專(zhuān)利名稱(chēng)：狹縫噴嘴、基板處理裝置以及基板處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種將處理液涂敷在液晶用玻璃基板、半導(dǎo)體基板、薄膜液晶用柔性基板、光掩模用基板、彩色濾光器用基板等(以下，簡(jiǎn)稱(chēng)為“基板”)的表面上的狹縫噴嘴、具有該狹縫噴嘴的基板處理裝置、以及使用了該狹縫噴嘴的基板處理方法。
背景技術(shù)：
從以前開(kāi)始，在基板的制造工序中包含有將光致抗蝕劑等處理液涂敷在基板表面的涂敷工序。在涂敷工序中，使用從具有狹縫狀的吐出部的狹縫噴嘴向基板表面吐出處理液的涂敷裝置(所謂的狹縫式涂敷機(jī))。
圖22表示利用現(xiàn)有的涂敷裝置100進(jìn)行涂敷處理的狀態(tài)。涂敷裝置100從狹縫噴嘴110的吐出部111向基板200的表面涂敷處理液190的同時(shí)，在圖中的X方向上移動(dòng)。由此，在基板200的表面上形成處理液的薄膜。這種現(xiàn)有的涂敷裝置例如公開(kāi)在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1JP特開(kāi)2003-275648號(hào)公報(bào)但是，在現(xiàn)有的涂敷裝置100中很難以穩(wěn)定的涂敷寬度W涂敷處理液190。
例如，如開(kāi)始涂敷時(shí)的那樣，當(dāng)狹縫噴嘴110的移動(dòng)速度慢的時(shí)候，如圖23所示，存在被涂敷的處理液190向外側(cè)膨脹的趨勢(shì)。這時(shí)，處理液190的涂敷寬度W變寬。另一方面，當(dāng)狹縫噴嘴110的移動(dòng)速度快的時(shí)候，如圖24所示，存在被涂敷的處理液190向內(nèi)側(cè)收縮的趨勢(shì)。這時(shí)，處理液190的涂敷寬度W變窄。
此外，不僅根據(jù)狹縫噴嘴110的移動(dòng)速度，而且根據(jù)處理液的粘度、處理液的表面張力、基板200的表面狀態(tài)等的條件，處理液190的涂敷寬度W也會(huì)變動(dòng)。還有，若涂敷寬度W這樣變動(dòng)，則與此相伴而形成的薄膜的厚度也變得不穩(wěn)定。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于這樣的事情而提出的，其目的在于提供一種能夠由狹縫噴嘴以穩(wěn)定的涂敷寬度涂敷處理液的技術(shù)。
(1).為解決上述問(wèn)題的本發(fā)明是一種狹縫噴嘴，在其下部具有狹縫狀的吐出口，其特征在于，具有噴嘴主體部，其限定上述吐出口在長(zhǎng)度方向的開(kāi)口邊緣；一對(duì)側(cè)板，其分別安裝在上述噴嘴主體部的兩端，并限定上述吐出口在寬度方向的開(kāi)口邊緣，上述側(cè)板的下端部的厚度為0.7mm以下。
(2).本發(fā)明是如上述(1)所記載的狹縫噴嘴，其特征在于，上述側(cè)板的下端部的外側(cè)面相對(duì)于水平面的角度為45度以上。
(3).本發(fā)明是如(1)或(2)所記載的狹縫噴嘴，其特征在于，上述側(cè)板的下端部位于上述噴嘴主體部的下端部的下方。
(4).本發(fā)明是如(1)或(2)所記載的狹縫噴嘴，其特征在于，上述側(cè)板的下端部位于上述噴嘴主體部的下端部的上方。
(5).本發(fā)明是如(1)或(2)所記載的狹縫噴嘴，其特征在于，上述側(cè)板具有調(diào)節(jié)上述側(cè)板的下端部的高度的調(diào)節(jié)裝置。
(6).本發(fā)明是如(1)或(2)所記載的狹縫噴嘴，其特征在于，上述側(cè)板具有限定上述吐出口的端部的薄板和固定上述薄板的壓緊構(gòu)件。
(7).本發(fā)明是一種狹縫噴嘴，在其下部具有狹縫狀的吐出口，其特征在于，具有噴嘴主體部，其限定上述吐出口在長(zhǎng)度方向的開(kāi)口邊緣；一對(duì)側(cè)板，其分別安裝在上述噴嘴主體部的兩端，并限定上述吐出口在寬度方向的開(kāi)口邊緣，上述側(cè)板的下端部位于上述噴嘴主體部的下端部的下方。
(8).本發(fā)明是一種狹縫噴嘴，在其下部具有狹縫狀的吐出口，其特征在于，具有噴嘴主體部，其限定上述吐出口在長(zhǎng)度方向的開(kāi)口邊緣；一對(duì)側(cè)板，其分別安裝在上述噴嘴主體部的兩端，并限定上述吐出口在寬度方向的開(kāi)口邊緣，上述側(cè)板的下端部位于上述噴嘴主體部的下端部的上方。
(9).本發(fā)明是一種狹縫噴嘴，在其下部具有狹縫狀的吐出口，其特征在于，具有噴嘴主體部，其限定上述吐出口在長(zhǎng)度方向的開(kāi)口邊緣；一對(duì)側(cè)板，其分別安裝在上述噴嘴主體部的兩端，并限定上述吐出口在寬度方向的開(kāi)口邊緣，上述側(cè)板具有調(diào)節(jié)上述側(cè)板的下端部的高度的調(diào)節(jié)裝置。
(10).本發(fā)明是一種基板處理裝置，其特征在于，具有如上述(1)、(7)、(8)以及(9)中任意一項(xiàng)所記載的狹縫噴嘴；保持裝置，其在上述狹縫噴嘴的下方水平保持基板；掃描裝置，其使上述狹縫噴嘴，在與上述吐出口的長(zhǎng)度方向垂直的方向上，對(duì)被上述保持裝置保持的基板進(jìn)行相對(duì)掃描；供給裝置，其對(duì)上述狹縫噴嘴供給處理液。
(11).本發(fā)明是一種基板處理方法，使用上述(9)所記載的狹縫噴嘴，其特征在于，包括供給工序，其使上述狹縫噴嘴對(duì)基板進(jìn)行相對(duì)掃描的同時(shí)，從上述吐出口向基板吐出處理液；調(diào)節(jié)工序，其根據(jù)上述處理液的粘度、上述狹縫噴嘴的速度、或者這兩個(gè)條件來(lái)調(diào)節(jié)上述側(cè)板的下端部的高度。
若根據(jù)上述(1)～(6)以及引用這些的上述(10)所記載的發(fā)明，則將側(cè)板的下端部的厚度設(shè)為0.7mm以下。因此，能夠縮小被涂敷的處理液向外側(cè)的膨脹寬度。從而，能夠抑制處理液的涂敷寬度的變動(dòng)的同時(shí)，也能夠抑制被形成的薄膜的膜厚變動(dòng)。
特別是，若根據(jù)上述(2)所記載的發(fā)明，則將側(cè)板的下端部的外側(cè)面相對(duì)于水平面的角度設(shè)為45度以上。因此，能夠防止處理液超出側(cè)板的下端部而向外側(cè)膨脹。
特別是，若根據(jù)上述(3)所記載的發(fā)明，則側(cè)板的下端部位于噴嘴主體部的下端部的下方。因此，將處理液向外側(cè)牽引的壓力增強(qiáng)，從而能夠縮小被涂敷的處理液向內(nèi)側(cè)的收縮寬度。因此，能夠進(jìn)一步抑制處理液的涂敷寬度的變動(dòng)。
特別是，若根據(jù)上述(4)所記載的發(fā)明，則側(cè)板的下端部位于噴嘴主體部的下端部的上方。因此，將處理液向外側(cè)牽引的壓力變?nèi)?，從而能夠縮小被涂敷的處理液向外側(cè)的膨脹寬度。因此，能夠進(jìn)一步抑制處理液的涂敷寬度的變動(dòng)。
特別是，若根據(jù)上述(5)所記載的發(fā)明，則能夠根據(jù)狹縫噴嘴的移動(dòng)速度和處理液的粘度來(lái)調(diào)節(jié)側(cè)板的下端部的高度。因此，能夠根據(jù)狀況適當(dāng)?shù)乜s小處理液向外側(cè)的膨脹寬度和向內(nèi)側(cè)的收縮寬度。
特別是，若根據(jù)上述(6)所記載的發(fā)明，則能夠?qū)⒈“搴蛪壕o構(gòu)件分別形成為簡(jiǎn)單的形狀。因此，能夠輕易地形成側(cè)板。
還有，若根據(jù)上述(7)以及引用這個(gè)的上述(10)所記載的發(fā)明，則側(cè)板的下端部位于噴嘴主體部的下端部的下方。因此，向外側(cè)牽引處理液的壓力增強(qiáng)，從而能夠縮小被涂敷的處理液向內(nèi)側(cè)的收縮寬度。因此，能夠抑制處理液的涂敷寬度的變動(dòng)的同時(shí)，也能夠抑制被形成的薄膜的膜厚變動(dòng)。
還有，若根據(jù)上述(8)以及引用這個(gè)的上述(10)所記載的發(fā)明，則側(cè)板的下端部位于噴嘴主體部的下端部的上方。因此，將處理液向外側(cè)牽引的壓力變?nèi)?，從而縮小被涂敷的處理液向外側(cè)的膨脹寬度。因此，能夠抑制處理液的涂敷寬度的變動(dòng)的同時(shí)，也能夠抑制被形成的薄膜的膜厚變動(dòng)。
還有，若根據(jù)上述(9)以及引用這個(gè)的上述(10)、(11)所記載的發(fā)明，則能夠根據(jù)狹縫噴嘴的移動(dòng)速度和處理液的粘度來(lái)調(diào)節(jié)側(cè)板的下端部的高度。因此，能夠根據(jù)狀況適當(dāng)?shù)乜s小處理液的向外側(cè)的膨脹寬度和向內(nèi)側(cè)的收縮寬度。因此，能夠抑制處理液的涂敷寬度的變動(dòng)的同時(shí)，也能夠抑制被形成的薄膜的膜厚變動(dòng)。


圖1是表示本發(fā)明的基板處理裝置的概略的立體圖。
圖2是表示狹縫噴嘴的噴嘴主體部結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖3是表示第一實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖4是表示改變側(cè)板厚度時(shí)的涂敷結(jié)果的圖。
圖5是表示第一實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖6是表示第一實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖7是表示第二實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖8是表示第二實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖9是表示第二實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖10是表示第二實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖11是表示第三實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖12是表示第三實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖13是表示第三實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖14是表示第三實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖15是表示第四實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖16是表示第四實(shí)施方式的側(cè)板形狀的圖。
圖17是表示控制部用于調(diào)節(jié)可動(dòng)板的高度的電氣結(jié)構(gòu)的圖。
圖18是表示狹縫噴嘴的速度和可動(dòng)板的高度的關(guān)系的圖。
圖19是表示抗蝕液的粘度和可動(dòng)板的高度的關(guān)系的圖。
圖20是表示在噴嘴主體部的前方側(cè)的下端部和后方側(cè)的下端部的高度不同的情況下的噴嘴主體部和側(cè)板的關(guān)系的圖。
圖21是表示在噴嘴主體部的前方側(cè)的下端部和后方側(cè)的下端部的高度不同的情況下的噴嘴主體部和側(cè)板的關(guān)系的圖。
圖22是表示由現(xiàn)有的涂敷裝置進(jìn)行的涂敷處理狀態(tài)的圖。
圖23是表示由現(xiàn)有的涂敷裝置進(jìn)行的涂敷處理狀態(tài)的圖。
圖24是表示由現(xiàn)有的涂敷裝置進(jìn)行的涂敷處理狀態(tài)的圖。
具體實(shí)施例方式
以下，對(duì)本發(fā)明的最佳實(shí)施方式，參照附圖進(jìn)行說(shuō)明。
<1.關(guān)于基板處理裝置的整體結(jié)構(gòu)>
圖1是表示本發(fā)明的基板處理裝置1的概略的立體圖。在圖1以及以下的各圖中，為了便于圖示以及說(shuō)明，對(duì)X方向、Y方向、以及Z方向進(jìn)行了定義。X方向是狹縫噴嘴42的移動(dòng)方向。Y方向是狹縫噴嘴42的長(zhǎng)度方向。Z方向是鉛垂方向。
基板處理裝置1是用于將抗蝕液涂敷在構(gòu)成液晶顯示裝置的圖像面板的方形玻璃基板上的裝置，并且其具有主體部10和控制部20。主體部10具有載物臺(tái)30、架橋部40和驅(qū)動(dòng)部50。
載物臺(tái)30是裝載基板2的保持臺(tái)。載物臺(tái)由長(zhǎng)方體形狀的石材等構(gòu)成，并將其上表面以及側(cè)面加工得很平坦。載物臺(tái)30的上表面是水平面，并成為基板2的保持面31。在保持面31形成有未圖示的多個(gè)真空吸附口。當(dāng)在基板處理裝置1中處理基板2時(shí)，通過(guò)真空吸附口吸附基板2，由此基板2保持水平。
在保持面31上設(shè)置有多個(gè)升降銷(xiāo)32。升降銷(xiāo)32以可自由地上下升降的方式構(gòu)成。將基板2裝載在載物臺(tái)30上時(shí)、或者將基板從載物臺(tái)30拿掉時(shí)，升降銷(xiāo)32上升并保持基板。還有，在保持面31中，在隔著保持基板2的區(qū)域的兩端部，固定設(shè)置有一對(duì)運(yùn)行軌道33。運(yùn)行軌道33支承架橋部40的同時(shí)，構(gòu)成引導(dǎo)架橋部40向X方向的移動(dòng)的直線導(dǎo)軌。
在保持面31的+X方向側(cè)設(shè)置有開(kāi)口34。在開(kāi)口34下方的主體部10的內(nèi)部設(shè)置有用于使狹縫噴嘴42的狀態(tài)正常的預(yù)備涂敷機(jī)構(gòu)和用于防止狹縫噴嘴42干燥的備用容器等。
架橋部40水平架設(shè)在載物臺(tái)30的上方。架橋部40具有將碳素纖維增強(qiáng)樹(shù)脂等作為骨架材料的噴嘴支承部41、安裝在噴嘴支承部41的狹縫噴嘴42、支承噴嘴支承部41的兩端的升降機(jī)構(gòu)43。
狹縫噴嘴42具有噴嘴主體部71、安裝在噴嘴主體部71兩端的側(cè)板72。狹縫噴嘴42一邊掃描基板2的表面，一邊對(duì)基板2表面的規(guī)定區(qū)域涂敷抗蝕液。關(guān)于狹縫噴嘴42的詳細(xì)結(jié)構(gòu)以后再敘述。
升降機(jī)構(gòu)43通過(guò)噴嘴支承部41支承狹縫噴嘴42。升降機(jī)構(gòu)43具有AC伺服馬達(dá)43a和未圖示的滾珠螺桿，并根據(jù)來(lái)自控制部20的控制信號(hào)來(lái)平移升降狹縫噴嘴42。此外，升降機(jī)構(gòu)43對(duì)狹縫噴嘴42在YZ平面內(nèi)的姿勢(shì)進(jìn)行調(diào)整。
驅(qū)動(dòng)部50具有沿著載物臺(tái)30的兩側(cè)部設(shè)置的一對(duì)固定元件51、安裝在架橋部40的兩端部的一對(duì)移動(dòng)元件52。驅(qū)動(dòng)部50通過(guò)固定元件51和移動(dòng)元件52構(gòu)成一對(duì)的AC空心杯線性馬達(dá)，并使架橋部40在X方向上移動(dòng)。還有，在驅(qū)動(dòng)部50安裝有具有換算部和檢測(cè)元件的線性編碼器53。線性編碼器53檢測(cè)出移動(dòng)元件52的位置，并將檢測(cè)結(jié)果發(fā)送到控制部20。
控制部20具有按照程序處理各種數(shù)據(jù)的運(yùn)算部21和存儲(chǔ)程序和各種數(shù)據(jù)的存儲(chǔ)部22。此外，在控制部20的前面設(shè)置有接受操作員的指示輸入的操作部23和顯示各種數(shù)據(jù)的顯示部24。
控制部20通過(guò)未圖示的電纜與主體部10電連接。控制部20基于來(lái)自操作部23的輸入信號(hào)和來(lái)自線性編碼器53的檢測(cè)結(jié)果來(lái)控制固定元件51和移動(dòng)元件52的動(dòng)作。由此控制載物臺(tái)30上的架橋部40的動(dòng)作。此外，控制部20基于來(lái)自操作部23的輸入信號(hào)和來(lái)自未圖示的各種傳感器的信號(hào)來(lái)控制升降機(jī)構(gòu)43的動(dòng)作和由狹縫噴嘴42的抗蝕液的吐出動(dòng)作。
<2.關(guān)于狹縫噴嘴的結(jié)構(gòu)>
對(duì)上述的狹縫噴嘴42的結(jié)構(gòu)進(jìn)一步進(jìn)行說(shuō)明。圖2是表示狹縫噴嘴42的噴嘴主體部71的結(jié)構(gòu)的立體圖。
如圖2所示，在噴嘴主體部71的內(nèi)部形成有送液通路73。送液通路73與抗蝕液供給源75連接。還有，在噴嘴主體部71的下端部形成有狹縫狀的吐出口74?？刮g液從抗蝕液供給源75向送液通路73供給，并從吐出口74向基板2吐出。
側(cè)板72安裝在如圖2所示的噴嘴主體部71的兩端部71d、71e。即，噴嘴主體部71在送液通路73的前面(-X側(cè))以及背面(+X側(cè))限定抗蝕液的流動(dòng)，而側(cè)板72在送液通路73的兩端部(+Y側(cè)以及-Y側(cè))限定抗蝕液的流速。還有噴嘴主體部71限定吐出口74在長(zhǎng)度方向(Y方向)的開(kāi)口邊緣，而側(cè)板72限定吐出口74在寬度方向(X方向)的開(kāi)口邊緣。
在本發(fā)明中，側(cè)板72能夠采用各種實(shí)施方式。以下，對(duì)側(cè)板72的各種實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
<2-1.側(cè)板的第一實(shí)施方式>
首先，對(duì)側(cè)板72的第一實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖3是以包含送液通路73的平面切斷了第一實(shí)施方式的側(cè)板721附近的剖面圖。此外，在圖3以及圖5～圖16中只表示一邊的側(cè)板附近，但是另一邊的側(cè)板附近也具有同樣的結(jié)構(gòu)。
對(duì)側(cè)板721以在其下端部721a的Y方向的厚度d為0.7mm以下的方式進(jìn)行了加工。因此，即使從吐出口74被吐出的抗蝕液90向側(cè)板721側(cè)膨脹(圖3中的點(diǎn)劃線的狀態(tài))，在很多情況下其膨脹寬度都被抑制在厚度d的范圍內(nèi)。這是由于抗蝕液90的膨脹主要是由發(fā)生在與側(cè)板721的下端部721a之間的彎液面的影響引起的。因此，抗蝕液的涂敷寬度的變動(dòng)，在單側(cè)抑制在厚度d的范圍內(nèi)。
圖4是在一般的涂敷條件(抗蝕液90的粘度2～10cp，狹縫噴嘴42的掃描速度50～150m/sec)中，通過(guò)使側(cè)板721的下端部721a的厚度d變化，來(lái)調(diào)查抗蝕液90的涂敷寬度是否進(jìn)入指定范圍(1000±1mm)的結(jié)果。根據(jù)該結(jié)果，當(dāng)厚度d為0.7mm以下時(shí)，涂敷寬度進(jìn)入指定范圍，從而能夠獲得穩(wěn)定的涂敷寬度。
返回圖3，側(cè)板721的下端部721a的厚度d加工成0.01mm以上。因此，能夠確保側(cè)板721在下端部721a的剛性。還有，側(cè)板721的加工變得容易。
側(cè)板721的下端部721a的外側(cè)面721b呈錐形面。外側(cè)面721b相對(duì)于水平面(XY平面)的角度θ在45度以上。由此，能夠防止抗蝕液90超出下端部721a的厚度d而向外側(cè)膨脹。
側(cè)板721的下端部721a的外側(cè)面721b經(jīng)由臺(tái)階部721c而連接于側(cè)板721的上部721d的外側(cè)面721e。而且，側(cè)板721的上部721d具有大于下端部721a的厚度d的厚度D。因此，側(cè)板721整體的剛性得以確保，從而向噴嘴主體部71的安裝也變得容易。
這樣，在第一實(shí)施方式中，側(cè)板721的下端部721a的厚度d為0.7mm以下。因此，即使在狹縫噴嘴42的移動(dòng)速度慢的時(shí)候、或抗蝕液90的粘度低的時(shí)候，也能夠減小被涂敷的抗蝕液90向外側(cè)的膨脹寬度。因此，可抑制抗蝕液90的涂敷寬度的變動(dòng)的同時(shí)，也能夠抑制形成在基板2上的薄膜的膜厚變動(dòng)。
第一實(shí)施方式的側(cè)板721也可以以如圖5所示的方式構(gòu)成。在圖5中，側(cè)板721的下端部721a的外側(cè)面721b，具有相對(duì)于水平面90度的角度θ。即，側(cè)板721的下端部721a的外側(cè)面721b相對(duì)于水平面垂直。根據(jù)此，能夠進(jìn)一步防止抗蝕液90超出下端部721a的厚度d而向外側(cè)膨脹。
第一實(shí)施方式的側(cè)板721也可以以如圖6所示的方式構(gòu)成。圖6的側(cè)板721裝配了限定送液通路73以及吐出口74的端部的薄板721f和安裝在薄板721f外側(cè)的壓緊構(gòu)件721g而構(gòu)成。根據(jù)此，薄板721f和壓緊構(gòu)件721g分別成為簡(jiǎn)單的形狀。因此，能夠輕易的形成將下端部721a的厚度變薄、且具有臺(tái)階部721c的側(cè)板721的形狀。
<2-2.側(cè)板的第二實(shí)施方式>
接著，對(duì)側(cè)板72的第二實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖7是以包含送液通路73的平面切斷了第二實(shí)施方式的側(cè)板722附近的剖面圖。
側(cè)板722的下端部722a設(shè)置在噴嘴主體部71的下端部71f的下方。即，側(cè)板722的噴嘴主體部71側(cè)的面(限定送液通路73的端部的面)一直延伸到噴嘴主體部71的下端部71f的下方。因此，側(cè)板722和基板2間的距離L2小于噴嘴主體部71和基板2間的距離L1。
從吐出口74被吐出的抗蝕液90在側(cè)板722以及基板2之間形成彎液面部分90a。在本實(shí)施方式，由于使側(cè)板722的下端部722a靠近基板2，所以彎液面部分90a的曲率半徑r變小。若將抗蝕液90的表面張力設(shè)為γ，則成為將抗蝕液90向外側(cè)方向(Y方向)牽引的力的拉普拉斯壓力ΔP可由ΔP＝2γ/r表示。因此，若彎液面部分90a的曲率半徑r變小，則拉普拉斯壓力ΔP變大。即，毛細(xì)管現(xiàn)象的影響增強(qiáng)，從而變得抗蝕液90被強(qiáng)大的力向外側(cè)牽引。由此，即使在從吐出口74被吐出的抗蝕液90向內(nèi)側(cè)收縮的情況下，也能夠減小其收縮寬度。
此外，為了防止抗蝕液90大范圍地向外膨脹，優(yōu)選使上述的距離L1和距離L2之差為100μm以下或者距離L1的70％以下。
在本實(shí)施方式中，并不是狹縫噴嘴42全體而是僅使側(cè)板722向基板2靠近。因此，即使在基板2具有起伏的情況、或基板2上存在垃圾的情況下，噴嘴主體部71也不會(huì)與它們接觸。即，噴嘴主體部71不會(huì)由于垃圾等而受到損傷，從而能夠節(jié)省用于交換昂貴的噴嘴主體部71的成本和時(shí)間。
這樣，在第二實(shí)施方式中，側(cè)板722的下端部722a設(shè)置在噴嘴主體部71的下端部71f的下方。因此，即使在狹縫噴嘴42的移動(dòng)速度快的時(shí)候、或抗蝕液90的粘度高的時(shí)候，也能夠使被涂敷的抗蝕液90向內(nèi)側(cè)的收縮寬度變小。因此，能夠抑制抗蝕液90的涂敷寬度的變動(dòng)的同時(shí)，也能夠抑制形成在基板2上的薄膜的膜厚變動(dòng)。
第二實(shí)施方式的側(cè)板722也可以以如圖8～圖10所示的方式構(gòu)成。在圖8～圖10中，將側(cè)板722的下端部722a在Y方向的厚度d設(shè)為0.01mm以上且0.7mm以下。還有，側(cè)板722的下端部722a的外側(cè)面722b相對(duì)于水平面的角度θ為45度以上。根據(jù)此，能夠獲得本實(shí)施方式的效果的基礎(chǔ)上，也能夠獲得上述第一實(shí)施方式的效果。
<2-3.側(cè)板的第三實(shí)施方式>
接著，對(duì)側(cè)板72的第三實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖11是以包含送液通路73的平面切斷了第三實(shí)施方式的側(cè)板723附近的剖面圖。
側(cè)板723的下端部723a設(shè)置在噴嘴主體部71的下端部71f的上方。即，側(cè)板723的噴嘴主體部71側(cè)的面(限定送液通路73的端部的面)沒(méi)有延伸到噴嘴主體部71的下端部71f。因此，側(cè)板723和基板2間的距離L3大于噴嘴主體部71和基板2間的距離L1。
在本實(shí)施方式中，由于側(cè)板723的下端部723a和基板2的距離遠(yuǎn)，所以將抗蝕液90向外側(cè)方向牽引的拉普拉斯壓力ΔP小。因此，即使在從吐出口74被吐出的抗蝕液90向外側(cè)膨脹的情況下，也能夠使該膨脹寬度變小。
在狹縫噴嘴42的移動(dòng)速度非常慢的時(shí)候、或抗蝕液90的粘度非常低的時(shí)候，本實(shí)施方式特別有效。在這種時(shí)候具有這樣的趨勢(shì)，即，抗蝕液90超出側(cè)板723的下端部而向外側(cè)膨脹，并在端部邊緣形成隆起90b(圖11中以點(diǎn)劃線所示的狀態(tài))。如本實(shí)施方式那樣，若使側(cè)板723的下端部723a大幅度地遠(yuǎn)離基板2，則能夠減小向外側(cè)的膨脹寬度的同時(shí)，能夠消除上述隆起90b。
此外，為了防止抗蝕液90大幅度向內(nèi)側(cè)收縮，優(yōu)選使上述的距離L1和距離L2之差為500μm以下。
在本實(shí)施方式中，不是狹縫噴嘴42全體而是僅使側(cè)板723遠(yuǎn)離基板2。因此，能夠使噴嘴主體部71和基板2間的距離保持用于涂敷抗蝕液90的最佳距離L1的同時(shí)，能夠?qū)?cè)板723和基板2之間的距離L3確保得很大。
這樣，在第三實(shí)施方式中，側(cè)板723的下端部723a設(shè)置在噴嘴主體部71的下端部71f的上方。因此，即使在狹縫噴嘴42的移動(dòng)速度慢的時(shí)候、或抗蝕液90的粘度低的時(shí)候，也能夠使被涂敷的抗蝕液90向外側(cè)的膨脹寬度縮小。還有，也能夠消除形成在抗蝕液90的端部邊緣的隆起90b。因此，能夠抑制抗蝕液90的涂敷寬度的變動(dòng)，同時(shí)也能夠抑制形成在基板2上的薄膜的膜厚變動(dòng)。
第三實(shí)施方式的側(cè)板723也可以以如圖12～圖14所示的方式構(gòu)成。在圖12～圖14中，將側(cè)板723的下端部723a在Y方向的厚度d設(shè)為0.01mm以上且0.7mm以下。還有，側(cè)板723的下端部723a的外側(cè)面723b相對(duì)于水平面的角度θ為45度以上。根據(jù)此，能夠獲得本實(shí)施方式的效果的基礎(chǔ)上，也能夠獲得上述第一實(shí)施方式的效果。
<2-4.側(cè)板的第四實(shí)施方式>
最后，對(duì)側(cè)板72的第四實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖15是以包含送液通路73的平面切斷了第四實(shí)施方式的側(cè)板724附近的剖面圖。
側(cè)板724裝配了限定送液通路73以及吐出口74的端部的可動(dòng)板724a和安裝固定在噴嘴主體部71的壓緊構(gòu)件724b而構(gòu)成。可動(dòng)板724a通過(guò)擰入在其上部的調(diào)整螺栓724c與壓緊構(gòu)件724b連接。因此，通過(guò)旋轉(zhuǎn)調(diào)整螺栓724c而能夠使可動(dòng)板724a上下升降。即，該側(cè)板724通過(guò)調(diào)節(jié)可動(dòng)板724a的高度，而能夠調(diào)節(jié)側(cè)板724的下端部724d的高度。
可動(dòng)板724a的高度根據(jù)狹縫噴嘴42的移動(dòng)速度、抗蝕液90的粘度來(lái)進(jìn)行調(diào)節(jié)。例如，當(dāng)使狹縫噴嘴42以低速移動(dòng)的時(shí)候、或抗蝕液90的粘度低的時(shí)候，將可動(dòng)板724a調(diào)節(jié)到相對(duì)高的位置。根據(jù)此，可動(dòng)板724a的下端部724d和基板W間的距離變大，從而能夠使被涂敷的抗蝕液90向外側(cè)的膨脹寬度變小。還有，當(dāng)狹縫噴嘴42以高速移動(dòng)的時(shí)候、或抗蝕液90的粘度高的時(shí)候，將可動(dòng)板724a調(diào)節(jié)到相對(duì)低的位置。根據(jù)此，可動(dòng)板724a的下端部724d和基板W間的距離變小，從而能夠使被涂敷的抗蝕液90向內(nèi)側(cè)的收縮幅度變小。
第四實(shí)施方式的側(cè)板724也可以以如圖16所示的方式構(gòu)成。在圖16中的側(cè)板724中，可動(dòng)板724a和壓緊構(gòu)件724b通過(guò)在固定軸724e的周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)的偏心凸輪724f連接。利用這種結(jié)構(gòu)，也能夠通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)偏心凸輪724f來(lái)調(diào)節(jié)可動(dòng)板724a的高度。
此外，側(cè)板724可以采用手動(dòng)操作上述調(diào)整螺栓724c或者偏心凸輪724f而調(diào)節(jié)可動(dòng)板724a的高度的結(jié)構(gòu)，也可以采用利用馬達(dá)等動(dòng)力源來(lái)調(diào)節(jié)可動(dòng)板724a的高度的結(jié)構(gòu)。還有，也可以采用將控制部20和動(dòng)力源電連接，并基于來(lái)自控制部20的信號(hào)來(lái)自動(dòng)調(diào)節(jié)可動(dòng)板724a的高度的結(jié)構(gòu)。
還有，可動(dòng)板724a的高度可以在狹縫噴嘴42靜止時(shí)進(jìn)行調(diào)節(jié)，也可以在狹縫噴嘴42的掃描過(guò)程中進(jìn)行調(diào)節(jié)。圖17表示在狹縫噴嘴42的掃描過(guò)程中控制部20調(diào)節(jié)可動(dòng)板724a的高度用的電氣結(jié)構(gòu)?？刂撇?0基于來(lái)自線性編碼器53的檢測(cè)信號(hào)來(lái)計(jì)算出狹縫噴嘴42的實(shí)際速度。然后，控制部20基于狹縫噴嘴42的實(shí)際速度來(lái)控制動(dòng)力源724g。由此，根據(jù)狹縫噴嘴42的實(shí)際速度來(lái)使調(diào)整螺栓724c動(dòng)作，從而能夠調(diào)整可動(dòng)板724a的高度。也可以將同樣的結(jié)構(gòu)適用于圖16中的偏心凸輪724f。
當(dāng)使用這種狹縫噴嘴42進(jìn)行涂敷處理時(shí)，從狹縫噴嘴42的吐出口74向基板2吐出抗蝕液。然后，通過(guò)驅(qū)動(dòng)部50使狹縫噴嘴42移動(dòng)，并根據(jù)其移動(dòng)速度來(lái)調(diào)節(jié)可動(dòng)板724a的高度。
使狹縫噴嘴42的速度和可動(dòng)板724a的高度之間的關(guān)系滿(mǎn)足例如、如圖18所示的關(guān)系。即，如掃描剛開(kāi)始后和剛要停止之前，狹縫噴嘴42為低速時(shí)，使可動(dòng)板724a上升到相對(duì)高的位置。而且，當(dāng)使狹縫噴嘴42以高速移動(dòng)的時(shí)候，使可動(dòng)板724a下降到相對(duì)低的位置。根據(jù)此，能夠及時(shí)地縮小抗蝕液90向外側(cè)的膨脹寬度和向內(nèi)側(cè)的收縮寬度。
此外，控制部20也可是基于抗蝕液90的粘度來(lái)控制動(dòng)力源724g。使抗蝕液90的粘度和可動(dòng)板724a的高度的關(guān)系滿(mǎn)足例如、如圖19所示的關(guān)系。即，當(dāng)抗蝕液90的粘度低的時(shí)候，使可動(dòng)板724a上升到相對(duì)高的位置。而且，當(dāng)抗蝕液90的粘度高的時(shí)候，使可動(dòng)板724a下降到相對(duì)低的位置。還有，控制部20也可以基于有關(guān)狹縫噴嘴42的移動(dòng)速度以及抗蝕液90的粘度的兩個(gè)條件來(lái)控制動(dòng)力源724g。
<3.變形例>
以上，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并非限定于上述的例子。例如，上述的基板處理裝置1采用了使狹縫噴嘴42對(duì)于靜止的基板2進(jìn)行掃描的結(jié)構(gòu)，但也可以采用相對(duì)于固定的狹縫噴嘴42移動(dòng)基板2的結(jié)構(gòu)。即，只要采用使狹縫噴嘴42相對(duì)于基板進(jìn)行相對(duì)掃描的結(jié)構(gòu)即可。
還有，在上述的例子中，說(shuō)明了噴嘴主體部71的送液通路73的前方側(cè)(+X)的下端部和送液通路73的后方側(cè)(-X側(cè))的下端部的高度相同的情況。此時(shí)，上述側(cè)板72的下端部(側(cè)板721、722、723的下端部或者可動(dòng)板724a的下端部)設(shè)定在從低于噴嘴主體部71的下端部71f的位置到高于此的位置的范圍。但是，如圖20所示，噴嘴主體部71也可以使送液通路73前方側(cè)的下端側(cè)71g位于送液通路73后方側(cè)的下端部71h的下方。在這時(shí)，將上述的側(cè)板72的下端部?jī)?yōu)選設(shè)定在從低于噴嘴主體部71的前方側(cè)的下端部(噴嘴主體部71的最下端部)71g的位置h1、到高于噴嘴主體部71的后方側(cè)的下端部71h的位置h2的范圍。還有如圖21所示，噴嘴主體部71也可以使送液通路73的前方側(cè)的下端部71g位于送液通路73的后方側(cè)的下端部71h的上方。在這時(shí)，將上述的側(cè)板72的下端部?jī)?yōu)選設(shè)定在從低于噴嘴主體部71的后方側(cè)的下端部(噴嘴主體部71的最下端部)71h的位置h3、到高于噴嘴主體部71的前方側(cè)的下端部71g的位置h4的范圍。若將側(cè)板72的高度設(shè)定在這樣的范圍內(nèi)，則能夠獲得更加穩(wěn)定的涂敷寬度。
還有，處理對(duì)象的基板并不局限于液晶用玻璃基板，也可以是半導(dǎo)體基板和光掩模等。還有，被涂敷的處理液并不局限于抗蝕液，也可以是顯影液等其他的處理液。
權(quán)利要求
1.一種狹縫噴嘴，在其下部具有狹縫狀的吐出口，其特征在于，具有噴嘴主體部，其限定上述吐出口在長(zhǎng)度方向的開(kāi)口邊緣；一對(duì)側(cè)板，其分別安裝在上述噴嘴主體部的兩端，并由所述一對(duì)側(cè)板限定上述吐出口在寬度方向的開(kāi)口邊緣，上述側(cè)板的下端部的厚度為0.7mm以下。
2.如權(quán)利要求1所記載的狹縫噴嘴，其特征在于，上述側(cè)板的下端部的外側(cè)面相對(duì)于水平面的角度為45度以上。
3.如權(quán)利要求1或2所記載的狹縫噴嘴，其特征在于，上述側(cè)板的下端部位于上述噴嘴主體部的下端部的下方。
4.如權(quán)利要求1或2所記載的狹縫噴嘴，其特征在于，上述側(cè)板的下端部位于上述噴嘴主體部的下端部的上方。
5.如權(quán)利要求1或2所記載的狹縫噴嘴，其特征在于，上述側(cè)板具有調(diào)節(jié)上述側(cè)板的下端部的高度的調(diào)節(jié)裝置。
6.如權(quán)利要求1或2所記載的狹縫噴嘴，其特征在于，上述側(cè)板具有限定上述吐出口的端部的薄板和固定上述薄板的壓緊構(gòu)件。
7.一種狹縫噴嘴，在其下部具有狹縫狀的吐出口，其特征在于，具有噴嘴主體部，其限定上述吐出口在長(zhǎng)度方向的開(kāi)口邊緣；一對(duì)側(cè)板，其分別安裝在上述噴嘴主體部的兩端，并由所述一對(duì)側(cè)板限定上述吐出口在寬度方向的開(kāi)口邊緣，上述側(cè)板的下端部位于上述噴嘴主體部的下端部的下方。
8.一種狹縫噴嘴，在其下部具有狹縫狀的吐出口，其特征在于，具有噴嘴主體部，其限定上述吐出口在長(zhǎng)度方向的開(kāi)口邊緣；一對(duì)側(cè)板，其分別安裝在上述噴嘴主體部的兩端，并由所述一對(duì)側(cè)板限定上述吐出口在寬度方向的開(kāi)口邊緣，上述側(cè)板的下端部位于上述噴嘴主體部的下端部的上方。
9.一種狹縫噴嘴，在其下部具有狹縫狀的吐出口，其特征在于，具有噴嘴主體部，其限定上述吐出口在長(zhǎng)度方向的開(kāi)口邊緣；一對(duì)側(cè)板，其分別安裝在上述噴嘴主體部的兩端，并由所述一對(duì)側(cè)板限定上述吐出口在寬度方向的開(kāi)口邊緣，上述側(cè)板具有調(diào)節(jié)上述側(cè)板的下端部的高度的調(diào)節(jié)裝置。
10.一種基板處理裝置，其特征在于，具有如權(quán)利要求1、7、8以及9中任意一項(xiàng)所記載的狹縫噴嘴；保持裝置，其在上述狹縫噴嘴的下方水平保持基板；掃描裝置，其使上述狹縫噴嘴，在與上述吐出口的長(zhǎng)度方向垂直的方向上，對(duì)被上述保持裝置保持的基板進(jìn)行相對(duì)掃描；供給裝置，其對(duì)上述狹縫噴嘴供給處理液。
11.一種基板處理方法，其特征在于，使用權(quán)利要求9所記載的狹縫噴嘴，所述基板處理方法包括供給工序，其使上述狹縫噴嘴對(duì)基板進(jìn)行相對(duì)掃描的同時(shí)，從上述吐出口向基板吐出處理液；調(diào)節(jié)工序，其根據(jù)上述處理液的粘度、上述狹縫噴嘴的速度、或者這兩個(gè)條件來(lái)調(diào)節(jié)上述側(cè)板的下端部的高度。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠由狹縫噴嘴以穩(wěn)定的涂敷寬度涂敷處理液的技術(shù)。本發(fā)明的狹縫噴嘴的側(cè)板(721)的下端部(721a)的厚度(d)為0.7mm以下。因此，即使在狹縫噴嘴(42)的移動(dòng)速度慢的時(shí)候、或抗蝕液90的粘度低的時(shí)候，能夠縮小被涂敷的抗蝕液90向外側(cè)的膨脹寬度。因此，能夠抑制抗蝕液90的涂敷寬度的變動(dòng)。
文檔編號(hào)B05C5/02GK1833779SQ20061005472
公開(kāi)日2006年9月20日 申請(qǐng)日期2006年3月2日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月16日
發(fā)明者池田文彥, 楫野一樹(shù), 細(xì)川章宏, 吉田順一 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社