射而產(chǎn)生的熱越容易傳導(dǎo)到鄰接的凹坑，凹坑間的熱干涉有頻繁發(fā)生的傾向。于是，推測(cè)當(dāng)以4倍速以上即線速度為14m/秒以上的高速記錄信息時(shí)，這樣的凹坑間的熱干涉引起顫動(dòng)增加、差錯(cuò)率上升。另一方面，本發(fā)明的光記錄材料的色素成分，在TG中，伴隨著溫度上升的質(zhì)量減少，在比較低的溫度下即規(guī)定的溫度范圍內(nèi)小。因?yàn)檫@樣的色素成分不需要那么提高形成急劇的凹坑所用激光的能量，所以認(rèn)為，即使在高速記錄時(shí)也難以產(chǎn)生上述那樣的凹坑間的熱干涉。起因于此，當(dāng)本發(fā)明的光記錄材料具有含有顯示出這樣熱履歷的色素成分的記錄層時(shí)，無(wú)論記錄速度的高低，都可以提供具有充分優(yōu)異記錄特性的光記錄媒體。本發(fā)明的光記錄材料，在上述TG中、在180～250℃時(shí)的上述質(zhì)量減少率優(yōu)選為0.2～3.0％/℃的范圍內(nèi)。使用這樣光記錄材料的光記錄媒體的記錄特性更進(jìn)一步優(yōu)異。當(dāng)上述偶氮化合物含有用下述通式(1)表示的偶氮化合物時(shí)，可以更進(jìn)一步提高本發(fā)明的光記錄材料的記錄特性或光穩(wěn)定性，所以是優(yōu)選的。這里，式(1)中，Q1表示分別與氮原子及結(jié)合于該氮原子的碳原子各自結(jié)合而形成雜環(huán)或含有該雜環(huán)的縮合環(huán)的二價(jià)殘基，Q2表示分別與相互結(jié)合的2個(gè)碳原子各自結(jié)合而形成縮合環(huán)的二價(jià)殘基，X1表示具有一個(gè)以上的活性氫原子的官能基。再者，上述色素成分更優(yōu)選含有菁色素，當(dāng)該菁色素具有用下述通式(2)或(3)表示的基時(shí)，則更優(yōu)選。此處，在式(2)、(3)中，Q3表示可以具有取代基的苯環(huán)或可以具有取代基的萘環(huán)，R1及R2分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為1～4的烷基、環(huán)烷基、苯基或可以具有取代基的芐基、或相互連接而形成3～6元環(huán)的基，R3表示碳原子數(shù)為1～4的烷基、環(huán)烷基、烷氧基、苯基或可以具有取代基的芐基，上述R1、R2及R3所示的基也可以具有取代基。本發(fā)明的光記錄媒體更優(yōu)選為將以上說(shuō)明的光記錄材料作為記錄層的構(gòu)成成分。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，可以提供在高速記錄時(shí)顯示出充分優(yōu)異的記錄特性的光記錄媒體及這樣的光記錄媒體中所使用的光記錄材料。圖1是用于說(shuō)明本發(fā)明的質(zhì)量減少率的示意圖。圖2是示意性地表示本發(fā)明的色素成分的TG曲線的圖。圖3是示意性地表示不涉及本發(fā)明的色素成分的TG曲線的圖。圖4是表示本發(fā)明的光記錄媒體的一實(shí)施方式的局部剖面圖。圖5是表示本發(fā)明的光記錄媒體的一優(yōu)選實(shí)施方式的局部剖面圖。符號(hào)說(shuō)明1、10光記錄盤(pán)(光記錄媒體)；2、12、22基板；3、13、23記錄層；4、14、24反射層；5、15、25保護(hù)層；23、123、223槽；50粘接劑層。具體實(shí)施例方式以下，根據(jù)需要，參照附圖，同時(shí)詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方式。另外，在附圖中，對(duì)同一要素標(biāo)記同一符號(hào)，省略重復(fù)說(shuō)明。再者，上下左右的位置關(guān)系沒(méi)有特別聲明，以附圖所示的位置關(guān)系為準(zhǔn)。而且，附圖的尺寸比率并不限于圖示的比率。首先，說(shuō)明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的光記錄材料。本實(shí)施方式的光記錄材料具有含有1種以上的偶氮化合物的色素成分，將該色素成分作為試樣并在不活性氣體環(huán)境下進(jìn)行熱重量分析時(shí)，該色素成分在180～250℃的質(zhì)量減少率的極大值為0.2～3.0％/℃。對(duì)于在記錄層含有這類色素成分，雖然將利用公知的方法合成或調(diào)制色素成分而得到的色素材料或已知存在(市售)的色素材料單獨(dú)作為色素成分，但是需要將含有多種色素材料的色素成分利用熱重量分析(以下根據(jù)需要稱為“TG”)法反復(fù)進(jìn)行分析-測(cè)定處理而得到滿足上述質(zhì)量減少率條件的色素成分。這類色素成分具有上述質(zhì)量減少率，只要是含有1種以上的偶氮化合物與金屬的螯合化合物的色素成分，除此之外的色素材料的種類或各色素材料的含有比率等沒(méi)有特別限定，既可以單獨(dú)使用上述螯合化合物，也可以組合使用兩種以上不同的上述螯合化合物，也可以將不同于上述螯合化合物的色素材料添加到該螯合化合物中使用之。上述偶氮化合物只要是含有用-N＝N-表示的官能基的化合物就沒(méi)有特別限定，例如可舉出芳香族環(huán)結(jié)合在上述兩個(gè)氮原子上的偶氮化合物，更具體地可例示用上述通式(1)表示的偶氮化合物。式(1)中，Q1表示分別與氮原子及結(jié)合于該氮原子的碳原子各自結(jié)合而形成雜環(huán)或含有該雜環(huán)的縮合環(huán)的二價(jià)殘基，Q2表示分別與相互結(jié)合的2個(gè)碳原子結(jié)合而形成縮合環(huán)的二價(jià)殘基。X1表示具有1個(gè)以上的活性氫原子的官能基，例如可舉出羥基(-OH)、硫醇基(-SH)、氨基(-NH2)、羧基(-COOH)、酰胺基(-CONH2)、磺胺基(-SO2NH2)、磺基(-SO3H)、-NSO2CF3等。就這類偶氮化合物而言，例如可舉出用下述通式(4)～(7)表示的化合物。這里，式(4)中，R7及R8既可以相同也可以不同，分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為1～4的烷基；R9及R10既可以相同也可以不同，分別獨(dú)立地表示腈基或羧酸酯基，X1與上述同義。另外，就上述羧酸酯基而言，優(yōu)選為-COOCH3、-COOC2H5或-COOC3H7。這里，式(5)中，R11表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷氧基；R12、R7及R8既可以相互相同也可以相互不同，分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為1～4的烷基，X1與上述同義。這里，式(6)中的R11、R12、R7、R8及X1分別與式(5)中的R11、R12、R7、R8及X1同義。這里，式(7)中的R11、R12、R7、R8及X1分別與式(5)中的R11、R12、R7、R8及X1同義。再者，就構(gòu)成上述螯合化合物的金屬(中心金屬)而言，可舉出鈦(Ti)、釩(V)、鉻(Cr)、錳(Mn)、鐵(Fe)、鈷(Co)、鎳(Ni)、銅(Cu)、鋯(Zr)、鈮(Nb)、鉬(Mo)、釕(Ru)、銠(Rh)、鈀(Pd)、銀(Ag)、鎘(Cd)、銦(In)、錫(Sn)、銻(Sb)、鎢(W)、錸(Re)、鋨(Os)、銥(Ir)、鉑(Pt)、金(Au)等?；騐、Mo、W它們的氧化物離子，也可以為VO2+、VO3+、MoO2+、MoO3+、WO3+等。就上述螯合化合物而言，例如可舉出用下述通式(8)、(9)、(10)表示的化合物、下述表1～6所示的化合物(No.A1～A49)等。這些螯合化合物可單獨(dú)使用或組合使用。另外，關(guān)于No.A1～A49所示的螯合化合物對(duì)1個(gè)中心金屬的元素配位2個(gè)偶氮化合物。另外，分別出現(xiàn)兩種偶氮化合物及中心金屬的螯合化合物表示以1∶1的摩爾比含有它們，用[V＝O]表示中心金屬，使偶氮化合物配位于乙酰丙酮釩。在通式(8)、(9)、(10)中，M表示Ni2+、Co2+或Cu2+，m表示M的價(jià)數(shù)。表1表2表3表4表5表6其中優(yōu)選為用A13～A31表示的螯合化合物?；蚩梢允蔷哂袕挠没衔顰49表示的分子中除去硝基及二乙基氨基的構(gòu)造的化合物。另外，根據(jù)X1的種類，該X1所具有的活性氫在解離的狀態(tài)下也可以形成螯合化合物。上述色素成分中可以含有上述螯合化合物作為陰離子存在時(shí)的平衡陽(yáng)離子(對(duì)陽(yáng)離子)或上述螯合化合物作為陽(yáng)離子存在時(shí)的平衡陰離子(對(duì)陰離子)。就平衡陽(yáng)離子而言，優(yōu)選使用Na+、Li+、K+等堿金屬離子、銨離子等。再者，可以將后述的菁色素作為平衡陽(yáng)離子成鹽。就平衡陰離子而言，優(yōu)選使用PF6-、I-、BF4-、用下述式(11)表示的陰離子。這樣的螯合化合物可依據(jù)公知的方法合成(例如參照“古川、Anal.Chem.Acta.，140，289(1982)”)。就色素成分所含有的色素材料中除上述螯合化合物以外的色素材料而言，既可以是公知的色素材料也可以是利用公知的方法或依據(jù)公知的方法可以合成的色素材料，沒(méi)有特別限定，可舉出菁色素、Squarylium色素、Croconium色素、Azulenium色素、氧雜蒽色素、份菁色素、三芳基胺色素、蒽醌醇色素、靛苯胺金屬配位化合物色素、偶氮甲堿色素、Oxonol色素和分子間型CT色素等。其中優(yōu)選為菁色素，更進(jìn)一步優(yōu)選為具有用上述通式(2)或(3)表示的基的菁色素。另外，在式(2)、(3)中，Q3表示構(gòu)成可以具有取代基的苯環(huán)或可以具有取代基的萘環(huán)的原子群，R1及R2分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為1～4的烷基、環(huán)烷基、苯基或具有取代基的芐基、或相互連接并形成3～6元環(huán)的基，R3表示碳原子數(shù)為1～4的烷基、環(huán)烷基、烷氧基、苯基或可以具有取代基的芐基，上述R1、R2及R3所示的基也可以具有取代基。就這樣的菁色素而言，可舉出用下述通式(12)表示的菁色素等。這里，式中，L表示用下述通式(13a)表示的二價(jià)連接基，R21及R22分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為1～4的烷基或可以具有取代基的芐基、或相互連接而形成3～6元環(huán)的基，R23及R24分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為1～4的烷基或具有取代基的芐基、或相互連接而形成3～6元環(huán)的基，R25及R26分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為1～4的烷基或芳基，Q11及Q12分別獨(dú)立地表示構(gòu)成可以具有取代基的苯環(huán)或可以具有取代基的萘環(huán)的原子群。但是，R21、R22、R23及R24中至少一個(gè)表示不是甲基的基，用下述通式(13a)表示的二價(jià)連接基也可以具有取代基。更具體地說(shuō)，例如可舉出用下述表7～12表示的化合物(No.T1～T67)等。表7表8表9表10表11表12當(dāng)測(cè)定上述色素成分的質(zhì)量減少率時(shí)，熱重量分析所使用的裝置沒(méi)有特別限定，可以采用目前公知的裝置。試樣(色素成分)量，只要是在裝置的允許范圍內(nèi)可以測(cè)定試樣的質(zhì)量減少的程度就沒(méi)有特別限定。再者，就在環(huán)境中的不活性氣體而言，例如可使用氮?dú)饣駻r、He、Ne等稀有氣體。不活性氣體的流量，只要是從試樣周圍可快速清除因試樣分解等而產(chǎn)生的氣體的程度就沒(méi)有特別限定。為了得到本實(shí)施方式的色素成分，TG通過(guò)使試樣周圍的溫度慢慢上升進(jìn)行，就其升溫程度而言，優(yōu)選為單位時(shí)間以一定比率升溫。這時(shí)的升溫速度(℃/分)沒(méi)有特別限定，從測(cè)定穩(wěn)定性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為5～20℃/分左右。圖2(a)至圖2(c)示意性地列示了表示上述TG的結(jié)果、由得到的TG曲線可算出的質(zhì)量減少率中本發(fā)明所涉及的曲線，即在180～250℃的質(zhì)量減少率的極大值為0.2～3.0％/℃的質(zhì)量減少率的溫度依存性的曲線，圖3(a)至圖3(c)示意性地列示了不涉及本發(fā)明的曲線。當(dāng)在180～250℃的質(zhì)量減少率的極大值小于0.2％/℃時(shí)，因?yàn)樾纬砂伎铀枰募す饽芰坑凶兏叩膬A向，所以有不穩(wěn)定性增加、差錯(cuò)率頻繁上升的傾向。當(dāng)在180～250℃的質(zhì)量減少率的極大值大于等于3.0％/℃時(shí)，因?yàn)榘殡S著質(zhì)量減少(分解等)的發(fā)熱量增加，所以有容易產(chǎn)生凹坑間的熱干涉的傾向。其中，如圖2(b)所示，從可以形成更進(jìn)一步顯示出良好記錄特性的光記錄媒體的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為具有在180～250℃的質(zhì)量減少率保持在0.2～3.0％/℃的熱履歷的色素成分。再者，本實(shí)施方式的光記錄材料所含有的色素成分更優(yōu)選為在TG曲線中、在小于180℃的區(qū)域內(nèi)沒(méi)有質(zhì)量減少率的極大值的色素成分。在小于180℃的區(qū)域內(nèi)具有質(zhì)量減少率的極大值的色素成分有可能引起再現(xiàn)惡化。接著，說(shuō)明本實(shí)施方式的光記錄媒體。圖5是表示本發(fā)明的光記錄媒體的光記錄光盤(pán)所優(yōu)選的一實(shí)施方式的部分剖面圖。圖5所示的光記錄光盤(pán)1具有在基板2上依次緊密貼合記錄層3、反射層4、保護(hù)層5、基板6而設(shè)計(jì)的層疊構(gòu)造。光記錄光盤(pán)1是追記型光記錄光盤(pán)，利用630～685nm的短波長(zhǎng)的光可以記錄、再現(xiàn)?；?及基板6是直徑為64～200mm左右、厚度各為0.6mm左右的光盤(pán)狀的基板。從基板2的背面?zhèn)?基板6的一側(cè))可以進(jìn)行記錄及再現(xiàn)。因此，實(shí)質(zhì)上至少基板2優(yōu)選為對(duì)記錄光及再現(xiàn)光是透明的，更具體地，對(duì)基板2的記錄光及再現(xiàn)光的透過(guò)率優(yōu)選為88％以上。就這樣的基板2的材料而言，優(yōu)選為透過(guò)率滿足上述條件的樹(shù)脂或玻璃，其中，特別優(yōu)選為聚碳酸酯樹(shù)脂、丙烯酸酯樹(shù)脂、非晶態(tài)聚乙烯、TPX、聚苯乙烯系樹(shù)脂等熱可塑性樹(shù)脂。另一方面，基板6的材料沒(méi)有特別限制，例如可使用與基板2相同的材料。再者，在基板2的記錄層3的形成面上形成跟蹤用的槽23作為凹部。槽23優(yōu)選為螺旋狀的連續(xù)型槽，優(yōu)選為其深度為0.1～0.25μm、寬為0.20～0.50μm、槽節(jié)距為0.6～1.0μm。通過(guò)使槽為這樣的構(gòu)成，不僅不會(huì)降低槽的反射水平而且可得到良好的跟蹤信號(hào)。使用上述樹(shù)脂通過(guò)射出成形等在成形基板2的同時(shí)可形成槽23，在制造基板2后，利用2P法等形成具有槽23的樹(shù)脂層，可作為基板2和該樹(shù)脂層的復(fù)合基板。記錄層3是使用上述本實(shí)施方式的光記錄材料而形成的層。記錄層3通過(guò)將使上述本發(fā)明的光記錄材料溶解或分散到溶劑中的混合液涂敷在基板2上、從涂膜中除去溶劑等而可以形成。就混合液的溶劑而言，可舉出醇系溶劑(包括酮醇系、乙二醇單烷基醚等烷氧基醇系)、脂肪族烴系溶劑、酮系溶劑、酯系溶劑、醚系溶劑、芳香族系溶劑、鹵化烷基系溶劑等，其中優(yōu)選為醇系溶劑及脂肪族烴系溶劑。就醇系溶劑而言，優(yōu)選為烷氧基醇系、酮醇系等。烷氧基醇系溶劑優(yōu)選為烷氧基部分的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～4，且醇部分的碳原子數(shù)為1～5、更優(yōu)選為2～5，總碳原子數(shù)優(yōu)選為3～7。具體地可舉出乙二醇單甲基醚(甲基溶纖劑)或乙二醇單乙基醚(也稱為乙基溶纖劑、乙氧基乙醇)或丁基溶纖劑、2-異丙氧基-1-乙醇等乙二醇單烷基醚(溶纖劑)系或1-甲氧基-2-丙醇、1-甲氧基-2-丁醇、3-甲氧基-1-丁醇、4-甲氧基-1-丁醇、1-乙氧基-2-丙醇等。就酮醇系而言，可舉出二乙酰醇等。而且也可使用2，2，3，3-四氟丙醇等氟代醇。就脂肪族烴系溶劑而言，優(yōu)選為正己烷、環(huán)己烷、甲基環(huán)己烷、乙基環(huán)己烷、環(huán)辛烷、二甲基環(huán)己烷、正辛烷、異丙基環(huán)己烷、叔丁基環(huán)己烷等，其中優(yōu)選為乙基環(huán)己烷、二甲基環(huán)己烷等。再者，就酮系溶劑而言，可舉出環(huán)己酮。在本實(shí)施方式中，特別優(yōu)選為乙二醇單烷基醚系等烷氧基醇系，其中優(yōu)選為乙二醇單乙基醚、1-甲氧基-2-丙醇、1-甲氧基-2-丁醇等。溶劑可單獨(dú)使用一種，也可以使用兩種以上的混合溶劑。例如優(yōu)選使用乙二醇單乙基醚和1-甲氧基-2-丁醇的混合溶劑。再者，混合液除上述成分以外還可適當(dāng)含有粘合劑、分散劑、穩(wěn)定劑等。就混合液的涂敷方法而言，可舉出旋涂法、凹版涂敷法、噴鍍法、浸涂法等，其中優(yōu)選為旋涂法。這樣形成的記錄層3的厚度優(yōu)選為50～300nm。當(dāng)在該范圍以外時(shí)，反射率降低，難以進(jìn)行對(duì)應(yīng)于DVD規(guī)格的再現(xiàn)。再者，位于槽23上部的記錄層3的膜厚為100nm以上、特別是為130～300nm以上時(shí)，轉(zhuǎn)調(diào)度變得極大。相對(duì)于記錄層3的記錄光及再現(xiàn)光的衰減系數(shù)(復(fù)折射率的虛部k)優(yōu)選為0～0.20。當(dāng)衰減系數(shù)大于等于0.20時(shí)，有得不到充分的反射率的傾向。再者，記錄層3的折射率(復(fù)折射率的實(shí)部n)優(yōu)選為1.8以上。當(dāng)折射率小于1.8時(shí)，信號(hào)的轉(zhuǎn)調(diào)度有變小的傾向。另外，折射率的上限沒(méi)有特別限制，但從方便合成有機(jī)色素上出發(fā)，通常為2.6左右。根據(jù)以下的順序可以求出記錄層3的衰減系數(shù)及折射率。首先，在規(guī)定基板上設(shè)計(jì)記錄層40～100nm左右并制作測(cè)定用樣品，接著，通過(guò)測(cè)定通過(guò)該測(cè)定用樣品的基板的反射率或來(lái)自記錄層側(cè)的反射率來(lái)求得。這時(shí)，反射率使用記錄、再現(xiàn)光的波長(zhǎng)并用鏡面反射(5°左右)測(cè)定。而且，測(cè)定樣品的透過(guò)率。然后，由這些測(cè)定值例如根據(jù)共立全書(shū)《光學(xué)》、石黑浩三、第168～178頁(yè)所記載的方法可以算出衰減系數(shù)及折射率。在記錄層3上，反射層4緊密貼合記錄層3設(shè)計(jì)。使用高反射率的金屬或合金進(jìn)行蒸鍍、噴射等可以形成反射層4。就金屬或合金而言，例如可舉出金(Au)、銅(Cu)、鋁(Al)、銀(Ag)、AgCu等。這樣形成的反射層4的厚度優(yōu)選為10～300nm。在反射層4上，保護(hù)層5緊密貼合反射層4設(shè)計(jì)。保護(hù)層5既可以為層狀也可以為薄片狀，例如將含有紫外線固化樹(shù)脂等材料的涂敷液涂敷上反射層4上，根據(jù)需要，通過(guò)使涂膜干燥可以形成保護(hù)層5。在涂敷時(shí)，可適用旋涂法、凹版涂敷法、噴鍍法、浸涂法等。這樣形成的保護(hù)層5的厚度優(yōu)選為0.5～100μm。在保護(hù)層5上，基板6緊密貼合保護(hù)層5設(shè)計(jì)。基板6可以是與基板2相同的材質(zhì)和厚度，既可以形成槽也可以不形成槽。另外，為了更進(jìn)一步提高基板6及保護(hù)層5的粘接性，在保護(hù)層5上設(shè)計(jì)與后述的粘接劑層同樣的粘接劑層，而且還可以在其上面設(shè)計(jì)基板6。在具有上述構(gòu)成的光記錄光盤(pán)1上進(jìn)行記錄或追記時(shí)，從基板2的里面以照射為脈沖狀照射具有規(guī)定波長(zhǎng)的記錄光，使照射部的光反射率變化。這時(shí)，利用設(shè)計(jì)含有本發(fā)明的色素成分的記錄層3的光記錄光盤(pán)1，即使在進(jìn)行4倍速即14m/秒以上的線速度的高速記錄的情況下，也可以充分抑制在凹坑間的間隔比較狹的高密度記錄模式部分的不穩(wěn)定性，可充分防止差錯(cuò)率的上升。另外，在上述實(shí)施方式中，說(shuō)明了具備一層記錄層3作為記錄層的光記錄光盤(pán)，也可以設(shè)計(jì)多層記錄層且各層含有不同的色素。由此，通過(guò)波長(zhǎng)相同或不同的多種記錄、再現(xiàn)光可以進(jìn)行信息的記錄、再現(xiàn)。這樣得到的光記錄光盤(pán)1是，于將2枚光記錄盤(pán)1彼此、或者將1枚光記錄盤(pán)1與和光記錄盤(pán)1層結(jié)構(gòu)不同的另一枚光記錄盤(pán)，使光入射面向外側(cè)而貼合，從而可以使用。圖4是表示上述貼合狀態(tài)的光記錄光盤(pán)的優(yōu)選的實(shí)施方式的部分剖面圖。圖4所示的光記錄光盤(pán)10具有依次層疊基板12、記錄層13、反射層14、保護(hù)層15、粘接劑層50、保護(hù)層25、反射層24、記錄層23、基板22的構(gòu)造。即，光記錄光盤(pán)10具有使2張與圖5所示的光記錄光盤(pán)1同樣構(gòu)造的光記錄光盤(pán)以各自的保護(hù)層相互之間以對(duì)向夾住粘接劑層50的方式貼合的構(gòu)成。該光記錄光盤(pán)10是對(duì)應(yīng)于DVD規(guī)格的追記型數(shù)字影像帶，用波長(zhǎng)650nm的短波長(zhǎng)的光進(jìn)行記錄、再現(xiàn)。粘接劑層50使用熱熔融粘接劑、紫外線固化型粘接劑、加熱固化型粘接劑、粘接型粘接劑等，它們的涂敷方法例如可舉出輥涂法、篩網(wǎng)印刷法、旋涂法等。在DVD±R的情況下，從作業(yè)性、生產(chǎn)性、光盤(pán)特性等綜合判斷，使用紫外線固化粘接劑，使用篩網(wǎng)印刷法或旋涂法。粘接劑層50的厚度優(yōu)選為10～200μm左右?；?2及22、記錄層13及23、反射層14及24，保護(hù)層15及25用與圖5所法的光記錄光盤(pán)1同樣的材料、方法形成?；?2及22的各自的厚度優(yōu)選為0.6mm左右。在基板12的記錄層13形成面及基板22的記錄層24形成面上分別形成槽123及223。該槽123及223優(yōu)選為其深度為60～200nm、寬為0.2～0.5μm、槽節(jié)距為0.6～1.0μm。再者，記錄層13及23的厚度分別優(yōu)選為50～300nm，相對(duì)于該650nm的光的復(fù)折射率優(yōu)選為n＝1.8～2.6、k＝0.02～0.20。實(shí)施例以下，通過(guò)實(shí)施例更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明并不限定于這些實(shí)施例。(色素成分的熱重量分析)通過(guò)常法合成用以下的S1～S9表示的色素材料。將得到的色素材料或混合這些色素材料中的兩種而調(diào)制的色素成分作為試樣并進(jìn)行熱重量分析。試樣使用表13所示的試樣No.1～9。另外，在表13的括號(hào)內(nèi)分別以摩爾標(biāo)準(zhǔn)表示各色素材料的混合比率?；瘜W(xué)式14化學(xué)式15化學(xué)式16表13<tablesid="table1"num="001"><tablewidth="518">試樣No.1S1(100)2S2(50)+S6(50)3S3(50)+S6(50)4S4(50)+S8(50)5S5(40)+S9(60)6S4(100)7S3(100)8S3(100)+S6(100)9S9(100)</table></tables>熱重量分析(及差示熱分析)裝置使用SEIKO電子社制、使用TG/DTA22，采取2mg試樣并裝在試樣固定器內(nèi)，將參照試樣裝在參照固定器內(nèi)，以流量300mL/分使He氣體作為試樣周圍的環(huán)境氣體開(kāi)始流通到裝置內(nèi)后，在升溫速度10℃/分的升溫程序下，從室溫開(kāi)始升溫，測(cè)定這時(shí)試樣的質(zhì)量變化。從得到的TG曲線算出的在180～250℃的質(zhì)量減少率(％/℃)的極大值如表14所示。表14根據(jù)該TG的結(jié)果及所使用的色素材料的種類，將試樣No.1～5分別作為實(shí)施例1～5的色素成分，將試樣No.6～9分別作為比較例1～4的色素成分。(實(shí)施例1)首先，準(zhǔn)備一側(cè)具有預(yù)槽(深度0.12μm、寬為0.30μm、槽節(jié)距為0.74μm。)的直徑120mm、厚度0.6mm的聚碳酸酯樹(shù)脂基板。另一方面，將由與試樣No.1同樣的構(gòu)成材料構(gòu)成的色素成分添加到2，2，3，3-四氟丙醇中，使其含量為1.0質(zhì)量％，調(diào)制了記錄層用涂敷液。在形成上述聚碳酸酯樹(shù)脂基板的預(yù)槽的面上涂敷得到的涂敷液，在80℃下干燥1小時(shí)，形成記錄層(厚度為150nm)。接著，利用濺射法在該記錄層上形成Ag反射層(厚度為100nm)，而且利用旋涂法在Ag反射層上涂敷紫外線固化樹(shù)脂SD-1700(大日本油墨化學(xué)工業(yè)社制、商品名)后，照射紫外線，形成由丙烯酸樹(shù)脂形成的透明保護(hù)層(厚度8μm)。而且還在保護(hù)層上涂敷紫外線固化樹(shù)脂SD-301(大日本油墨化學(xué)工業(yè)社制、商品名)。接著，從其上面重疊與上述同樣厚度為0.6mm的透明基板，高速轉(zhuǎn)動(dòng)除去多余的紫外線固化樹(shù)脂。然后，隔著重疊的透明基板照射紫外線，使上述紫外線固化樹(shù)脂固化并作為粘接層，通過(guò)該粘接層使保護(hù)層和透明基板貼合在一起，制作成實(shí)施例1的光記錄媒體(光記錄盤(pán))。(實(shí)施例2～5、比較例1～4)作為色素成分，除了代替由與試樣No.1同樣的構(gòu)成材料構(gòu)成的色素成分而使用分別由與試樣No.2～9同樣的構(gòu)成材料構(gòu)成的色素成分以外，其它與實(shí)施例1同樣，得到實(shí)施例2～5及比較例1～4的光記錄媒體(光記錄盤(pán))。(記錄、再現(xiàn)特性的評(píng)價(jià))相對(duì)于實(shí)施例1～5及比較例1～4的光記錄媒體，使用パルステツク工業(yè)社制光盤(pán)評(píng)價(jià)裝置(商品名DDU-1000)，照射波長(zhǎng)650nm的激光，以線速度28m/秒記錄信號(hào)。另外，上述裝置所具備的光頭的透鏡孔直徑NA為0.60。再者，記錄是在得到眼孔的中心位于14T波形的中心的眼孔圖樣那樣的記錄功率下進(jìn)行的(參照表15)。記錄后，測(cè)定PI(Inner-code-Parity)差錯(cuò)(每1ECC塊的差錯(cuò)數(shù))。再者，在10萬(wàn)勒克司的耐光試驗(yàn)器內(nèi)設(shè)置各光記錄媒體，在60℃下進(jìn)行40小時(shí)的光照射試驗(yàn)(積算照度4Mlux·小時(shí))，測(cè)定光照射試驗(yàn)后的PI差錯(cuò)。結(jié)果如表15所示。另外，PI差錯(cuò)若在280以下，可滿足DVD制品標(biāo)準(zhǔn)。此外，表中所謂“不可記錄”意味著即使裝置的記錄功率在上限也不能記錄。所謂“不能測(cè)定”意味著PI差錯(cuò)的數(shù)值太大超過(guò)了裝置的測(cè)定界限。表15根據(jù)記錄、再現(xiàn)特性的評(píng)價(jià)結(jié)果，得知以下事實(shí)使用了180～250℃的質(zhì)量減少率(％/℃)的極大值在0.2～3.0％/℃的范圍的色素成分的光記錄媒體，即使是在高速記錄也可充分抑制PI差錯(cuò)，得到非常良好的記錄特性。通過(guò)比較實(shí)施例5和比較例4可知，含有偶氮化合物和金屬的鰲合物的色素成分，可以進(jìn)一步抑制光照射試驗(yàn)后記錄特性的劣化。權(quán)利要求1.一種光記錄材料，它是利用光的照射可以記錄信息的光記錄媒體中所使用的光記錄材料，其特征在于所述光記錄媒體是以14m/秒以上的線速度記錄信息的光記錄媒體，所述光記錄材料中所含的色素成分含有1種以上的偶氮化合物與金屬的螯合化合物，所述色素成分在將該色素成分作為試樣在不活性氣體環(huán)境下進(jìn)行熱重量分析時(shí)，在180～250℃時(shí)的所述試樣的質(zhì)量減少率的極大值為0.2～3.0％/℃。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄材料，其特征在于在所述熱重量分析中，在180～250℃時(shí)的所述質(zhì)量減少率在0.2～3.0％/℃的范圍內(nèi)。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光記錄材料，其特征在于所述偶氮化合物含有用下述通式(1)表示的偶氮化合物，式中，Q1表示分別與氮原子及結(jié)合于該氮原子的碳原子各自結(jié)合而形成雜環(huán)或含有該雜環(huán)的縮合環(huán)的二價(jià)殘基，Q2表示分別與相互結(jié)合的2個(gè)碳原子各自結(jié)合而形成縮合環(huán)的二價(jià)殘基，X1表示具有1個(gè)以上的活性氫原子的官能基。4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的光記錄材料，其特征在于所述色素成分含有菁色素。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光記錄材料，其特征在于所述菁色素具有用下述通式(2)或(3)表示的基。式中，Q3表示構(gòu)成可以具有取代基的苯環(huán)或可以具有取代基的萘環(huán)的原子群，R1及R2分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為1～4的烷基、環(huán)烷基、苯基或具有取代基的芐基、或相互連接而形成3～6元環(huán)的基，R3表示碳原子數(shù)為1～4的烷基、環(huán)烷基、烷氧基、苯基或可以具有取代基的芐基，所述R1、R2及R3所示的基也可以具有取代基。6.一種光記錄媒體，它是利用光的照射可以以14m/秒以上的線速度記錄信息的光記錄媒體，其特征在于該光記錄媒體中所具備的記錄層，將含有1種以上的偶氮化合物與金屬的螯合化合物的色素成分作為構(gòu)成材料，所述色素成分，在將該色素成分作為試樣在不活性氣體環(huán)境下進(jìn)行熱重量分析時(shí)，在180～250℃時(shí)的所述試樣的質(zhì)量減少率的極大值為0.2～3.0％/℃。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光記錄媒體，其特征在于在所述熱重量分析中，在180～250℃時(shí)的所述質(zhì)量減少率在0.2～3.0％/℃的范圍內(nèi)。8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的光記錄媒體，其特征在于所述偶氮化合物是含有用下述通式(1)表示的偶氮化合物，式中，Q1表示分別與氮原子及結(jié)合于該氮原子的碳原子各自結(jié)合而形成雜環(huán)或含有該雜環(huán)的縮合環(huán)的二價(jià)殘基，Q2表示分別與相互結(jié)合的2個(gè)碳原子各自結(jié)合而形成縮合環(huán)的二價(jià)殘基，X1表示具有1個(gè)以上的活性氫原子的官能基。9.根據(jù)權(quán)利要求6～8中任一項(xiàng)所述的光記錄媒體，其特征在于所述色素成分含有菁色素。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光記錄媒體，其特征在于所述菁色素具有用下述通式(2)或(3)表示的基，式中，Q3表示構(gòu)成可以具有取代基的苯環(huán)或可以具有取代基的萘環(huán)的原子群，R1及R2分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為1～4的烷基、環(huán)烷基、苯基或可以具有取代基的芐基、或相互連接而形成3～6元環(huán)的基，R3表示碳原子數(shù)為1～4的烷基、環(huán)烷基、烷氧基、苯基或可以具有取代基的芐基，所述R1、R2及R3所示的基也可以具有取代基。全文摘要本發(fā)明提供一種高速記錄時(shí)顯示出充分優(yōu)異的記錄特性的光記錄媒體中所使用的光記錄材料。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的光記錄材料，是利用光的照射可以記錄信息的光記錄媒體中所使用的光記錄材料，其特征是，該光記錄媒體是以14m/秒以上的線速度記錄信息的光記錄媒體，光記錄材料中所含有的色素成分含有1種以上的偶氮化合物與金屬的螯合化合物，所述色素成分，在將該色素成分作為試樣在不活性氣體環(huán)境下進(jìn)行熱重量分析時(shí)，在180～250℃時(shí)的所述試樣的質(zhì)量減少率的極大值為0.2～3.0％/℃。文檔編號(hào)C09B45/04GK1855261SQ20051006616公開(kāi)日2006年11月1日申請(qǐng)日期2005年4月21日優(yōu)先權(quán)日2004年4月21日發(fā)明者門(mén)田敦志,新海正博,田辺順志申請(qǐng)人:Tdk株式會(huì)社