專利名稱：聯(lián)機(jī)式涂敷裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種聯(lián)機(jī)式涂敷裝置，尤其涉及一種適用于對基板涂敷照相平版印刷用光致抗蝕劑的涂敷作業(yè)，且可防止形成光致抗蝕劑的不良涂層，并能實(shí)現(xiàn)整個(gè)平版印刷工藝聯(lián)機(jī)化的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置(inline process type coating apparatus)。
背景技術(shù)：
通常，在各種平板顯示器基板的制造工藝中，作為在基板表面形成預(yù)定圖案的方法，使用照相平板印刷(photolithography)方式。
這種方式的步驟如下，首先在基板表面涂敷感光物質(zhì)(sensitivematerial)，之后對涂有感光物質(zhì)的涂敷表面進(jìn)行曝光、顯影、蝕刻等一系列作業(yè)。
在所述涂敷作業(yè)中，作為感光物質(zhì)通常使用光致抗蝕劑，并將其以一定厚度均勻涂敷在基板表面上。
例如，如果基板表面上的光致抗蝕劑涂層厚于預(yù)定厚度，則可能在進(jìn)行蝕刻作業(yè)時(shí)無法形成完整的圖案；相反，若薄于預(yù)定厚度，則可能在基板表面出現(xiàn)過度蝕刻圖案的現(xiàn)象。
為了在基板表面涂敷光致抗蝕劑，主要使用旋轉(zhuǎn)式涂敷裝置來進(jìn)行涂敷即從驅(qū)動(dòng)源接收動(dòng)力，并以中心部為基準(zhǔn)可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)板上裝載基板，在此狀態(tài)下，將光致抗蝕劑滴落在基板表面并利用離心力使其均勻分散及涂敷在基板表面上。
但是，使用所述旋涂裝置，不僅在旋轉(zhuǎn)基板的中心部和外圍部出現(xiàn)轉(zhuǎn)速偏差，而且在光致抗蝕劑擴(kuò)散時(shí)溶劑會(huì)不均勻地蒸發(fā)，因此在涂敷面形成波紋狀層理。
在對大面積基板進(jìn)行涂敷時(shí)，上述波紋狀層理的產(chǎn)生更為嚴(yán)重，因此在進(jìn)行涂敷作業(yè)時(shí)，不能得到令人滿意的效果。
另外，由于滴落到基板表面上的光致抗蝕劑因離心力的作用而滴落到基板外側(cè)，因而將浪費(fèi)過多的原料。
為了解決所述問題，提出了一種非旋轉(zhuǎn)涂敷方式，即在具有平面裝載面的定盤上水平放置基板，并通過在基板上面移動(dòng)具有狹縫式吐出口的涂敷裝置(slit coater)來涂敷光致抗蝕劑。
但是，這種涂敷方式，由于在定盤上放置基板的狀態(tài)下，直接移動(dòng)狹縫式涂敷裝置來進(jìn)行涂敷作業(yè)，很難連續(xù)進(jìn)行對多個(gè)基板的涂敷作業(yè)。
尤其是，這種非連續(xù)式涂敷作業(yè)，很難實(shí)現(xiàn)整個(gè)照相平板印刷工序及其設(shè)備的聯(lián)機(jī)化，因此其操作復(fù)雜，需要過多時(shí)間，從而降低生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于所述問題而作，其目的在于提供一種在輸送基板的同時(shí)可連續(xù)進(jìn)行光致抗蝕劑涂敷作業(yè)，且易于實(shí)現(xiàn)整個(gè)照相平板印刷工藝聯(lián)機(jī)化的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置。
為實(shí)現(xiàn)所述目的，本發(fā)明提供一種聯(lián)機(jī)式涂敷裝置，其包括作業(yè)平臺(tái)，其提供的作業(yè)面長度足以在基板輸送過程中完成涂敷作業(yè)；
懸浮臺(tái)，其通過氣體噴射壓力使基板水平懸浮在所述作業(yè)面上；輸送裝置，其用于吸附及固定懸浮狀基板，同時(shí)通過從驅(qū)動(dòng)源接受的動(dòng)力，沿所述作業(yè)面輸送基板；狹縫式涂敷裝置，其具有細(xì)長的切口即吐出口，并通過所述吐出口對沿著所述作業(yè)面移動(dòng)的基板涂敷光致抗蝕劑；吐出調(diào)整裝置，其具有可分離地接觸在所述吐出口端部的平整面，并以與平整面面接觸的狀態(tài)壓住粘接在所述吐出口端部上的光致抗蝕劑，使光致抗蝕劑沿所述吐出口的切開方向均勻分布。
采用本發(fā)明，通過聯(lián)機(jī)方式移動(dòng)基板的同時(shí)，可簡單地進(jìn)行光致抗蝕劑的涂敷作業(yè)。
尤其，這種在移動(dòng)基板的過程中進(jìn)行涂敷作業(yè)的聯(lián)機(jī)方式，可與照相平板印刷中各種工序相結(jié)合，能夠很容易地實(shí)現(xiàn)整個(gè)工序及設(shè)備的聯(lián)機(jī)化。
另外，在進(jìn)行涂敷作業(yè)之前，可利用面接觸力，使光致抗蝕劑均勻分散在涂敷裝置的吐出口，從而防止出現(xiàn)光致抗蝕劑的不良涂層，進(jìn)而提高涂敷質(zhì)量。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例所涉及的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置整體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是圖1中輸送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是本發(fā)明實(shí)施例所涉及的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置中基板定位裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是用于說明圖3中具體結(jié)構(gòu)及作用的示意圖。
圖5是圖1所示涂敷裝置的結(jié)構(gòu)放大圖。
圖6表示圖5所示涂敷裝置的作用。
圖7表示光致抗蝕劑涂敷作業(yè)較佳實(shí)施例。
圖8是圖1所示吐出調(diào)整裝置的結(jié)構(gòu)放大圖。
圖9表示圖8所示吐出調(diào)整裝置的作用。
圖10表示在基板上形成光致抗蝕劑的不良涂層。
圖11是本發(fā)明實(shí)施例所涉及的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置中清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖12及圖13表示圖11所示清洗裝置的作用。
圖14及圖15表示圖11所示裝置的另一實(shí)施例。
具體實(shí)施例方式
下面，參照

本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并在所屬領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)嵤┍景l(fā)明實(shí)施例的范圍內(nèi)進(jìn)行說明。
另外，由于本發(fā)明的實(shí)施例能夠以多種形式實(shí)施，所以本發(fā)明的權(quán)利要求范圍并不限于下述實(shí)施例的范圍。
圖1是用于說明本發(fā)明實(shí)施例所涉及的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置整體結(jié)構(gòu)的主視圖，圖中符號(hào)2指作業(yè)平臺(tái)。
所述作業(yè)平臺(tái)2具有作業(yè)面4，所述作業(yè)面4的大小適于在基板G的輸送過程中，通過聯(lián)機(jī)方式進(jìn)行光致抗蝕劑W的涂敷作業(yè)。
所述作業(yè)平臺(tái)2可使用通過焊接或用螺絲等連接金屬型鋼而形成的金屬支架，或者類似的金屬結(jié)構(gòu)體。
在所述作業(yè)面4上安裝有可通過氣體噴射壓力使基板G懸浮的懸浮臺(tái)6。
所述懸浮臺(tái)6，采用一般的懸浮臺(tái)結(jié)構(gòu)，并沿基板G的輸送區(qū)域配置在所述作業(yè)面4上，且通過由多個(gè)孔(未圖示)噴射的氣體壓力均勻支撐基板G的下端，以使其水平懸浮。
如此利用氣體噴射壓力在作業(yè)面4上以非接觸狀態(tài)支撐基板G的方式，與利用輸送輥支撐基板G的接觸式支撐方式相比，可有效防止因各種沖擊和接觸力等而損壞基板G的現(xiàn)象。而且，通過均勻的氣體噴射壓力能夠以水平狀態(tài)支撐基板G的整個(gè)表面。
在所述作業(yè)平臺(tái)2上安裝有用于沿所述作業(yè)面4輸送基板G的輸送裝置8。
所述輸送裝置8，以真空壓力吸附基板G的至少一處位置，并沿所述作業(yè)面4以聯(lián)機(jī)方式輸送基板G。
為此，如圖1所示，本實(shí)施例中，在所述作業(yè)面4上設(shè)有至少一個(gè)真空吸盤C。當(dāng)所述真空吸盤C接受驅(qū)動(dòng)源M1的動(dòng)力而沿所述作業(yè)面4移動(dòng)時(shí)，基板G在被吸附及固定于真空吸盤C的狀態(tài)下移動(dòng)。
如圖1及圖2所示，設(shè)置在基板G兩側(cè)的移動(dòng)體10上分別固定有至少一個(gè)所述真空吸盤C。
此外，所述驅(qū)動(dòng)源M1可使用普通直線電機(jī)，其可沿著所述作業(yè)面4直線輸送所述兩個(gè)移動(dòng)體10。
所述各真空吸盤C上形成有與產(chǎn)生真空壓的一般真空壓發(fā)生裝置相連接且引起真空壓作用的孔(未圖示)，通過這些孔吸附及固定基板G的對應(yīng)兩邊，以使其大致呈水平狀態(tài)。
如圖2所示，所述各真空吸盤C固定在所述移動(dòng)體10上，其可隨著移送用空壓氣缸L1的動(dòng)作而改變其位置。
這種結(jié)構(gòu)可讓所述真空吸盤C在基板G的兩側(cè)，縮小或擴(kuò)大其間隔，從而改變吸附位置。
所述作業(yè)面4的一側(cè)還可進(jìn)一步設(shè)有位置調(diào)整裝置12，其通過物理接觸力在涂敷光致抗蝕劑W之前調(diào)整從外部進(jìn)入的基板G的位置。
如圖3所示，所述位置調(diào)整裝置12由位于所述作業(yè)面4一側(cè)的兩個(gè)導(dǎo)銷P1和推壓板P2(push plate)組成。
所述導(dǎo)銷P1位于可卡住基板G的四個(gè)邊中兩個(gè)相鄰邊的位置上。
而所述推壓板P2則位于可推壓基板G上與所述兩個(gè)導(dǎo)銷P1接觸的相鄰兩邊之對角方向上的另兩個(gè)側(cè)邊的位置上。
如圖4所示，所述導(dǎo)銷P1和推壓板P2，分別與氣缸M2的活塞桿相連接，所述導(dǎo)銷P1為卡住所述基板G的邊緣而進(jìn)行上下移動(dòng)，所述推壓板P2則向水平方向進(jìn)行推壓動(dòng)作。
所述位置調(diào)整裝置12在基板G由所述作業(yè)面4一側(cè)進(jìn)入并懸浮在其上的狀態(tài)下工作。
即如圖4所示，在利用所述各真空吸盤C進(jìn)行吸附之前，使所述導(dǎo)銷P1和推壓板P2開始工作，并在所述兩個(gè)導(dǎo)銷P1卡住基板G邊緣的狀態(tài)下，如圖示方向推壓所述推壓板P2，從而調(diào)整基板G的位置。
另外，所述作業(yè)面4上安裝有在基板G輸送過程中用于涂敷光致抗蝕劑W的涂敷裝置14。
如圖5所示，所述涂敷裝置14呈長方形箱體狀。而且，所述涂敷裝置14的下方形成有用于涂敷光致抗蝕劑W的狹縫狀細(xì)長吐出口N。
所述涂敷裝置14固定在位于所述作業(yè)面4上的機(jī)架16(Gantry)上，且其裝配方向與基板G前進(jìn)方向相垂直，而且在所述機(jī)架16上，其能夠隨著移送用空壓氣缸L2的動(dòng)作沿上下方向移動(dòng)。
所述涂敷裝置14與儲(chǔ)存光致抗蝕劑W的儲(chǔ)存槽T相連接，并由該儲(chǔ)存槽T獲得光致抗蝕劑W。為了能夠進(jìn)行一般的照相平板印刷工序，所述光致抗蝕劑W使用由固態(tài)粉末狀感光物質(zhì)和揮發(fā)性溶劑混合而成的感光性組合物。
在基板G以被所述真空吸盤C固定的狀態(tài)水平移動(dòng)，且將要通過所述吐出口N下方位置時(shí)，所述涂敷裝置14向下移動(dòng)，使吐出口N接近基板G表面。
此外，如圖6所示，從所述吐出口N吐出光致抗蝕劑W，并在基板G輸送過程中，將光致抗蝕劑W涂敷在其表面上，從而形成一定厚度的涂層。
如上所述，在基板G輸送過程中進(jìn)行光致抗蝕劑W的涂敷作業(yè)時(shí)，在所述涂敷裝置14的涂敷位置，所述各真空吸盤C的真空壓力被解除，由所述懸浮臺(tái)6支撐基板使其懸浮，以進(jìn)行涂敷作業(yè)。
例如，如圖7所示，配置在基板G兩側(cè)的真空吸盤C中，可暫時(shí)解除通過所述吐出口N之涂敷位置的真空吸盤C的真空壓。
由此，所述基板G的整個(gè)面積中，通過所述吐出口N下方的部分，可由所述懸浮臺(tái)6的氣壓，以非接觸狀態(tài)獲得支持。
這種結(jié)構(gòu)，在進(jìn)行涂敷作業(yè)時(shí)，通過氣體噴射壓力以非接觸狀態(tài)支撐所述基板G的全部面積中與所述吐出口N鄰近的部分，因此在基板G移動(dòng)過程中，可使基板保持一定的水平狀態(tài)。
如果所述基板在經(jīng)過涂敷位置的基板G的部分面積直接被所述真空吸盤C固定的狀態(tài)下移動(dòng)，就會(huì)因所述各真空吸盤C在動(dòng)作過程中所形成的姿勢和位置偏差等，會(huì)不均勻地固定基板G，從而降低涂敷質(zhì)量。
如圖1所示，在所述作業(yè)面2上，安裝有與所述涂敷裝置14相鄰的吐出調(diào)整裝置18。
在使用所述涂敷裝置14進(jìn)行涂敷作業(yè)之前，通過所述吐出調(diào)整裝置18使粘著在所述吐出口N端部上的光致抗蝕劑W均勻分布。
為此，如圖8所示，在本實(shí)施例中，通過將具有平整接觸面F的移動(dòng)滑塊20沿著所述作業(yè)面4移動(dòng)，使所述接觸面F以面接觸力壓住粘著在所述涂敷裝置14之吐出口N端部上的光致抗蝕劑W，從而使光致抗蝕劑W在所述吐出口N端部的切開方向上均勻分布(如圖9所示)。
如圖8所示，所述移動(dòng)滑塊20呈長方體狀，且為了防止其與沿所述作業(yè)面4移動(dòng)的基板G及真空吸盤C相接觸，將其固定在底部呈凹形的支撐用托架22上。
所述托架22在移送用空壓氣缸L3的作用下，沿所述作業(yè)面4進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)，使所述移動(dòng)滑塊20通過所述吐出口N的下方。
在所述移動(dòng)滑塊20通過所述涂覆裝置14的下方時(shí)，將所述吐出口N的端部與所述接觸面F之間的間距Q設(shè)定在50至100微米范圍。
若所述間距Q小于所述范圍，則難以保障足夠的空間來使粘著在所述吐出口N端部上的光致抗蝕劑W與接觸面F相接觸而均勻分散。
相反，若所述間距Q大于所述范圍，則很難得到有效的面接觸力。
對所述接觸面F可進(jìn)行一般的表面處理工序，例如研磨，以使其具有一定的平整度，從而能夠沿所述吐出口N切開方向維持均等間距Q。
如上所述，在進(jìn)行涂敷作業(yè)之前，通過所述接觸面F的面接觸力，使粘著在所述吐出口N端部上的光致抗蝕劑W均勻分布，從而能夠?qū)⒐庵驴刮g劑W均勻地涂敷在基板G的整個(gè)表面上。
例如，如果在所述吐出口N的端部上不均勻地粘有光致抗蝕劑W的狀態(tài)下進(jìn)行涂敷作業(yè)，如圖10所示，所述基板G表面中，進(jìn)行起始涂敷作業(yè)的前方部分，由于其不能均勻地涂敷光致抗蝕劑W，會(huì)導(dǎo)致不良涂層。
而且，上述利用移動(dòng)滑塊20的面接觸方式，與利用旋轉(zhuǎn)輥輪，在輥輪旋轉(zhuǎn)時(shí)利用其外柱面的線接觸力碾壓的方式相比，其能夠更為容易地壓住所述涂覆裝置14吐出口N上的光致抗蝕劑W，以使光致抗蝕劑W沿所述吐出口N的切開方向均勻分布。
另外，在所述作業(yè)面4上，還可進(jìn)一步安裝用于清洗所述涂覆裝置14或移動(dòng)滑塊20的清洗裝置24。
所述清洗裝置24，可通過物理接觸力清洗粘著在所述涂敷裝置14之吐出口N端部或移動(dòng)滑塊20的接觸面F上的異物和殘余的光致抗蝕劑W。
為此，在本實(shí)施例中，如圖1所示，在所述作業(yè)面4上安裝有清洗輥輪R，所述輥輪R接受驅(qū)動(dòng)源M3的動(dòng)力，從長方形涂覆裝置14或移動(dòng)滑塊20的任何一側(cè)向另一側(cè)移動(dòng)，并通過輥輪R的外柱面的接觸力除去異物或殘余的光致抗蝕劑W。
所述清洗輥輪R，在所述作業(yè)面4，可與所述涂覆裝置14的吐出口N的端部或所述移動(dòng)滑塊20的接觸面F相接觸，且位于如圖11所示的固定滑塊26上部。
所述固定滑塊26，通過安裝在所述作業(yè)平臺(tái)2上的移送用空壓氣缸L4的推動(dòng)而移動(dòng)，從而使所述輥輪R處于可清洗所述涂覆裝置14或移動(dòng)滑塊20的位置上。
而且，在所述固定滑塊26上，所述清洗輥輪R與電機(jī)M3的軸相連接，并通過所述電機(jī)M3的驅(qū)動(dòng)，以軸心為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
如圖12及圖13所示，當(dāng)所述清洗輥輪R隨所述固定滑塊26移動(dòng)時(shí)，在所述清洗輥輪R的外柱面與所述涂覆裝置14之吐出口N端部或移動(dòng)滑塊20的接觸面F接觸的狀態(tài)下，以旋轉(zhuǎn)方式進(jìn)行清洗。
這種結(jié)構(gòu)，由清洗輥輪R進(jìn)行清洗作業(yè)時(shí)，可通過旋轉(zhuǎn)力擦洗被清洗面，從而增加清洗效率。
上述利用清洗輥輪R來清洗所述涂敷裝置14或移動(dòng)滑塊20的結(jié)構(gòu)作為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例表示在本發(fā)明的說明及附圖上，但本發(fā)明并不限于此。
例如，如圖14及圖15所示，可使用具有其大小可容納所述涂敷裝置14的吐出口N或所述移動(dòng)滑塊20之接觸面F的清洗面28，且在所述清洗面28上設(shè)置形成有若干個(gè)噴孔30的清洗頭H。
所述若干個(gè)噴孔30，與可通過噴射清洗液或干燥空氣來清洗所述吐出口N或接觸面的常規(guī)裝置相連接。
如上所述，若在作業(yè)面4上安裝有由所述清洗輥輪R或清洗頭H構(gòu)成的清洗裝置24，當(dāng)利用聯(lián)機(jī)方式移動(dòng)基板G來進(jìn)行光致抗蝕劑W的涂敷作業(yè)時(shí)，與所述涂敷作業(yè)相配合，能夠簡便進(jìn)行所述涂敷裝置14和移動(dòng)滑塊20的清洗作業(yè)。
權(quán)利要求
1.一種聯(lián)機(jī)式涂敷裝置，其包括作業(yè)平臺(tái)，其提供的作業(yè)面長度足以在基板輸送過程中完成涂敷作業(yè)；懸浮臺(tái)，其通過氣體噴射壓力使基板水平懸浮在所述作業(yè)面上；輸送裝置，其用于吸附及固定懸浮狀基板，同時(shí)通過驅(qū)動(dòng)源的動(dòng)力，沿所述作業(yè)面輸送基板；狹縫式涂敷裝置，其具有細(xì)長的切口即吐出口，并通過所述吐出口對沿著所述作業(yè)面移動(dòng)的基板涂敷光致抗蝕劑；吐出調(diào)整裝置，其具有可分離地接觸在所述吐出口端部的平整面，并以與平整面面接觸的狀態(tài)推壓粘接在所述吐出口端部上的光致抗蝕劑，使光致抗蝕劑沿所述吐出口的切開方向均勻分布。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置，其特征在于所述輸送裝置包括至少兩個(gè)真空吸盤，該吸盤可分離地吸附基板的相對應(yīng)側(cè)邊中至少一處，并通過驅(qū)動(dòng)源驅(qū)動(dòng)，可沿著所述作業(yè)面進(jìn)行直線移動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置，其特征在于所述狹縫式涂敷裝置，設(shè)置在所述作業(yè)面的基板移送區(qū)段的一側(cè)，且能夠沿上下方向移動(dòng)，以接近基板表面或反方向移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置，其特征在于所述平整面，可移動(dòng)地設(shè)置在所述作業(yè)面上，且能夠移動(dòng)至與所述吐出口的端部相對應(yīng)的位置，或者脫離該位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置，其特征在于在所述平整面與所述吐出口端部相對的狀態(tài)下，其間距為50微米至100微米范圍。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置，其特征在于進(jìn)一步包括用于清洗所述吐出口或平整面的清洗裝置；所述清洗裝置，可通過利用接觸力或清洗用流體來除去異物和殘余的光致抗蝕劑。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種適用于對基板涂敷照相平版印刷用光致抗蝕劑的涂敷作業(yè)，且可防止光致抗蝕劑的不良涂層，并能實(shí)現(xiàn)整個(gè)平版印刷工藝聯(lián)機(jī)化的聯(lián)機(jī)式涂敷裝置。本發(fā)明包括作業(yè)平臺(tái)，其作業(yè)面長度足以在基板輸送過程中完成涂敷作業(yè)；懸浮臺(tái)，其通過氣體噴射壓力使基板水平懸浮在作業(yè)面上；輸送裝置，其用于吸附及固定懸浮狀基板，同時(shí)通過驅(qū)動(dòng)源的傳動(dòng)力，沿作業(yè)面輸送基板；狹縫式涂敷裝置，其具有細(xì)長的切口即吐出口，并通過吐出口對沿著作業(yè)面移動(dòng)的基板涂敷光致抗蝕劑；吐出調(diào)整裝置，其具有可分離地接觸在吐出口端部的平整面，并以與平整面面接觸的狀態(tài)推壓粘接在吐出口端部上的光致抗蝕劑，使光致抗蝕劑沿吐出口的切開方向均勻分布。
文檔編號(hào)B05C13/02GK101066543SQ20071008739
公開日2007年11月7日 申請日期2007年4月3日 優(yōu)先權(quán)日2006年5月4日
發(fā)明者金健佑, 吳相澤 申請人:顯示器生產(chǎn)服務(wù)株式會(huì)社