專利名稱：靜電霧化設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種靜電霧化設備，其被配置為通過靜電霧化來生成帶電 微小^ 的霧。
背景技術：
日本專利申請第2007-21370A號公報公開了現(xiàn)有技術的靜電霧化設 備。該靜電霧化設備被配置來生成帶電微小7jC^^立的霧。該現(xiàn)有技術靜電 霧化設備包括發(fā)射電極、相對電極、供水裝置、控制器以及高壓源。相對 電極以與發(fā)射電^Uf目對的關系布置。高壓源被配置來在發(fā)射電極與相對電 極之間施加電壓。供水裝置被配置來向發(fā)射電極供水。
在靜電霧化設備被加電(energize)后，控制器啟動高壓源，以對發(fā) 射電極施加高電壓。因此，在發(fā)射電極與相對電極之間產生高壓電場。從
供水裝置將7jC提供到發(fā)射電極上。發(fā)射電極上的7jC被高壓電場充電。因此，
帶電的水受到庫侖力。該庫侖力將帶電的7JC拉向相對電極，從而帶電的水 形成錐形。發(fā)射電極上的錐形7jC就是所謂的泰勒錐(Taylor cone)。當泰 勒錐被形成，該泰勒錐受高壓電場影響，從而其頂端被高度充電。也就是 說，泰勒錐在頂端具有高能量。當該高能量超過了水的表面張力時，在泰 勒錐的頂端引起破碎。該>^碎就是所謂的瑞利;^碎(Rayleigh breakup )。 通過瑞利破碎，4勒錐的頂端生成了帶電的微小水#*立。這種生成即所 謂的靜電霧化。這樣，4勒錐的頂端生成了帶電微小^粒的霧。
然而，現(xiàn)有技術的靜電霧化設備需要消耗時間來生成帶電微小7jC^
的霧。也就是說，在設備工作啟動之后，該靜電霧化設備不可能立即生成
帶電微小7jC微粒的霧。

發(fā)明內容
實現(xiàn)本發(fā)明以解決上述問題。本發(fā)明的目的是提供一種靜電霧化設 備，其被配置為在設備啟動后的短時間內生成帶電微小7lC^的霧。根據(jù)本發(fā)明的靜電霧化設備包括發(fā)射電極、供7jc裝置、高壓源以及 霧化檢測裝置。供水裝置被配置來向發(fā)射電極供水。高壓源被配置來向發(fā) 射電極施加高電壓，從而對發(fā)射電極上的水進行靜電霧化。霧化檢測裝置 被配置來檢測7jc被M射電極靜電霧化的狀態(tài)。本發(fā)明的特征在于該靜電 霧化設備還包括控制器?？刂破鞅慌渲脕砜刂聘邏涸矗赃x擇性地提供啟 動電壓和工作電壓。啟動電壓被配置為高于工作電壓。控制器被配置為當 識別出所述狀態(tài)時選擇工作電壓。
利用該配置，當發(fā)射電極上的水沒有被靜電霧化時，控制器控制高壓 源以施加啟動電壓。因此，可獲得被配置為立即生成帶電微小水皿的霧 的靜電霧化設備。另夕卜，在霧化檢測裝置檢測到^M^UL射電極靜電霧化 的狀態(tài)后，控制器控制高壓源以施加工作電壓。因此，可獲得被配置來穩(wěn) 定地生成帶電微小，粒的霧的靜電霧化設備。
優(yōu)選地，該霧化檢測裝置包括放電電流檢測電路。該放電電流檢測電 路被配置來檢測M射電極流過的放電電流?？刂破鞅慌渲脕砘谠摲烹?電流識別靜電霧化狀態(tài)。
優(yōu)選地，該靜電霧化設備還包括相對電極。該相對電極以與發(fā)射電極 相對的關系布置。放電電流檢測電i^L連接到該相對電極。放電電流檢測 電5^配置3^*測>^1射電極流到相對電極的放電電流。
利用該配置，放電電流檢測電路確保能檢測到靜電霧化的狀態(tài)。因此， 可以檢測到水的靜電霧化的開始。
優(yōu)選地，該霧化檢測裝置還包括放電電流檢測電路。該放電電流檢測 電g配置iM^測從高壓源流到發(fā)射電極的放電電流。控制器基于該放電 電流來識別霧化狀態(tài)。
利用該配置，放電電流檢測電路確保能檢測到靜電霧化的狀態(tài)。因此， 也可以檢測到水的靜電霧化的開始。
優(yōu)選地，該靜電霧化設備還包括電壓檢測電路。該電壓檢測電路被配 置來險測施加給發(fā)射電極的施加電壓?？刂破骺刂聘邏涸匆詫⑹┘与妷悍?別保持在啟動電壓或工作電壓。
在這種情況下，即4吏施加電壓不同于啟動電壓和工作電壓，控制器也 控制高壓源來施加啟動電壓和工作電壓。因此，即使當施加電壓不同于啟 動電壓和工作電壓時，高壓源也可以確保施加啟動電壓和工作電壓。
優(yōu)選地，該靜電霧化設備還包括異常電壓檢測裝置。該異常電壓檢測裝置被配置來確定施加到發(fā)射電極的電壓的上限和下限。電壓檢測電# 配置來檢測所述施加電壓的電壓值?？刂破鞅慌渲脼楫旊妷褐底兊酶哂谏?限或變得低于下限時進行限制。
在這種情況下，施加到發(fā)射電極的施加電壓高于啟動電壓和工作電 壓，并低于上限，異常電壓檢測裝置控制高壓源以連續(xù)地向發(fā)射電極施加 啟動電壓和工作電壓。另一方面，施加電壓高于電壓的上限，異常電壓檢 測裝置控制高壓源以停止向發(fā)射電極施加電壓。相似地，施加電壓低于啟 動電壓和工作電壓，并高于下限，異常電壓檢測裝置控制高壓源以連續(xù)地
向發(fā)射電極施加啟動電壓和工作電壓。另一方面，施加電壓^f氐于電壓的下 限，異常電壓檢測裝置控制高壓源以停止向發(fā)射電極施加電壓。因此，即 使當高壓源發(fā)生故障并向發(fā)射電極施加了過高電壓時，高壓源也被配置為 由異常電壓檢測裝置來停止。
優(yōu)選地，該靜電霧化設備還包括保護電路。保護電路被配置為當放電 電流變得高于預定電流時，降低施加給發(fā)射電極的啟動電壓和工作電壓。
在這種情況下，即使控制器發(fā)生故障并且沒有控制高壓源，也由保護 電路來降低施加到發(fā)射電極的電壓。因此，可獲得這樣的靜電霧化設備，
它具有被配置為當控制器發(fā)生故障時停止向發(fā)射電極施加高電壓的高壓 源。
根據(jù)下面用于執(zhí)行本發(fā)明和各實施例的最佳方式，本發(fā)明的這些以及 其它特征和優(yōu)點將變得更加明顯。


圖l是示出本發(fā)明中施加電壓與生成放電電流之間的關系的曲線圖。
圖2是本發(fā)明第一實施例的靜電霧化設備的框圖。
圖3是本發(fā)明第一變型實施例的靜電霧化設備的框圖。
圖4是示出本發(fā)明的各個電壓之間的關系的曲線圖。
圖5是本發(fā)明第二變型實施例的靜電霧化設備的框圖。
圖6是本發(fā)明的霧化單元的橫截面圖。
圖7是本發(fā)明第三變型實施例的靜電霧化設備的框圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在參考

本發(fā)明的靜電霧化設備。
圖2示出本發(fā)明的靜電霧化設備100。本實施例中的靜電霧化i殳備100 包括霧化單元200、控制器300、高壓源400、放電電流檢測電路500、電 壓檢測電路600以及電源700。
圖6示出霧化單元200。霧化單元200用于生成帶電微小水微粒的霧。 霧化單元200包括發(fā)射電極210、相對電極220、霧化筒230以及珀耳帖 (Peltier)模塊240。需要說明珀耳帖模塊240用作供7jc裝置。
霧化筒230具有管形。霧化筒230結合有發(fā)射電極210、相對電極220 以及珀耳帖模塊240。霧化筒230在其圓周壁上形成有孔231?？?31被 配置來通過來自霧化筒230之外的空氣。
發(fā)射電極210是棒狀的。發(fā)射電極210形成有軸。發(fā)射電極210被布 置在霧化筒230的內部。發(fā)射電極210的軸被布置為與霧化筒230的軸向 對齊。發(fā)射電極210的頂端具有發(fā)射端211，后端具有凸緣212。
相對電極220被形成為帶有圓形窗口 221的環(huán)形。相對電極220被^保 持在霧化筒230的頂端。因此，相對電極220以與發(fā)射電極210相對的關 系布置。相對電極220的圓形窗口 221被配置來從霧化筒230內部向霧化 筒230外部流通空氣。另外，相對電極220不限于形成為帶有圓形窗口 221的環(huán)形。此外，相對電極不限于保持在霧化筒230的頂端。
發(fā)射電極210被配置為由高壓源400進行加電。因此，高壓源被配置 為在發(fā)射電極210和相對電極220之間施加高電壓，從而在發(fā)射電極210 和相對電極之間產生高壓電場。高壓源400包括變壓器，以在發(fā)射電極 210和相對電極220之間施加預定的電壓。高壓源400被配置來向發(fā)射電 極210施加負電壓。在本實施例中，高壓源400被配置來施加-4,8kV到 -5.0kV的負電壓。然而，負電壓不P艮制于-4.8kV到-5.0kV。另一方面，相 對電極220被接地。
珀耳帖模塊240包括一對導電電路板241、 242，以及多個熱電轉換 元件243。導電電路板241、 242由諸如氧化鋁和氮化鋁的電絕緣材料制 成。熱電轉換元件243由熱電轉換材料制成，諸如Bi-Te基熱電轉換材料。 在導電電路板241和導電電路板242之間平行布置多個熱電轉換元件243。 導電電路板241和242被配置為由圖2所示的電源700加電。因此，單元 700被配置來向熱電轉換元件243施加電壓。珀耳帖模塊240具有作為冷卻側的導電電路板241，以及作為熱輻射側的導電電路板242。珀耳帖模 塊240通過冷卻板501熱耦合到發(fā)射電極210的凸緣212。因此，珀耳帖 模塊240被配置為當導電電路板241被冷卻時，冷卻發(fā)射電極210。另一 方面，導電電路板242熱耦合到熱輻射葉片(fin) 260。因此，當導電電 路板242被加熱時，導電電路板242的熱量被傳輸?shù)綗彷椛淙~片260。熱 輻射葉片260被配置為由流經熱輻射葉片260的空氣來冷卻。因此，熱輻 射葉片260立即被空氣冷卻。
靜電霧化設備100如下生成帶電微小7jC微粒的霧。珀耳帖模塊240 被電源700加電，從而對熱電轉換元件243施加電壓。然后熱電轉換元件 243將熱量從導電電路板241傳輸?shù)綄щ婋娐钒?42。結果，熱電轉換元 件243冷卻導電電路板241。當導電電路板241被冷卻時，熱耦合到導電 電路板241的冷卻板501被冷卻。冷卻板501熱耦合到發(fā)射電極210的凸 緣212。因此，發(fā)射電極被冷卻板501冷卻。也就是說，珀耳帖模塊240 冷卻通過冷卻板501熱耦合的發(fā)射電極210。這樣，冷卻的發(fā)射電極210 將周圍空氣中的水蒸氣冷凝成發(fā)射電極210表面上的水。也就是說，珀耳 帖模塊被配置來冷卻發(fā)射電極210，以將水冷凝到發(fā)射電極，從而為發(fā)射 電極210提供水。因此，珀耳帖模塊用作供水裝置。以這種方式，水被提 供給發(fā)射電極210，從而被提供給發(fā)射端211。另外，發(fā)射電極210還可 以形成為具有多孔(porous)結構。在這種情況下，提供給發(fā)射電極的水 通過毛細作用被移動到發(fā)射端211。
高壓源400被配置為在發(fā)射電極210和相對電極之間施加高電壓。因 此，高壓源400在發(fā)射電極210與相對電極220之間生成高壓電場。高壓 電場將保持在發(fā)射端211上的水拉向相對電極220。以這種方式，電場在 發(fā)射電極210所保持的水上形成小的泰勒錐。另夕卜，電場在泰勒錐的頂端 形成小的電荷聚集。結果，小的放電電流從高壓源經itiL射電極210流向 相對電極220。隨后，在小的帶電泰勒錐的頂端與相對電極220之間引起 了中間電場。在這種情況下，電場在發(fā)射電極210保持的水上形成中等的 泰勒錐。另外，電場在泰勒錐的頂端形成中等的電荷聚集。結果，引起了 中等的靜電霧化，其中中等的放電電流從高壓源經it^L射電極210流向相 對電極220。并且中等的泰勒錐被中等的庫侖力拉向相對電極220。然后， 在中等的帶電泰勒錐的頂端與相對電極220之間引起了高壓電場。因此， 高壓電場在發(fā)射電極210所保持的水上形成了大的泰勒錐。另夕卜，電場在 泰勒錐的頂端形成了大的電荷聚集。結果，引起了大的靜電霧化，其中大 的放電電流從高壓源經it^L射電極210流向相對電極220。然后，高壓電場引起對泰勒錐的頂端的高庫侖力。|^，在泰勒錐的頂端引起破碎。該 破碎即所謂的瑞利破碎。最后，由于在泰勒錐的頂端處引起的瑞利破碎，
從在發(fā)射端211保持的水的泰勒錐產生出納米大小的帶電微小水微粒霧。 該納米大小的帶電微小7jC^I^L施加以負電壓的發(fā)射電極210負充電。 該納米大小的帶電微小水微粒霧由M射電極210吹向相對電極220的離 子風承載。然后，該納米大小的帶電微小水微粒霧經由相對電極220的圓 形窗口 221被排出，并沿著圖6所示的箭頭方向流動。帶電微小，粒霧 具有大約納米大小的小直徑。因此，該霧能夠在延長的時間內在空氣中散 布和漂浮，從而附著到該*#:排放的房間中的物質上。另夕卜，該納米大小 的帶電微小 M^立的霧包括原子團。因此，該納米大小的帶電微小 :lcWi 的霧具有除臭效果和滅菌效果。
返回圖2，該霧化單元200具有發(fā)射電極210，它由高壓源400加電。 高壓源400被配置來向發(fā)射電^Ufe加-5.0kV的電壓作為啟動電壓。此夕卜， 控制器300控制高壓源向發(fā)射電極200施加-4,8kV的電壓作為工作電壓。 也就是說，啟動電壓被配置為高于工作電壓。
放電電流檢測電路500用于檢測>^射電極210流向相對電極220 的放電電流。放電電流檢測電路500被定義為霧化檢測裝置。放電電流檢 測電路500被連接到相對電極220,以檢測放電電流，從而檢測>^射電 極210到相對電極220的放電電流。如上所述，當在發(fā)射電極210上的水 上引起了靜電霧化時，放電電流流動。也就是說，放電電流檢測電路500 被配置為基于v^UC射電極210流向相對電極220的放電電流，來檢測M M射電極210靜電霧化的狀態(tài)。放電電流檢測電路500經由二極管被連 接到高壓源400，以將放電電流的電流值作為信號發(fā)送。放電電流檢測電 路500被連接到控制器300，以發(fā)逸故電電流的電流值的信號920。
電壓檢測電路600被配置來檢測電壓值。電壓檢測電路600被連接到 高壓源400，從而檢測施加給發(fā)射電極210的施加電壓的電壓值。電壓檢 測電路600被連接到控制器300,以將施加電壓值作為圖2所示的信號930 發(fā)送。
控制器300被配置來向高壓源400發(fā)送信號卯0，以啟動和停止高壓 源400。控制器300被配置為在通過信號卯0對靜電霧化設備100加電之 后，控制高壓源400的功率?？刂破?00被配置來向高壓源400發(fā)iiUt電 電壓調節(jié)信號，以調節(jié)施加給發(fā)射電極210的高電壓。因此，控制器300 被配置來控制高壓源400，以選擇性地提供啟動電壓和工作電壓。控制器300被配置為基于7jc被^射電極210靜電霧化的狀態(tài)來選擇工作電壓。 特別地，當為靜電霧化設備100加電后，控制器300控制高壓源400向發(fā) 射電極210施加啟動電壓。此外，當識別出7jC^v^UL射電極210靜電霧化 的狀態(tài)時，控制器300控制高壓源400向發(fā)射電極210施加工作電壓。
接下來，結合圖1和圖2來說明靜電霧化設備100的操作。圖1是示
之間的關系的曲線圖。靜電霧化設備100如下工作。當按下附圖中未示出 的電源^^時，靜電霧化設備100被圖中未示出的外部電源加電?？刂破?300控制電源700在板241、 242之間施加電壓。控制器控制高壓源400 向發(fā)射電極210施加啟動電壓800，如圖1所示。也就是說，控制器300 被配置來控制高壓源，以在為靜電霧化設備100加電時提供啟動電壓。另 外，霧化單元200按照如上所述啟動?？刂破?00被配置來控制高壓源 400，以連續(xù)向發(fā)射電極210施加啟動電壓，直到放電電流檢測電路500 -檢測到.故電電流。
經過一定的時間后，連續(xù)施加的啟動電壓佳發(fā)射端211的頂端的7jC靜 電霧化。然后，在發(fā)射電極210與相對電極220之間產生放電電流。放電 電流隨著泰勒錐的擴大而增加。放電電流檢測電路未被配置為檢測小的放 電電流，而是被配置為檢測中等放電電流和大的放電電流。當放電電流變 得高于中等放電電流時，放電電流檢測電路500檢測到該放電電流。由圖 1的附圖標記820所示的箭頭來示出水#/誇電霧化的狀態(tài)。利用該配置， 控制器300被配置為當靜電霧化設備100被加電后，控制高壓源400施加 啟動電壓。啟動電壓被配置為高于工作電壓。因此，可獲得被配置為當靜 電霧化設備被加電時就立即生成帶電微小^ 霧的靜電霧化設備100。 1^如圖1中所示，控制器300被配置為當基于放電電流識別出7jC^L靜電 霧化的狀態(tài)時，控制高壓源400向發(fā)射電極210提供工作電壓810。因此， 靜電霧化設備100能夠在識別出該狀態(tài)后穩(wěn)定地產生帶電微小水微粒的 霧。
此外，靜電霧化設備IOO包括電壓檢測電路600。電壓檢測電路600 被配置為檢測施加到發(fā)射電極210的施加電壓?；谠撌┘与妷?，控制器 300控制高壓源400，以將施加電壓分別保持在啟動電壓和工作電壓。換 句話說，控制器300控制高壓源400以將施加電壓調節(jié)到啟動電壓或工作 電壓。因此，可獲得包括這樣的高壓源400的靜電霧化設備100，該高壓 源被配置為確保向發(fā)射電極210施加啟動電壓和工作電壓。圖3示出本發(fā)明實施例的靜電霧化設備的第一種變型。在該變型中， 靜電霧化設備100包括具有異常電壓檢測裝置310的控制器300。該異常 電壓檢測裝置310被配置來確定高壓源400的上限940、下限950、高水 平電壓960、以及低水平電壓970。圖4是示出上限940、下限950、高水 平電壓960、以及低水平電壓970與由電壓檢測電路600檢測的啟動電壓 800 (或工作電壓810)之間的關系的曲線圖。高水平電壓高于啟動電壓 和工作電壓。上限高于高水平電壓。低水平電壓低于啟動電壓和工作電壓。 下限低于低水平電壓。
控制器300被配置為基于上限、下限、高水平電壓和低水平電壓與由 電壓檢測電路600檢測的施加電壓之間的關系，來停止或連續(xù)驅動高壓源 400。特別地，控制器300被配置為當施加電壓在高水斧電壓和上P艮之間 時，連續(xù)驅動高壓源400。在這種情況下，控制器控制高壓源，以將施加 電壓調整到啟動電壓或工作電壓。控制器被配置為當施加電壓在低水平電 壓和下限之間時，連續(xù)驅動高壓源。在這種情況下，控制器300控制高壓
源，以將施加電壓調整到啟動電壓或工作電壓。另一方面，控制器被配置 為當施加電壓高于上限時限制高壓源。因此，高壓源400被配置為從不向 發(fā)射電極210施加過高電壓。類似地，控制器被配置為當施加電壓低于下 限時，限制高壓源。因此，利用這種配置，可獲得安全的靜電霧化設備 100.
圖5示出本實施例的靜電霧化設備100的第二種變型。在該變型中， 靜電霧化設備100包括控制器300和高壓源400。本變型中的控制器300 與第一種變型中的控制器300是相同的。高壓源400包括如圖5所示的保 護電路410。
保護電路410被配置為基于由放電電流檢測電路500檢測的到放電電 流來控制高壓源400，以降低施加給發(fā)射電極210的施加電壓。特別地， 保護電路410被配置為當放電電流的電流值高于預定電流時控制高壓源 400以降低施加電壓。
放電電流檢測電路500被配置i[b險測放電電流，并且l^被配置來向 高壓源400的保護電路410發(fā)送放電電流的電流值。保護電路410被配置 來比乾故電電流的電流值與預定的電流。保護電路410被配置為當放電電 流的電流值高于預定值時，停止高壓源400。保護電路400被配置為當放 電電流的電流值低于預定值時，連續(xù)地驅動高壓源400。也就是說，保護 電路410被配置為基于放電電流的電流值來控制高壓源400。因此，帶有保護電路410的高壓源400被配置為從不向發(fā)射電極210 施加過高電壓。因此，高壓源400被配置為即使控制器300或電壓檢測電 路600故障時，也從不向發(fā)射電極210施加過高電壓。
圖7示出本發(fā)明的靜電霧化設備的本實施例的第三種變型。第三種變 型的靜電霧化設備基本上和第一種變型相同，除了下面的特征。因此，不 需對共同的部分和操作進行重復說明。圖7中相似的部份用第一實施例所 示的相同的附圖標記表示。
如圖7所示，這種變型的靜電霧化設備具有霧化單元200B和放電電 流檢測電路500B,分別代替霧化單元200和放電電流檢測電路500。霧 化單元200B不具有相對電極。高壓源400經由放電電流檢測電路500B 被連接到發(fā)射電極210。因此，高壓源400被配置來向發(fā)射電極210施加 高電壓。放電電流檢測電路500B被配置來檢測從高壓源400流向發(fā)射電 極210的放電電流。放電電流檢測電路500B被配置來向控制器300發(fā)送 檢測信號?？刂破?00被配置為基于該檢測信號來識別狀態(tài)。
高壓源400被配置為在發(fā)射電極210與電勢低于發(fā)射電極210的物質 之間施加高電壓。因此，發(fā)射電極210上的水被M射電極210靜電霧化。 當;d^t靜電霧化時，放電電流從高壓源500B經it^L射電極210流到霧化 單元200B的外面。因此，由放電電流檢測電路500B檢測從高壓源400 流向發(fā)射電極210的放電電流，使得放電電流檢測電路500B生成信號 920。信號920被從放電電流檢測電路500B發(fā)送到控制器300。因此，控 制器300基于信號920來識別狀態(tài)，并控制高壓源400以向發(fā)射電極210 施加工作電壓。
要說明的是本發(fā)明的靜電霧化設備IOO包括作為供水裝置的珀耳帖 模塊。然而，優(yōu)選靜電霧化設備包括供水箱來代替珀耳帖模塊240。在這 種情況下，靜電霧化設備還具有供水通道，被配置來將水從供水箱提供到 發(fā)射電極。優(yōu)選該供水通道被形成為具有多孔結構，并被配置為通過毛細 作用來提供水。此外，可改變靜電霧化設備400的設計。例如，可使用不 具有相對電極的靜電霧化設備。在這種情況下，與靜電霧化設備結合的殼 體用作相對電極。加電了的發(fā)射電極具有高電勢。另一方面，殼體不被高 壓源加電。因此，在發(fā)射電極400與殼體之間存在電勢差。結果，M射 電極400上的水產生帶電微小水微粒的霧。
盡管特別參考上述實施例對本發(fā)明進行了說明，本發(fā)明不應被限制于 此，并且應該被解釋為包括實施例中的各特征的任意組合。
權利要求
1. 一種靜電霧化設備，包括發(fā)射電極；供水裝置，被配置來向所述發(fā)射電極供水；高壓源，被配置來向所述發(fā)射電極施加高電壓，從而對所述發(fā)射電極上的水進行靜電霧化；以及霧化檢測裝置，被配置來檢測水被從所述發(fā)射電極靜電霧化的狀態(tài)，其中，所述靜電霧化設備還包括控制器，所述控制器被配置來控制所述高壓源，以選擇性地提供工作電壓和高于所述工作電壓的啟動電壓，所述控制器被配置為在識別出所述狀態(tài)時選擇所述工作電壓。
2. 根據(jù)權利要求1所述的靜電霧化設備，其中所述霧化檢測裝置包括放電電流檢測電路，所l故電電流檢測電路被 配置來檢測從所ii^射電極流出的放電電流，所述控制器被配置來基于所 i^j故電電流來識別所述狀態(tài)。
3. 根據(jù)權利要求2所述的靜電霧化設備，還包括與發(fā)射電極以相對 關系布置的相對電極，其中所逸故電電流檢測電i^L連接到所勤目對電極，并被配置來險測從所 ^射電極流到所i^目對電極的所逸故電電流。
4. 根據(jù)權利要求1所述的靜電霧化設備，其中所述霧化檢測裝置包括放電電流檢測電路，所逸故電電流檢測電路被 配置;^測從所述高壓源流到所iiiL射電極的放電電流，所述控制器基于 所l故電電流來識別所述狀態(tài)。
5. 根據(jù)權利要求1所述的靜電霧化設備，其中所述靜電霧化設備還包括電壓檢測電路，被配置i(^險測施加到所iOL 射電極的施加電壓，并且所述控制器控制所述高壓源，以將所述施加電壓 分別保持在所述啟動電壓或所述工作電壓。
6. 根據(jù)權利要求1所述的靜電霧化設備，其中所述靜電霧化設備還包括異常電壓檢測裝置，所述異常電壓檢測裝置 被配置來確定施加到所iOC射電極的所述電壓的上限和下限，所述電壓檢測電3M^配置來險測所述施加電壓的電壓值，并且所述控制器被配置為當所述電壓值變得高于所述上限或變得低于所 述下限時進行限制。
7.根據(jù)權利要求2所述的靜電霧化設備，還包括保護電路，所述保 護電膝故配置為當所i^故電電流變得高于預定電流時，降低施加到所i^L 射電極的所述啟動電壓和所述工作電壓。
全文摘要
本發(fā)明的靜電霧化設備包括發(fā)射電極、供水裝置、高壓源以及霧化檢測裝置，并還包括控制器。供水裝置被配置來向發(fā)射電極供水。高壓源被配置來向發(fā)射電極施加高電壓，從而對發(fā)射電極上的水進行靜電霧化。霧化檢測裝置被配置來檢測水被從發(fā)射電極靜電霧化的狀態(tài)?？刂破鞅慌渲脕碓谠O備的加電時施加啟動電壓?？刂破鞅慌渲脕碓谧R別出所述狀態(tài)時施加工作電壓。利用該配置，可獲得這樣的靜電霧化設備，其被配置為當靜電霧化設備被加電后立即生成帶電微小水微粒的霧?？色@得這樣的靜電霧化設備，其被配置為當識別出所述狀態(tài)后穩(wěn)定地生成帶電微小水微粒的霧。
文檔編號B05B5/00GK101444768SQ20081017911
公開日2009年6月3日 申請日期2008年11月25日 優(yōu)先權日2007年11月27日
發(fā)明者井坂篤, 小幡健二, 里谷豐 申請人:松下電工株式會社