專利名稱：微粉體的散布方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種微粉體的散布方法和裝置，更具體地講，涉及一種相對(duì)于液晶顯示裝置用玻璃基板或TFT基板、只在與彩色濾光片的黑色矩陣相對(duì)應(yīng)處附著作為隔離子的微粉體(以下稱作隔離子)的隔離子的散布方法和裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示裝置(LCD)的顯示面的結(jié)構(gòu)大致如圖7所示。在圖7中，41和41’為偏振光片，42和43為玻璃基板，44和45為透明電極，46和47為取向膜，48為彩色濾光片，49為液晶，50為隔離子。
彩色濾光片48如圖8所示，為R、G、B這三種區(qū)域交替存在，各區(qū)域由黑色矩陣51分隔。上述各區(qū)域的尺寸作為一例為縱300μm、橫80μm左右，黑色矩陣51的寬度為20μm左右。
隔離子50為均勻地維持住取向膜46和47間的間隙的球形粒子，通常，其直徑為2μm～6μm左右，散布于取向處理的玻璃基板上。在此，取向處理意思為，在玻璃基板上設(shè)置透明電極、取向膜等，可以說(shuō)，在玻璃基板上實(shí)施必要的處理。
可是，上述的隔離子50通常也從噴嘴中同輸送氣體一同散布于基板的整個(gè)表面。為此，隔離子50如圖9所示，也散布于彩色濾光片48的R、G、B各區(qū)域的內(nèi)部。結(jié)果，存在著顯色的亮度減少并且顯色不勻的問(wèn)題。
對(duì)此，例如專利文獻(xiàn)1所示，提出了一種在取向膜上的沒(méi)有顯示象素的部分(具體為上述的黑色矩陣部分等)形成樹脂膜，在露出的取向膜上實(shí)施帶電處理后，將隔離子散布于取向膜和未硬化的樹脂膜面上，通過(guò)熱和光處理使樹脂膜硬化，以使設(shè)置于樹脂膜面上的隔離子固著(未固著的隔離子除去)的方法。
專利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)平11-14955號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題可是，在該方法中，不僅工序復(fù)雜，而且對(duì)于包含在其工序中的形成樹脂膜的工序、在該樹脂膜上實(shí)施曝光和顯影等處理(特別是顯影處理為濕式處理)的工序等的濕法加工工藝，會(huì)成為處理的管理和廢棄物的處理等要花費(fèi)較多的方法的問(wèn)題。
本發(fā)明鑒于上述事實(shí)而作，其目的在于提供了一種解決了前述以往的技術(shù)問(wèn)題，相對(duì)于液晶顯示裝置用玻璃基板、只在與彩色濾光片的黑色矩陣相對(duì)應(yīng)處附著隔離子的微粉體(隔離子)的散布方法和裝置。
解決技術(shù)問(wèn)題的方案為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的微粉體的散布方法的特征在于，進(jìn)行只將散布于被散布體表面的微粉體中必要部分殘存而除去其他部分的有選擇的微粉體固著處理(權(quán)利要求1)。
在此，其特征在于，所述微粉體固著處理為只對(duì)散布于所述被散布體表面的微粉體中的必要部分進(jìn)行放射線處理，以使被處理部的微粉體固著于所述被散布體表面的處理(權(quán)利要求2)。
本發(fā)明的另一種微粉體的散布方法為，使用具有微粉體的散布機(jī)構(gòu)和被散布體的支承部的微粉體散布裝置，其特征在于，由所述微粉體的散布機(jī)構(gòu)將微粉體散布于所述被散布體表面后，只對(duì)所述被散布體表面的規(guī)定區(qū)域?qū)嵤┓派渚€處理(微粉體固著處理)，以使被處理部的微粉體固著于所述被散布體表面(權(quán)利要求3)。
在此，在本發(fā)明的微粉體的散布方法中，最好將散布于沒(méi)有進(jìn)行所述放射線處理的區(qū)域上的微粉體從所述被散布體表面除去(權(quán)利要求4)。
另外，在本發(fā)明的微粉體的散布方法中，所述規(guī)定區(qū)域的選擇最好通過(guò)將該區(qū)域作為所述放射線的掃描區(qū)域而成(權(quán)利要求5)，或者，在所述被散布體表面上配置具有所述放射線的遮斷功能的遮蔽部件而成(權(quán)利要求6)。另外，所述微粉體固著處理最好為，將散布于所述被散布體表面的微粉體只在所述必要部分通過(guò)吸收的放射線進(jìn)行處理以將被處理部的微粉體固著在所述被散布體表面的處理(權(quán)利要求7)。
另外，本發(fā)明的又一種微粉體的散布方法為，使用具有微粉體的散布機(jī)構(gòu)和被散布體的支承部的微粉體散布裝置，其特征在于，由所述微粉體的散布機(jī)構(gòu)將微粉體散布于所述被散布體表面后，只對(duì)所述被散布體表面的規(guī)定區(qū)域通過(guò)吸收的放射線進(jìn)行處理，以使被處理部的微粉體固著于所述被散布體表面(權(quán)利要求8)。
在此，在本發(fā)明的微粉體的散布方法中，最好將散布于沒(méi)有進(jìn)行所述放射線處理的區(qū)域上的微粉體從所述被散布體表面除去(權(quán)利要求9)。
另外，在本發(fā)明的微粉體的散布方法中，所述規(guī)定區(qū)域的選擇，最好是通過(guò)由吸收所述放射線的材料構(gòu)成所述被散布體的該區(qū)域而成(權(quán)利要求10)。
在此，作為所述放射線，可使用與所使用的隔離子的特性有關(guān)的各種波長(zhǎng)區(qū)域的放射線。通常，最好使用紅外線(波長(zhǎng)760nm～2000nm左右)，但例如作為隔離子，在使用具有紫外線硬化性樹脂覆膜的隔離子等情況下，作為前述放射線也可使用紫外線(波長(zhǎng)60nm～360nm左右)。
此外，作為隔離子，在使用黑色隔離子(例如，具有黑色樹脂保護(hù)膜的隔離子等)情況下，作為前述放射線，也可使用可視光(波長(zhǎng)最好為500nm～700nm左右)。
必要時(shí)，在本發(fā)明的微粉體的散布方法中，能夠使用與被散布體或散布的隔離子的分光吸收特性相對(duì)應(yīng)的各種波長(zhǎng)區(qū)域的光(電磁波)。
另外，本發(fā)明具有可具體實(shí)施上述的各微粉體的散布方法的合適的微粉體的散布裝置。
即，本發(fā)明的微粉體的散布裝置的特征在于，具有微粉體固著處理機(jī)構(gòu)，進(jìn)行只將散布于被散布體表面的微粉體中必要部分殘存而除去其他部分的有選擇的微粉體固著處理(權(quán)利要求11)。
在此，其特征在于，所述微粉體固著處理機(jī)構(gòu)為，只對(duì)散布于所述被散布體表面的微粉體中的必要部分進(jìn)行放射線處理以使被處理部的微粉體固著于所述被散布體表面的處理的機(jī)構(gòu)(權(quán)利要求12)。
本發(fā)明的另一種微粉體的散布裝置的特征在于，具有微粉體的散布機(jī)構(gòu)和被散布體的支承部，以及只對(duì)通過(guò)所述微粉體的散布機(jī)構(gòu)進(jìn)行微粉體散布的所述被散布體表面的規(guī)定區(qū)域?qū)嵤┓派渚€處理的處理機(jī)構(gòu)(權(quán)利要求13)。
在此，在本發(fā)明的微粉體的散布裝置中，最好還具有將沒(méi)有進(jìn)行所述放射線處理的區(qū)域上存在的微粉體從所述被散布體表面除去的微粉體除去機(jī)構(gòu)(權(quán)利要求14)。
在本發(fā)明的微粉體的散布裝置中，所述規(guī)定區(qū)域的選擇，最好基于從將該區(qū)域作為所述放射線發(fā)生機(jī)構(gòu)的掃描區(qū)域的掃描區(qū)域指定機(jī)構(gòu)來(lái)的指定而成(權(quán)利要求15)，或者在所述被散布體表面上配置具有所述放射線的遮斷功能的遮蔽部件而成(權(quán)利要求16)。
在本發(fā)明的微粉體的散布裝置中，其特征在于，所述微粉體固著處理機(jī)構(gòu)為，將散布于所述被散布體表面的微粉體只在所述必要部分通過(guò)吸收的放射線進(jìn)行處理以將被處理部的微粉體固著在所述被散布體表面的處理的機(jī)構(gòu)(權(quán)利要求17)。
本發(fā)明的又一種微粉體的散布裝置的特征在于，具有微粉體的散布機(jī)構(gòu)和被散布體的支承部，以及將由所述微粉體的散布機(jī)構(gòu)進(jìn)行微粉體散布的所述被散布體表面，只對(duì)所述被散布體表面的規(guī)定區(qū)域通過(guò)吸收的放射線進(jìn)行處理的機(jī)構(gòu)(權(quán)利要求18)。
在此，在本發(fā)明的微粉體的散布裝置中，最好還具有將沒(méi)有進(jìn)行所述放射線處理的區(qū)域上存在的微粉體從所述被散布體表面除去的微粉體除去機(jī)構(gòu)(權(quán)利要求19)。
另外，在本發(fā)明的微粉體的散布裝置中，所述規(guī)定區(qū)域的選擇，最好是通過(guò)由吸收所述放射線的材料構(gòu)成所述被散布體的該區(qū)域而成(權(quán)利要求20)。
在此，在本發(fā)明的微粉體的散布裝置中，作為前述放射線，最好使用紅外線(波長(zhǎng)760nm～2000nm左右)。而作為前述放射線也可使用紫外線(波長(zhǎng)60nm～360nm左右)。
此外，作為隔離子，在使用黑色隔離子(例如，具有黑色樹脂保護(hù)膜的隔離子等)情況下，作為前述放射線，也可使用可視光(波長(zhǎng)最好為500nm～700nm左右)。
必要時(shí)，在本發(fā)明的微粉體的散布裝置中，能夠使用與被散布體或散布的隔離子的分光吸收特性相對(duì)應(yīng)的各種波長(zhǎng)區(qū)域的光(電磁波)。
另外，在本發(fā)明中，作為前述微粉體的散布機(jī)構(gòu)，沒(méi)有特別限定地可使用后述的各種方式的機(jī)構(gòu)。
發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，具有可實(shí)現(xiàn)相對(duì)于液晶顯示裝置用玻璃基板、只在與彩色濾光片的黑色矩陣相對(duì)應(yīng)處附著隔離子(即將隔離子配置于所希望的位置上)的微粉體(隔離子)的散布方法和裝置的顯著效果。
并且，使用由該方法(或裝置)制作的玻璃基板構(gòu)成液晶顯示裝置時(shí)，能夠不發(fā)生光漏或色不勻，能夠較大地提高液晶顯示裝置的畫質(zhì)特性。


圖1為示出本發(fā)明的第1實(shí)施例的隔離子散布方法的要點(diǎn)的處理流程圖，圖2為示出在第1實(shí)施例的隔離子散布方法中使用的隔離子散布裝置的要部構(gòu)成的模式圖，圖3為以示出實(shí)施例1的隔離子散布狀況的SEM照片為基礎(chǔ)的模式圖(其1)，圖4為以示出實(shí)施例1的隔離子散布狀況的SEM照片為基礎(chǔ)的模式圖(其2)，圖5為示出本發(fā)明的第3實(shí)施例的隔離子散布方法的要點(diǎn)的處理流程圖，圖6為示出在第3實(shí)施例的隔離子散布方法中使用的隔離子散布裝置的要部構(gòu)成的模式圖，圖7為說(shuō)明彩色液晶顯示裝置的要部大致結(jié)構(gòu)的剖視圖，圖8為示出圖7中的彩色濾光片的細(xì)部的俯視圖，圖9為示出以往的隔離子散布狀況的模式圖。
符號(hào)說(shuō)明12～16 14a 處理步驟20，20A 隔離子散布裝置22 基臺(tái)22a玻璃基板22b基臺(tái)本體24 隔離子散布部24a隔離子散布噴嘴管24b驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)26 激光加熱部26a激光加熱機(jī)構(gòu)28 隔離子除去部28a隔離子除去機(jī)構(gòu)28b空氣噴出口28c吸入口30 清潔室32 激光照射裝置32a加熱機(jī)構(gòu)具體實(shí)施方式
以下，根據(jù)附圖所示的較佳實(shí)施例，詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。
圖1為示出本發(fā)明的第1實(shí)施例的隔離子散布方法的要點(diǎn)的處理流程圖。
正如圖1所示，本實(shí)施例的隔離子的散布方法(將其稱作第1隔離子散布方法)為，最初，在玻璃基板等的被散布體表面均勻地散布隔離子(步驟12)。
在此，對(duì)較好地適用于本發(fā)明的隔離子的散布方法和裝置中的隔離子進(jìn)行說(shuō)明。
在此使用的隔離子較佳的是，其表層為具有熱或光硬化性的樹脂(熱或光硬化性樹脂)而內(nèi)部具有由樹脂或玻璃等固體構(gòu)成的芯部的二層結(jié)構(gòu)物，或者不是二層結(jié)構(gòu)而是全體由同樣的熱或光硬化性樹脂構(gòu)成物。
以往，相對(duì)于散布在上述被散布體表面上的隔離子，是將其在加熱爐中例如進(jìn)行130℃、10分鐘左右加熱而成的，而在此使用的隔離子也實(shí)施與以往同樣的處理?xiàng)l件下的處理，特別是并不要求具有與以往的隔離子不同的特性。
下面，使用后述的加熱用的放射線，只加熱與上述被散布體表面的前述黑色矩陣相對(duì)應(yīng)部分(即除了黑色矩陣的R、G、B各區(qū)域的內(nèi)部的部分) (步驟14)，使散布于該部分的隔離子固著在上述被散布體表面(以下稱作熱融著)。
接著，將散布于步驟14中不進(jìn)行加熱的部分(即彩色濾光片的R、G、B各區(qū)域內(nèi))的隔離子(該部分的隔離子處于沒(méi)有固著于上述被散布體表面的狀態(tài))，使用后述的隔離子除去機(jī)構(gòu)從上述被散布體表面除去(步驟16)。
圖2為示出在第1實(shí)施例的隔離子散布方法中使用的隔離子散布裝置的要部構(gòu)成的模式圖。正如圖2所示，本實(shí)施例的隔離子散布裝置20具有基臺(tái)22、隔離子散布部24、激光加熱部26、隔離子除去部28。另外，上述各部分均設(shè)置于清潔室30內(nèi)。
基臺(tái)22通過(guò)基臺(tái)本體22b將從外部送入的玻璃基板22a支承于規(guī)定的位置，其中，基臺(tái)本體22b具有支承著作為被散布體的玻璃基板22a的定位機(jī)構(gòu)。隔離子散布部24具有將含有隔離子的氣流排出(放出)并將隔離子散布于基臺(tái)22上的玻璃基板22a表面上的散布噴嘴管24a和其驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)24b。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)24b使散布噴嘴管24a進(jìn)行三維擺動(dòng)(其一部分由箭頭A所示)。
激光加熱部26在此作為一例為，具有將散布于基臺(tái)22上的玻璃基板22a表面上的隔離子中、必須固著的部分熱熔融于玻璃基板22a表面上的激光加熱機(jī)構(gòu)26a，以能夠蓋住玻璃基板22a整個(gè)表面的方式根據(jù)需要裝配多臺(tái)機(jī)構(gòu)而成。另外，該激光加熱機(jī)構(gòu)26a可使射出的激光三維擺動(dòng)(其一部分如箭頭B所示)。
另外，該激光加熱機(jī)構(gòu)26a中的激光的三維擺動(dòng)可以是機(jī)械地?cái)[動(dòng)激光發(fā)生機(jī)構(gòu)的方式，并且，可以使用將發(fā)生的激光通過(guò)多角鏡等的機(jī)械式光掃描器進(jìn)行方向變換方式或?qū)⑦@些方式組合的方式等各種方式。
另外，可以是根據(jù)場(chǎng)合將激光加熱機(jī)構(gòu)26a在距離玻璃基板22a表面有規(guī)定的距離的平面上沿著玻璃基板22a表面可移動(dòng)的結(jié)構(gòu)，另外還可以如圖2中箭頭D所示，可上下動(dòng)作的結(jié)構(gòu)。這樣的結(jié)構(gòu)因可較好地適用于小輸出的激光加熱機(jī)構(gòu)26a，所以非常有效。
此外，上述的激光加熱機(jī)構(gòu)26a使用公知的各種射線束擺動(dòng)機(jī)構(gòu)，而各激光加熱機(jī)構(gòu)26a使用具有在可能的范圍內(nèi)覆蓋較寬區(qū)域結(jié)構(gòu)的加熱機(jī)構(gòu)。在此，上述的射線束擺動(dòng)機(jī)構(gòu)的種類、激光加熱機(jī)構(gòu)26a的使用臺(tái)數(shù)、各激光加熱機(jī)構(gòu)26a覆蓋住的玻璃基板22a表面上的區(qū)域面積等沒(méi)有任何限制。
另外，最好與成為散布對(duì)象的玻璃基板22a相對(duì)應(yīng)地、將形成于該基板上的彩色濾光片的黑色矩陣的位置預(yù)先在上述的射線束擺動(dòng)機(jī)構(gòu)內(nèi)做好程序。由此，正如后述，可有效地進(jìn)行激光加熱機(jī)構(gòu)26a進(jìn)行的隔離子融著。
隔離子除去部28在玻璃基板22a表面的1邊具有沿箭頭C方向平行于該邊可往復(fù)運(yùn)動(dòng)的隔離子除去機(jī)構(gòu)28a。該隔離子除去機(jī)構(gòu)28a具有沿著上述玻璃基板22a表面的1邊的狹縫狀的空氣噴出口28b和沿著該空氣噴出口28b的吸入口28c。
上述隔離子除去機(jī)構(gòu)28a的功能為，在圖2中從左向右移動(dòng)之際，通過(guò)從空氣噴出口28b噴出的空氣流，將附著于玻璃基板22a表面上的隔離子從玻璃基板22a表面剝離，之后，由吸入口28c吸引和除去被剝離的隔離子。為此，最好是例如，從空氣噴出口28b噴出的空氣流的方向與前進(jìn)(移動(dòng))方向相反，而吸入口28c朝前進(jìn)(移動(dòng))方向開(kāi)口。
另外，隔離子除去機(jī)構(gòu)28a在其退行時(shí)(在圖2中從右向左方向移動(dòng)之際)，不必進(jìn)行特別的動(dòng)作，但為了徹底地除去隔離子，此時(shí)也可進(jìn)行吸入口28c進(jìn)行的吸引，并且，可以是用空氣噴出口28b、吸入口28c這兩者吸引的結(jié)構(gòu)。
上述結(jié)構(gòu)的本實(shí)施例的隔離子散布裝置20大致按如下方式動(dòng)作。
載置于基臺(tái)22上并且朝向接地的玻璃基板22a，從散布噴嘴管24a噴出(放出)包含隔離子的氣流，在玻璃基板22a表面上的預(yù)先設(shè)定的規(guī)定范圍內(nèi)，進(jìn)行均勻的隔離子散布(前述的步驟12)。在此，不用說(shuō)，根據(jù)玻璃基板22a的大小，不僅散布噴嘴管24a可擺動(dòng)，而且可以使隔離子散布部24全體移動(dòng)。
隔離子的均勻散布結(jié)束后，接著，進(jìn)行只將散布的隔離子的必要部分殘留而除去其他部分的有選擇的隔離子固著動(dòng)作。在本實(shí)施例中，該動(dòng)作相對(duì)于對(duì)象區(qū)域進(jìn)行是否實(shí)施激光加熱所致的融著的選擇動(dòng)作。即，只相對(duì)于散布有殘存的隔離子的區(qū)域進(jìn)行激光加熱所致的融著(前述的步驟14)。
即，相對(duì)于殘存有通過(guò)前述的程序化等方法設(shè)定的隔離子的區(qū)域，進(jìn)行激光加熱機(jī)構(gòu)26a所致的隔離子融著。另外，進(jìn)行該激光加熱之際，從生產(chǎn)間隔時(shí)間(處理1塊基板所需時(shí)間)和影響基板材料各部這兩個(gè)方面考慮，需要將使用的激光的強(qiáng)度(波長(zhǎng)區(qū)域、輸出等)、照射時(shí)間(射線束直徑、射線束的移動(dòng)速度等)正確地確定為最適值。
另外，激光通常根據(jù)波長(zhǎng)區(qū)域其熱作用的大小是不同的，因此也考慮到構(gòu)成為加熱對(duì)象的玻璃基盤的材料的吸收特性，最好慎重地選定使用波長(zhǎng)區(qū)域、輸出(影響基板的上升速度)等。而對(duì)于照射射線束直徑最好從與作用的關(guān)系上成為容易處置的最適的大小。
通過(guò)上述處理應(yīng)當(dāng)殘存的隔離子固著后，對(duì)于其之外的即應(yīng)當(dāng)除去的隔離子，進(jìn)行其除去處理(前述的步驟16)。因散布的隔離子為非常小的粒子(平均直徑為2μm～6μm左右)，靠所謂的范德華(van der Waals)力等附著于玻璃基板22a表面，因此需要將其完全除去的慎重處理。
在此，通過(guò)使用也稱作氣刀的、沿著基板寬度方向的狹縫狀的高速且中壓空氣流(一種幕狀流)，成為使用將附著于玻璃基板22a表面的隔離子刮去的方式。另外，如此刮去的隔離子因需要不向他處移動(dòng)地直接捕集，在上述的氣刀后設(shè)有同樣沿著基板寬度方向的狹縫狀的吸入機(jī)構(gòu)。
即，為前述的空氣噴出口28b和吸入口28a。在此來(lái)自空氣噴出口28b的空氣噴出壓力和流量等最好使用通過(guò)事前的實(shí)驗(yàn)等所確定的最適值。另外，對(duì)于吸入口28c的吸入能力也需要有同樣的考慮。
另外，對(duì)于靠上述的隔離子除去機(jī)構(gòu)28a而從基板上除去和回收的隔離子，考慮到其為高價(jià)材料，最好進(jìn)行預(yù)先可再利用的處理。再利用時(shí)，也必須進(jìn)行清洗和再分級(jí)等的與進(jìn)行隔離子制造時(shí)的操作同樣的操作。
根據(jù)本實(shí)施例的隔離子散布裝置，通過(guò)進(jìn)行如此處理，能夠在需要外的位置上不存在隔離子，從而可獲得能在具有優(yōu)良的光學(xué)性能的LCD中使用的玻璃基板。但是，本發(fā)明并不限于此。
例如，在上述的第1實(shí)施例中，散布的隔離子只殘存在必要的部分，為除去其他部分所選擇的隔離子固著動(dòng)作相對(duì)對(duì)象區(qū)域，通過(guò)是否進(jìn)行激光加熱所致的融著的選擇，但其也可采用其他的方法。具體而言，作為第2實(shí)施例，例如代替上述的激光所致的選擇加熱，只相對(duì)于應(yīng)當(dāng)殘存散布的隔離子的區(qū)域，使用進(jìn)行激光等的加熱融著用放射線照射那樣的掩膜的方法(將其稱作第2隔離子散布方法)。
即，對(duì)于作為對(duì)象的玻璃基板，只將形成于該基板上的彩色濾光片的黑色矩陣的位置與上述加熱融著用放射線有關(guān)為透明的，準(zhǔn)備其他部分以吸收上述加熱融著用放射線的構(gòu)成的掩膜部件，通過(guò)該部件以進(jìn)行對(duì)玻璃基板的加熱融著用放射線照射的方法。對(duì)于該方法，也可與先前實(shí)施例時(shí)大致同樣地實(shí)施有選擇的隔離子固著。
在此，加熱融著用的放射線不必限于激光。特別是，在使用與上述第2實(shí)施例的掩膜部件的方法(乃至裝置)中，不必使用小徑的掃描用射線束光源，可均勻地照射寬廣的范圍，具有可使用的放射線的種類寬的優(yōu)點(diǎn)。
另外，與之不同地，可以采用在黑色矩陣的位置和該位置外(象素部)的位置以使照射光(放射線)的吸收率產(chǎn)生顯著差的方式，使黑色矩陣和其以外部分由熱能吸收特性不同的材料構(gòu)成的方法。
即，對(duì)成為對(duì)象的玻璃基板全面且均勻地照射放射線時(shí)，該照射光由黑色矩陣處吸收，加熱融著散布的隔離子，但在黑色矩陣以外(象素部)的位置上，不吸收照射光，從而不加熱融著隔離子的方法。
使用該方法時(shí)，例如是將具有紅外線等的加熱作用的放射線全面且均勻地照射玻璃基板的，但此時(shí)根據(jù)玻璃基板上的位置(即，黑色矩陣和其以外的部分)，放射線的吸收程度具有顯著的差異(也就是說(shuō)，吸收的選擇性)，結(jié)果，在黑色矩陣和其以外的部分，放射線的作用存在較大的差異，從而可僅僅加熱融著黑色矩陣位置上的隔離子。
在此，對(duì)上述的放射線的吸收程度的差異進(jìn)行說(shuō)明。在此最好是只黑色矩陣的部分吸收放射線(的熱能)，為此，例如，將黑色矩陣的部分由混入碳材料等構(gòu)成較適。
使用該方法時(shí)，簡(jiǎn)化了加熱用光源的構(gòu)成，此外通過(guò)全面均勻地照射，縮短了處理時(shí)間(照射時(shí)間)，從而可獲得大幅度地降低隔離子散布裝置的成本的效果。
下面，對(duì)將隔離子附著(即，有選擇地配置)于所希望的位置上的上述各種方法加以更具體地說(shuō)明。
首先，通過(guò)使用下述裝置的具體實(shí)例進(jìn)行說(shuō)明。該裝置為，前述第1實(shí)施例所示的裝置即如圖2所示的、將只散布的隔離子的必要部分殘存而除去其他部分的有選擇的隔離子固著動(dòng)作相對(duì)于對(duì)象區(qū)域選擇是否進(jìn)行激光加熱所致的融著方式的裝置。
實(shí)例1實(shí)驗(yàn)條件如下。
使用隔離子積水化學(xué)工業(yè)(株)制EX0047-AC散布密度約5000個(gè)/mm2散布噴嘴及其擺動(dòng)機(jī)構(gòu)本申請(qǐng)人在先前的日本特愿平4-166258號(hào)“粉體散布裝置和散布方法”(參照日本特開(kāi)平6-3679號(hào)公報(bào))提出的、具有以鋸齒狀掃描軌跡擺動(dòng)的三維凸輪式移動(dòng)機(jī)構(gòu)的裝置加熱用激光裝置(株)キ-エンス制レ-ザマ-カML-G9300(極小文字式樣)，激光射線束直徑400μm，射線束移動(dòng)速度2000mm/s，輸出3W(30W(額定)的10％)對(duì)象工件玻璃基板(尺寸30mm×30mm)，掃描格子尺寸500μm，300μm激光射線束照射時(shí)間1.55s(500μm格子)，2.27s(300μm格子)在上述的實(shí)驗(yàn)條件下，進(jìn)行隔離子散布的結(jié)果如圖3和圖4所示。在此，圖3為以在使用500μm格子時(shí)的隔離子的殘存狀況的SEM(掃描型電子顯微鏡)照片為基礎(chǔ)的模式圖，圖4同樣為使用300μm格子時(shí)的模式圖。另外，點(diǎn)劃線所示部分為指定的散布區(qū)域。
正如圖3和圖4所示的可知，使用本實(shí)施例的隔離子散布裝置時(shí)，盡管在指定區(qū)域外稍微具有殘存的隔離子，但作為全體確認(rèn)可實(shí)現(xiàn)非常良好的散布狀況。因此，使用該基板作成的LCD可期待獲得有良好的顯示特性。
圖5為示出本發(fā)明的另一實(shí)施例(將其稱作第3實(shí)施例)的隔離子散布方法要點(diǎn)的處理流程圖。而圖6為示出該方法實(shí)施中較適用的隔離子散布裝置20A的要部構(gòu)成的模式圖。該裝置20A與圖2所示的隔離子散布裝置20的差別在于，放射線照射裝置(激光加熱機(jī)構(gòu))在圖2所示的隔離子散布裝置20時(shí)，為邊在玻璃基板上掃描邊照射規(guī)定的圖形，而圖6所示的隔離子散布裝置20A時(shí)，為同時(shí)照射玻璃基板上的整個(gè)表面。
在此，具備上述的隔離子散布裝置20A的激光照射裝置32，與具備圖2所示的隔離子散布裝置20的激光加熱機(jī)構(gòu)26a同樣地內(nèi)藏有產(chǎn)生波長(zhǎng)區(qū)域的紅外線的紅外線源(加熱機(jī)構(gòu)32a)。另外，該紅外線源成為可同時(shí)照射作為散布對(duì)象的玻璃基板22a整個(gè)表面的廣角照射線源。
另外，圖6所示的隔離子散布裝置20A的其他構(gòu)成要素與具有圖2所示的具備隔離子散布裝置20的構(gòu)成要素相同的構(gòu)件標(biāo)以相同的符號(hào)，在此省略對(duì)其詳細(xì)的說(shuō)明。
在本實(shí)施例的隔離子散布方法中，在與形成玻璃基板的彩色濾光片層的面相反的面上，形成由至少吸收前述照射的放射線的材料構(gòu)成的黑色矩陣。
下面，根據(jù)圖5和圖6說(shuō)明使用如此玻璃基板22a的實(shí)例。
實(shí)例2
實(shí)驗(yàn)條件除了作為基板使用如上所述的預(yù)先形成黑色矩陣的以外，其他與實(shí)例1相同。
在本實(shí)例的隔離子的散布方法中(第3種隔離子散布方法)也與先前說(shuō)明的第1、第2種散布方法同樣地，最初在上述玻璃基板22a的表面均勻地散布隔離子(步驟12)。
接著，使用均勻加熱用的放射線照射裝置32的加熱機(jī)構(gòu)32a，不僅對(duì)上述玻璃基板22a表面的前述黑色矩陣部分而且對(duì)玻璃基板22a的整個(gè)表面進(jìn)行加熱(步驟14a)。由此，在黑色矩陣部分，因熱吸收使溫度上升，散布的隔離子可固著(熱融著)于上述玻璃基板22a的黑色矩陣部分上。
在上述的實(shí)驗(yàn)條件下，進(jìn)行隔離子散布的結(jié)果，與先前的圖3和圖4所示的第1實(shí)施例的實(shí)驗(yàn)結(jié)果同樣地、盡管在指定區(qū)域外(即象素部分)稍微具有殘存的隔離子，但作為全體確認(rèn)可實(shí)現(xiàn)非常良好的散布狀況。因此，使用該基板作成的LCD可期待獲得有良好的顯示特性。
使用該第3實(shí)施例的隔離子的散布方法時(shí)，因加熱之際不必進(jìn)行掃描，優(yōu)點(diǎn)是具有簡(jiǎn)化放射線照射機(jī)構(gòu)的構(gòu)成、大大降低隔離子散布裝置的成本的效果。
另外，上述實(shí)施例任意一個(gè)均示出了本發(fā)明的一例，本發(fā)明并不限于上述實(shí)施例，在不脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)，可進(jìn)行各種變更或改進(jìn)。
例如，加熱融著用的放射線不必限于激光。特別是，在作為第2和第3實(shí)施例說(shuō)明的放射線的均勻照射的方法(乃至裝置)中，由于不是必須使用小徑的掃描用射線束光源，具有可使用的放射線的種類寬的優(yōu)點(diǎn)。
此外，作為本發(fā)明中使用的隔離子散布方法，除了實(shí)施例所示的擺動(dòng)型的散布噴嘴組件(例如日本特開(kāi)平6-3679號(hào)公報(bào)，特開(kāi)平11-276941號(hào)公報(bào)、特開(kāi)2002-59036號(hào)公報(bào)等公開(kāi)的裝置)外，也可較適用于特開(kāi)2002-148635號(hào)公報(bào)所公開(kāi)的分散型固定散布噴嘴組件等。
另外，在上述各實(shí)施例中，作為散布于被散布體表面的微粉體，例舉了用于LCD的顯示板(液晶板)中的隔離子、其中以散布有通過(guò)激光加熱而熔融的表層的二層結(jié)構(gòu)的隔離子時(shí)為例，但本發(fā)明并不限于此，也可有效地使用具有紫外線硬化性樹脂表層的二層結(jié)構(gòu)的隔離子、或只由紫外線硬化性樹脂構(gòu)成的隔離子，此外也可有效地適用于散布上述隔離子以外的微粒子。
在上述各實(shí)施例中，作為出微粉體散布對(duì)象的基板，作為L(zhǎng)CD的顯示板(液晶板)中使用的基板的例子例舉了玻璃基板，但本發(fā)明并不限于此，可適用于玻璃以外的材料構(gòu)成的基板(例如，各種樹脂基板)。
權(quán)利要求
1.一種微粉體的散布方法，其特征在于，進(jìn)行只將散布于被散布體表面的微粉體中必要部分殘存而除去其他部分的有選擇的微粉體固著處理。
2.按照權(quán)利要求1所述的微粉體的散布方法，其特征在于，所述微粉體固著處理為只對(duì)散布于所述被散布體表面的微粉體中的必要部分進(jìn)行放射線處理，以使被處理部的微粉體固著于所述被散布體表面的處理。
3.一種微粉體的散布方法，使用具有微粉體的散布機(jī)構(gòu)和被散布體的支承部的微粉體散布裝置，其特征在于，由所述微粉體的散布機(jī)構(gòu)將微粉體散布于所述被散布體表面后，只對(duì)所述被散布體表面的規(guī)定區(qū)域?qū)嵤┓派渚€處理(微粉體固著處理)，以使被處理部的微粉體固著于所述被散布體表面。
4.按照權(quán)利要求3所述的微粉體的散布方法，其特征在于，將散布于沒(méi)有進(jìn)行所述放射線處理的區(qū)域上的微粉體從所述被散布體表面除去。
5.按照權(quán)利要求3或4所述的微粉體的散布方法，其特征在于，所述規(guī)定區(qū)域的選擇通過(guò)將該區(qū)域作為所述放射線的掃描區(qū)域而成。
6.按照權(quán)利要求3或4所述的微粉體的散布方法，其特征在于，所述處理的規(guī)定區(qū)域的選擇通過(guò)在所述被散布體表面上配置具有所述放射線的遮斷功能的遮蔽部件而成。
7.按照權(quán)利要求3～6任何一項(xiàng)所述的微粉體的散布方法，其特征在于，所述微粉體固著處理為，將散布于所述被散布體表面的微粉體只在所述必要部分通過(guò)吸收的放射線進(jìn)行處理以將被處理部的微粉體固著在所述被散布體表面的處理。
8.一種微粉體的散布方法，使用具有微粉體的散布機(jī)構(gòu)和被散布體的支承部的微粉體散布裝置，其特征在于，由所述微粉體的散布機(jī)構(gòu)將微粉體散布于所述被散布體表面后，只對(duì)所述被散布體表面的規(guī)定區(qū)域通過(guò)吸收的放射線進(jìn)行處理，以使被處理部的微粉體固著于所述被散布體表面。
9.按照權(quán)利要求8所述的微粉體的散布方法，其特征在于，將散布于沒(méi)有進(jìn)行所述放射線處理的區(qū)域上的微粉體從所述被散布體表面除去。
10.按照權(quán)利要求8或9所述的微粉體的散布方法，其特征在于，所述規(guī)定區(qū)域的選擇，是通過(guò)由吸收所述放射線的材料構(gòu)成所述被散布體的該區(qū)域而成。
11.一種微粉體的散布裝置，其特征在于，具有微粉體固著處理機(jī)構(gòu)，進(jìn)行只將散布于被散布體表面的微粉體中必要部分殘存而除去其他部分的有選擇的微粉體固著處理。
12.按照權(quán)利要求11所述的微粉體的散布裝置，其特征在于，所述微粉體固著處理機(jī)構(gòu)為，只對(duì)散布于所述被散布體表面的微粉體中的必要部分進(jìn)行放射線處理以使被處理部的微粉體固著于所述被散布體表面的處理的機(jī)構(gòu)。
13.一種微粉體的散布裝置，其特征在于，具有微粉體的散布機(jī)構(gòu)和被散布體的支承部，以及只對(duì)通過(guò)所述微粉體的散布機(jī)構(gòu)進(jìn)行微粉體散布的所述被散布體表面的規(guī)定區(qū)域?qū)嵤┓派渚€處理的處理機(jī)構(gòu)。
14.按照權(quán)利要求13所述的微粉體的散布裝置，其特征在于，還具有將沒(méi)有進(jìn)行所述放射線處理的區(qū)域上存在的微粉體從所述被散布體表面除去的微粉體除去機(jī)構(gòu)。
15.按照權(quán)利要求13或14所述的微粉體的散布裝置，其特征在于，所述規(guī)定區(qū)域的選擇，是基于從將該區(qū)域作為所述放射線發(fā)生機(jī)構(gòu)的掃描區(qū)域的掃描區(qū)域指定機(jī)構(gòu)來(lái)的指定而成。
16.按照權(quán)利要求13或14所述的微粉體的散布裝置，其特征在于，所述處理的規(guī)定區(qū)域的選擇通過(guò)在所述被散布體表面上配置具有所述放射線的遮斷功能的遮蔽部件而成。
17.按照權(quán)利要求13～16任何一項(xiàng)所述的微粉體的散布裝置，其特征在于，所述微粉體固著處理機(jī)構(gòu)為，將散布于所述被散布體表面的微粉體只在所述必要部分通過(guò)吸收的放射線進(jìn)行處理以將被處理部的微粉體固著在所述被散布體表面的處理的機(jī)構(gòu)。
18.一種微粉體的散布裝置，其特征在于，具有微粉體的散布機(jī)構(gòu)和被散布體的支承部，以及將由所述微粉體的散布機(jī)構(gòu)進(jìn)行微粉體散布的所述被散布體表面，只對(duì)所述被散布體表面的規(guī)定區(qū)域通過(guò)吸收的放射線進(jìn)行處理的機(jī)構(gòu)。
19.按照權(quán)利要求18所述的微粉體的散布裝置，其特征在于，還具有將沒(méi)有進(jìn)行所述放射線處理的區(qū)域上存在的微粉體從所述被散布體表面除去的微粉體除去機(jī)構(gòu)。
20.按照權(quán)利要求18或19所述的微粉體的散布裝置，其特征在于，所述規(guī)定區(qū)域的選擇，是通過(guò)由吸收所述放射線的材料構(gòu)成所述被散布體的該區(qū)域而成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種相對(duì)于液晶顯示裝置用玻璃基板、只在與彩色濾光片的黑色矩陣相對(duì)應(yīng)的位置上附著隔離子(即，將隔離子配置于所希望的位置上)的微粉體(隔離子)的散布方法和裝置。微粉體的散布方法的特征在于，進(jìn)行只將散布于被散布體表面的微粉體中的必要部分殘留而除去其他部分的有選擇的微粉體固著處理；微粉體的散布方法的特征在于，所述微粉體固著處理為只對(duì)散布于所述被散布體表面的微粉體中的必要部分進(jìn)行放射線加熱以使被處理部的微粉體固著于所述被散布體表面的處理，以及實(shí)現(xiàn)上述方法的具體裝置。對(duì)于散布于沒(méi)有進(jìn)行所述放射線處理的區(qū)域上的微粉體，最好將其從所述被散布體表面除去。
文檔編號(hào)B05B7/14GK1692988SQ20051006658
公開(kāi)日2005年11月9日 申請(qǐng)日期2005年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月30日
發(fā)明者村田博, 森山秀男, 江間秋彥, 宮川君夫 申請(qǐng)人:日清工程株式會(huì)社