專利名稱:用于減反射的涂料組合物、減反射膜和制備該減反射膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種用于減反射的涂料組合物、采用該用于減反射的涂料組合物制備 的減反射膜以及制備該減反射膜的方法。更具體而言,本發(fā)明涉及一種用于減反射的涂料 組合物,其中盡管使用含有折射率彼此不同的樹脂的一種涂料組合物通過一步涂覆法來形 成單層涂層,但在該單層涂層也出現(xiàn)了相分離,從而同時提供減反射特性和耐磨性;采用該 用于減反射的涂料組合物制備的減反射膜;以及制備該減反射膜的方法。本申請要求在韓國知識產(chǎn)權(quán)局于2007年11月13日提交的韓國專利申請 No. 10-2007-0115348 和 No. 10-2007-0115329、于 2007 年 11 月 14 日提交的韓國專利申請 No. 10-2007-0115967以及于2008年4月18日提交韓國專利申請No. 10-2008-0035891的 優(yōu)先權(quán),將上述申請的公開內(nèi)容以參考的方式完整并入本申請。
背景技術(shù):
在顯示器的表面上進行表面處理的一個目的是通過提高顯示器的耐磨性和減少 來自外部光源發(fā)出光的反射而提高圖像對比度。減少外部光的反射可以通過兩種方法實 現(xiàn)。一種方法是通過在表面上使用凸凹形狀引起漫反射,而另一種方法是通過使用多層涂 覆設(shè)計(multi-coating design)引起相消干涉。在相關(guān)領(lǐng)域已經(jīng)廣泛使用在表面上采用凸凹形狀的防眩光涂層 (anti-glarecoating)。然而,存在的問題在于由于漫反射使高分辨率顯示器中的分辨率劣 化以及使圖像的清晰度劣化。為了解決上述的問題,日本專利申請公布第11-138712號已 經(jīng)披露了光擴散膜,其中,光在使用具有與粘合劑不同的折射率的有機填料制備的膜中被 擴散。然而,因為其具有亮度和對比度劣化的問題,該光擴散膜需要改進。在日本專利申請公布第02-234101號和第06-18704號中已經(jīng)披露通過多層涂覆 設(shè)計引起反射光的相消干涉的方法。根據(jù)該方法,可以得到減反射特性而不使圖像失真。在 這種情況下,各層的反射光應(yīng)該具有相位差,從而使得反射光相消干涉,并且反射光的波形 應(yīng)該具有振幅從而在相消干涉過程中使得反射率可以為最小的反射率。例如,當相對于設(shè) 置在基板上的單層減反射涂層的入射角為0°時,可以得到如下表達式。[數(shù)學式1]n0ns = n/2n1d1 = (m+1/2)入(m = 0、1、2、3.)(n0 空氣的折射率;ns 基板的折射率;叫膜的折射率汍膜的厚度;入入射光 的波長)通常,如果減反射涂層的折射率小于基板的折射率,則減反射是有效的。然而,考 慮到涂層的耐磨性,優(yōu)選地,減反射涂層折射率為基板折射率的1. 3至1. 5倍。在這種情況 下,反射率小于3%。然而,當減反射涂層形成在塑料膜上時,是不可能符合顯示器的耐磨性 的要求。基于這個原因,需要將幾個微米的硬涂層設(shè)置在減反射涂層的下面。也就是說,應(yīng)用相消干涉的減反射涂層包括用于增強耐磨性的硬涂層和形成在該硬涂層上的1至4層減 反射涂層。因此,所述多層涂覆法獲得了減反射特性而沒有使圖像失真。然而,仍然存在的 問題是由于多層涂覆提高了制備成本。近年來,已經(jīng)有人提出了通過單層涂覆設(shè)計使得反射光相消干涉的方法。在日本 專利申請公布第07-168006號中已經(jīng)披露了如下的方法。根據(jù)該方法,將分散在液體中的 超微細粒子涂覆在基板上,并使球狀的微細粒子暴露于表面上使得在空氣(界面)與粒子 之間逐漸產(chǎn)生折射率的差異。因此,可以得到減反射特性。然而,由于所述超微細粒子的形 狀和粒度應(yīng)該均勻,并且這些粒子應(yīng)該均勻地分散在基板上,所以通過常用的涂覆方法難 以實施這種方法。而且,由于為了在所述膜的表面上得到球形的形狀,粘合劑的用量應(yīng)該與 預(yù)先確定的用量相等或少于預(yù)先確定的用量,所以該方法得到的耐磨性非常差。此外,由于 涂層的厚度應(yīng)該也比微細粒子的直徑小,所以難以獲得耐磨性。
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題為了解決上述問題,本發(fā)明的目的是提供一種用于減反射的涂料組合物,其中盡 管使用一種涂料組合物通過一步涂覆法來形成涂層,但在該涂層中出現(xiàn)了相分離以同時提 供減反射特性和耐磨性,從而提高工藝效率和降低生產(chǎn)成本;采用該用于減反射的涂料組 合物制備的減反射膜;以及制備該減反射膜的方法。技術(shù)方案為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種用于減反射的涂料組合物,其包含折射率 為1. 2至1. 45的低折射材料和折射率為1. 46至2的高折射樹脂,其中兩種材料間的表面 能差異為5mN/m以上。此外,本發(fā)明提供了一種制備減反射膜的方法,其包括下列步驟a)制備用于減反射的涂料組合物,該組合物包含折射率為1. 2至1. 45的低折射材 料和折射率為1. 46至2的高折射樹脂,其中兩種材料間的表面能差異為5mN/m以上;b)將所述涂料組合物涂覆在基板上以形成涂層;c)干燥所述涂層以使所述低折射材料和高折射材料相分離;以及d)固化干燥的涂層。所述用于減反射的涂料組合物可進一步包含氟化化合物或納米粒子分散液以利 于所述低折射材料和高折射材料的相分離。此外,本發(fā)明提供一種包括單層涂層的減反射膜,該單層涂層包含折射率為1. 2 至1. 45的低折射材料和折射率為1. 46至2的高折射樹脂,其中兩種材料間的表面能差異 為5mN/m以上并且所述低折射材料和高折射材料在厚度方向上具有濃度梯度。此外,本發(fā)明提供了一種偏光片,其包括a)偏光膜,和b)施加在所述偏光膜的至 少一面的根據(jù)本發(fā)明的減反射膜。另外,本發(fā)明提供了一種顯示器件,其包括所述減反射膜或所述偏光片。有益效果通過使用上述用于減反射的涂料組合物和制備所述減反射膜的方法,本發(fā)明能夠 提供包括具有優(yōu)異的減反射特性和耐磨性的減反射層的減反射膜,其中,所述減反射層由單層涂層構(gòu)成。由于根據(jù)本發(fā)明的減反射膜具有優(yōu)異的耐磨性和低折射特性并且能夠通過 一步涂覆法制備,因此可以提高加工效率并減少生產(chǎn)成本。
圖1為顯示根據(jù)實施例1的減反射膜的橫截面視圖的透射電子顯微鏡圖像。
具體實施例方式在下文中,將詳細描述本發(fā)明。根據(jù)本發(fā)明的用于減反射的涂料組合物的特征在于,其包含折射率為1. 2至1. 45 的低折射材料和折射率為1. 46至2的高折射樹脂,并且兩種材料間的表面能差異為5mN/ m以上。由于使用用于減反射的涂料組合物而在低折射材料和高折射材料間出現(xiàn)表面能差 異,因此在涂覆、干燥和固化工藝中可以出現(xiàn)相分離。因此,即使使用一種組合物實施一步 涂覆法,也能夠提供優(yōu)異的減反射特性和耐磨性。在本發(fā)明中,在通過固化材料來制備的固化產(chǎn)品中測量表面能。在涂覆步驟完成后,由于低折射材料和高折射材料間的表面能差異,所述低折射 材料逐漸移向涂層的上部,而所述高折射材料位于涂層的下部。為了在干燥和固化步驟中 使相分離最大化并固定相分離的位置,優(yōu)選的是所述低折射材料為在室溫下是柔軟的并根 據(jù)溫度逐漸固化的熱固性材料。此外,所述低折射材料優(yōu)選具有25mN/m以下,并且更優(yōu)選 5mN/m至25mN/m的表面能。在本發(fā)明中,優(yōu)選的是,基于100重量份的總涂料組合物,所述低折射材料的含量 為5至80重量份,而所述高折射材料的含量為10至90重量份。所述低折射-熱固性材料為折射率在1. 2至1. 45范圍內(nèi)的熱固性材料。例如,可 引起溶膠_凝膠反應(yīng)的烷氧基硅烷反應(yīng)物、氨基甲酸酯反應(yīng)基化合物、脲反應(yīng)基化合物、酯 化反應(yīng)物等可被用作所述低折射_熱固性樹脂。所述烷氧基硅烷反應(yīng)物為反應(yīng)低聚物,該反應(yīng)低聚物通過在水和催化劑條件下進 行烷氧基硅烷、氟化烷氧基硅烷、基于硅烷的有機取代基的水解和縮合經(jīng)溶膠_凝膠反應(yīng) 來制備。所述溶膠-凝膠反應(yīng)可采用本領(lǐng)域常用的任何方法。在0至150°C的反應(yīng)溫度下 進行包括烷氧基硅烷、氟化烷氧基硅烷、催化劑、水和有機溶劑的溶膠-凝膠反應(yīng)1至70小 時。在這種情況下,當使用聚苯乙烯作為參照材料通過GPC(凝膠滲透色譜法)測量時,所 述反應(yīng)低聚物烷氧基硅烷的平均分子量優(yōu)選為1,000至200,000。在涂覆后在等于或高于 室溫的溫度下進行縮合反應(yīng),以使如上所述制備的烷氧基硅烷反應(yīng)物形成具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的 網(wǎng)。所述烷氧基硅烷能夠賦予最外面的薄膜需要的水平的強度。具體而言,所述烷氧 基硅烷可采用四烷氧基硅烷或三烷氧基硅烷。同時,所述烷氧基硅烷優(yōu)選為選自四甲氧基 硅烷、四乙氧基硅烷、四異丙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基 丙基三甲氧基硅烷和環(huán)氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷中的至少一種,但不限于此?;?00重量份的所述烷氧基硅烷反應(yīng)物,基本單體烷氧基硅烷的含量優(yōu)選為5 至50重量份。如果含量小于5重量份,則難以獲得優(yōu)異的耐磨性。如果含量大于50重量 份,則難以實現(xiàn)烷氧基硅烷反應(yīng)物的低折射特性和從高折射材料的相分離。
所述氟化烷氧基硅烷降低了折射率和涂覆薄膜的表面張力以利于從高折射材料 的相分離。所述氟化烷氧基硅烷優(yōu)選為具有1. 3至1. 4的低折射率和10至15mN/m的低表 面張力的低折射材料。所述氟化烷氧基硅烷優(yōu)選為選自十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟 癸基三甲氧基硅烷和十七氟癸基三異丙氧基硅烷中的一種或多種,但不限于此。為了使烷氧基硅烷反應(yīng)物具有1. 2至1. 45的折射率并有利于從高折射材料的相 分離,基于100重量份的所述烷氧基硅烷反應(yīng)物,所述氟化烷氧基硅烷的含量優(yōu)選為10至 70重量份。如果含量小于10重量份,則難以實現(xiàn)低折射特性和從高折射材料的相分離。如 果含量大于70重量份,則難以確保溶液的穩(wěn)定和抗劃傷性。所述基于硅烷的有機取代基可以與烷氧基硅烷化學結(jié)合,與所述高折射材料形成 雙鍵以提高低折射材料和高折射材料的相容性,并且在相分離后提高烷氧基硅烷和高折射 材料的粘附性。因此,只要其具有上述功能,就可使用任何化合物而沒有限制。所述基于硅 烷的有機取代基優(yōu)選為選自乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三(日-甲氧基乙氧基)硅烷、乙
烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三正丙氧基硅烷、乙烯基三正戊氧基硅烷、乙烯基甲基二甲氧基 硅烷、聯(lián)苯基乙氧基乙烯基硅烷、乙烯基三異丙氧基硅烷、二乙烯基二(0-甲氧基乙氧基) 硅烷、二乙烯基二甲氧基硅烷、二乙烯基二乙氧基硅烷、二乙烯基二正丙氧基硅烷、二乙烯 基二(異丙氧基)硅烷、二乙烯基二正戊氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲 基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、甲基丙 烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷中的一種或多種,但不限于此。為了保持所述烷氧基硅烷反應(yīng)物在涂料溶液中的相容性和穩(wěn)定性,基于100重量 份的烷氧基硅烷反應(yīng)物,所述基于硅烷的有機取代基的含量優(yōu)選為0至50重量份。如果含 量大于50重量份,則難以實現(xiàn)低折射特性和從高折射材料的相分離。此外,如果不向其中 加入基于硅烷的有機取代基,所述低折射材料對高折射材料的相容性不足,因此涂料溶液 可能沒有混合均勻。在所述溶膠_凝膠反應(yīng)中使用的催化劑為控制溶膠_凝膠反應(yīng)時間所需的成分。 該催化劑優(yōu)選為如硝酸、鹽酸、硫酸和乙酸的酸,并且更優(yōu)選鋯或銦的鹽酸鹽、硝酸鹽、硫酸 鹽或乙酸鹽,但不限于此。與此相關(guān),基于100重量份的所述烷氧基硅烷反應(yīng)物,所述催化 劑的用量優(yōu)選為0. 1至10重量份。在所述溶膠-凝膠反應(yīng)中使用的水是水解和縮合所需的,并且基于100重量份的 所述烷氧基硅烷反應(yīng)物,其用量為5至50重量份。在所述溶膠-凝膠反應(yīng)中使用的有機溶劑是控制水解縮合物的分子量的成分。有 機溶劑優(yōu)選為選自醇、溶纖劑和酮中的一種溶劑或混合溶劑。與此相關(guān),基于100重量份的 所述烷氧基硅烷反應(yīng)物,所述有機溶劑的含量優(yōu)選為0. 1至50重量份。同時,所述氨基甲酸酯反應(yīng)基化合物可以通過醇和異氰酸酯化合物間的反應(yīng)來制 備,同時使用金屬催化劑。如果將包含金屬催化劑、具有兩個以上官能團的多官能異氰酸酯 和具有兩個以上官能團的多官能醇的溶液保持在等于或高于室溫的溫度下,就可以形成包 含氨基甲酸酯反應(yīng)基的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。在這種情況下,可將氟基引入醇或異氰酸酯中以實現(xiàn)低 折射特性并促使從高折射材料的相分離。所述含氟的多官能醇的實例可包括1禮111,411,411-全氟-1,4-丁二醇、1禮111,511,511-全氟-1,5-戊二醇、
1扎111,611,611-全氟-1,6-己二醇、1禮111,811,811-全氟-1,8-辛二醇、1禮111,911,911-全氟-1,9-壬二醇、1H,1H,10H, 10H-全氟-1,10-癸二醇、1H,1H,12H,12H-全氟-1,12-十二烷二醇、氟化三乙二醇和氟化四乙二醇,但不限于此。優(yōu)選使用脂肪族異氰酸酯、脂環(huán)異氰酸酯、芳香族異氰酸酯或雜環(huán)異氰酸酯作為 用于制備所述氨基甲酸酯反應(yīng)基化合物的異氰酸酯成分。具體而言,優(yōu)選使用二異氰酸酯, 例如1,6_己二異氰酸酯、1,3,3-三甲基己二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、甲苯-2,6-二 異氰酸酯和4,4' - 二環(huán)己烷二異氰酸酯;或者三個以上官能團的異氰酸酯,例如由DIC公 司制備的DN950和DN980(商品名)作為異氰酸酯成分。在本發(fā)明中,可以使用催化劑來制備所述氨基甲酸酯反應(yīng)基化合物。路易斯酸 或路易斯堿可以用作催化劑。所述催化劑的具體實例可以包括辛酸錫、二乙酸二丁錫、 二月桂酸二丁錫、硫醇二丁錫(dibutyltin mercaptide)、馬來酸氫二丁錫(dibutyltin dimaleate)和氫氧化二甲錫和三乙胺,但并不限于此。優(yōu)選設(shè)定用于制備所述氨基甲酸酯反應(yīng)基化合物的異氰酸酯和多官能醇的含量, 以使官能團NC0基團與0H基團的摩爾比(NC0/0H)優(yōu)選為0. 5至2,并且更優(yōu)選為0. 75至 1.1。如果官能團之間的摩爾比小于0.5或者大于2,則未反應(yīng)的官能團會增加。因此,可能 存在所述膜的強度降低的問題。通過胺與異氰酸酯之間的反應(yīng)可以制備所述脲反應(yīng)基化合物??梢允褂卯惽杷狨?來制備所述脲反應(yīng)基化合物,該異氰酸酯與用于制備氨基甲酸酯反應(yīng)基化合物的異氰酸酯 相同。具有兩個以上官能團的全氟胺可被用作所述胺。如有必要,可以在本發(fā)明中使用催 化劑。路易斯酸或者路易斯堿可被用作催化劑。所述催化劑的具體的實例包括辛酸錫、二 乙酸二丁錫、二月桂酸二丁錫、硫醇二丁錫、馬來酸氫二丁錫、氫氧化二甲錫和三乙胺,但不 限于此。通過酸與醇之間的脫水和縮合反應(yīng)可以得到酯化反應(yīng)物。如果也將酯化反應(yīng)物混 合于涂料溶液中,則可以形成具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的膜。優(yōu)選地,將具有兩個以上官能團的含氟酸 用作所述酸。其具體的實例可以包括全氟琥珀酸、全氟戊二酸、全氟己二酸、全氟辛二酸、全 氟壬二酸、全氟癸二酸和全氟月桂酸。優(yōu)選地,將多官能醇用作所述醇。所述所官能醇的具 體實例包括1,4-丁二醇、1,2-丁二醇、1,5-戊二醇、2,4-戊二醇、1,4-環(huán)己二醇、1,6-己二 醇、2,5_己二醇、2,4_庚二醇、季戊四醇和三羥甲基丙烷,但不限于此。例如硫酸的酸催化 劑或者例如四丁氧基鈦(tetrabutoxytitan)的烷氧基鈦(alkoxytitan)可以用于酯化反 應(yīng)中。然而,用于酯化反應(yīng)中的材料并不限于上述材料。所述高折射材料為具有1. 45至2的折射率的樹脂,該折射率相對高于所述低折射 材料的折射率,并且所述高折射材料和低折射材料的固化產(chǎn)品間的表面能差異為5mN/m以 上。優(yōu)選的是,所述高折射材料的固化產(chǎn)品的表面能比所述低折射材料的表面能高5mN/m 以上。所述高折射材料優(yōu)選為高折射紫外線固化樹脂。用于高折射紫外線固化樹脂的材 料可包含丙烯酸酯樹脂、光敏引發(fā)劑和溶劑,如有必要,還包含表面活性劑。所述丙烯酸酯樹脂的實例可包括丙烯酸酯單體、氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物、環(huán)氧丙烯酸酯低聚物和酯 丙烯酸酯低聚物。紫外線固化樹脂可含有取代基,例如硫、氯和金屬,或者芳香族材料以獲 得高折射率。其實例可包括二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三/四丙烯酸酯、三亞甲基丙 烷三丙烯酸酯、二丙烯酸乙二醇酯、9,9_雙(4_(2_丙烯酰氧基乙氧基苯基)氟(折射率 1. 62)、雙(4-甲基丙烯酰氧基苯硫基)硫化物(折射率1. 689)和雙(4-乙烯基苯硫基) 硫化物(折射率1.695)。可使用上述一種化合物或兩種以上化合物的混合物。基于100重量份的所述高折射材料,所述丙烯酸酯樹脂的含量優(yōu)選為10至80重 量份。如果含量小于10重量份,會出現(xiàn)涂膜的抗劃傷性和耐磨性下降的問題,并且涂料溶 液的粘度明顯下降而不能轉(zhuǎn)移到涂覆機器和基板上。如果含量大于80重量份,則由于涂料 溶液的高粘度而難以實現(xiàn)從低折射材料的相分離,并且存在涂膜的平整度和涂覆性能下降 的問題。所述光敏引發(fā)劑優(yōu)選為通過UV可降解的化合物,其實例可包括1-羥基環(huán)己基苯 基甲酮、芐基二甲基縮酮、羥基二甲基苯乙酮、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異 丙醚和苯偶姻丁醚。基于100重量份的所述高折射材料,優(yōu)選使用1至20重量份的量的光敏引發(fā)劑。 如果含量小于1重量份,可能不會出現(xiàn)合適的固化。如果含量大于20重量份,涂膜的抗劃 傷性和耐磨性可能會下降。所述溶劑的實例可包括醇、乙酸酯、酮、芳香族溶劑等。該溶劑的具體實例可包括 甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、2-異丙氧基乙醇、 乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲乙酮、甲基異丁基酮、環(huán)己烷、環(huán)己酮、甲苯、二甲苯和苯, 但不限于此?;?00重量份的所述高折射材料,所述溶劑的優(yōu)選用量為10至90重量份。如 果含量小于10重量份,則由于涂料溶液的高粘度而難以實現(xiàn)從所述低折射材料的相分離, 并且存在涂膜的平整度可能下降的問題。如果含量大于90重量份,會存在涂膜的抗劃傷性 和耐磨性可能下降并且涂料溶液的粘度可能明顯下降而不能轉(zhuǎn)移到涂覆機器和基板上的 問題。所述高折射紫外線固化樹脂可進一步包含表面活性劑。所述表面活性劑的實例可 包括均化劑或潤濕劑,具體而言是氟化合物或聚硅氧烷化合物,但不限于此。基于100重量份的所述高折射材料,所述表面活性劑的優(yōu)選用量為5重量份。如 果含量大于5重量份,則難以實現(xiàn)從所述低折射材料的相分離,并且存在對基板的粘附性、 涂膜的抗劃傷性和耐磨性可能下降的問題?;?00重量份的所述高折射材料,優(yōu)選加入 0. 05以上重量份的量的所述表面活性劑,以獲得其足夠的作用。在完成干燥和固化工藝后,上述低折射材料和高折射材料的固化產(chǎn)品的折射率差 異優(yōu)選為0.01以上。在這種情況下,所述單層涂層功能性地形成了由兩個以上的層構(gòu)成的 GRIN(梯度折射率)結(jié)構(gòu),從而獲得減反射作用。與此相關(guān),當固化的低折射材料具有25mN/ m以下的表面能,且低折射材料和高折射材料間的表面能差異為5mN/m以上時,會有效地出 現(xiàn)相分離。根據(jù)本發(fā)明用于減反射的涂料組合物可進一步包含氟化化合物和納米粒子分散 液中的至少一種以利于低折射材料和高折射材料的相分離。
優(yōu)選的是氟化化合物的折射率為1. 5以下,分子量小于低折射材料,且表面能在 高折射材料和低折射材料的表面能之間。基于100重量份的總涂料組合物,所述氟化化合 物優(yōu)選的含量為0. 05至72重量份。所述氟化化合物為低折射-熱固性樹脂,如氟化烷氧基硅烷、氟化醇、氟化異氰酸 酯、氟化胺和含氟的具有兩個以上官能團的酸,并且優(yōu)選為選自示例的氟化化合物;進一步 含有Ci-C;直鏈或支鏈烴基作為取代基的一種或多種氟化丙烯酸酯(其由下面的通式1至5 表示);如含氟的均化齊IJ、分散齊IJ、表面改性劑、潤濕劑、消泡劑和增容劑的多種氟化添加劑 以及氟化溶劑中的一種或多種材料。[通式1] 其中,禮為-11或(1-(6烴基,a為0至4的整數(shù),以及b為1至3的整數(shù)。所述Q-C; 烴基優(yōu)選為甲基(-ch3)。[通式2] 其中,c為1至10的整數(shù)。[通式3] 其中,d為1至9的整數(shù)。[通式4] 其中,e為1至5的整數(shù)。[通式5] 其中,f為4至10的整數(shù)。優(yōu)選在保持涂膜的低折射特性、涂膜的強度和對顯示基板的粘附性的范圍內(nèi)使用 所述氟化化合物,具體而言,基于100重量份的所述低折射材料,其量為1至90重量份。優(yōu)選的是,所述納米粒子分散液含有平均粒度為1,OOOnm以下,優(yōu)選1至200nm,并 且更優(yōu)選2至lOOnm的納米粒子,以獲得無可見光散射或漫射的透明膜。所述納米粒子分 散液優(yōu)選具有1. 45以下的折射率。所述納米粒子分散液可進一步包含增強分散的螯合劑、 氟化丙烯酸酯、溶劑等。基于100重量份的總涂料組合物,所述納米粒子分散液的優(yōu)選含量 為2至27重量份。所述納米粒子可為金屬氟化物、其他有機/無機中空和多孔粒子。具體而言,金屬 氟化物為平均粒度為10至lOOnm的粒子,并且包括選自NaF、LiF、AlF3、Na5Al3F14、Na3AlF6、 MgF2、NaMgF3和YF3中的一種或多種。優(yōu)選在保持涂膜的低折射特性、涂膜的強度和對顯示基板的粘附性的范圍內(nèi)使用 所述納米粒子?;?00重量份的所述納米粒子分散液,所述納米粒子的優(yōu)選含量為5重 量份至70重量份。所述增強分散的螯合劑是用于使高折射材料和低折射材料與納米粒子間具有相 容性、從而使納米粒子不易結(jié)塊并且還防止涂膜起霧的液體成分。如果需要,可以加入所 述增強分散的螯合劑。所述增強分散的螯合劑優(yōu)選采用選自Mg(CF3C00)2、Na(CF3C00)、 K(CF3C00)、Ca(CF3C00)2、Mg (CF2C0CHC0CF3) 2、Na (CF2C0CHC0CF3)、Zr (AcAc)、Zn (AcAC)、 Ti (AcAc)和A1 (AcAc)中的一種或多種材料,其中AcAc為乙酰基丙酮。此外,所述溶劑可優(yōu)選為DAA、AcAc和溶纖劑,但不限于此。優(yōu)選在保持納米粒子的分散性、涂膜的強度和對顯示基板的粘附性的范圍內(nèi)使用 所述增強分散的螯合劑。具體而言,基于100重量份的所述納米粒子分散液,所述增強分散 的螯合劑的優(yōu)選用量為10至80重量份。所述氟化丙烯酸酯用于使高折射材料和低折射材料具有相容性并通過化學結(jié)合 使膜具有一定的強度,其可為選自由通式1至5表示的并進一步含有Ci-C;烴基作為取代基 的化合物中的一種或多種材料。基于100重量份的所述納米粒子分散液,所述氟化丙烯酸 酯的優(yōu)選用量為80重量份以下。用于所述納米粒子分散液的溶劑的實例可包括醇、乙酸酯、酮或芳香族溶劑,具體 而言為甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2- 丁氧基乙醇、2-異丙氧 基乙醇、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲乙酮、甲基異丁基酮、環(huán)己烷、環(huán)己酮、甲苯、二甲 苯、苯等?;?00重量份的所述納米粒子分散液,所述溶劑的優(yōu)選用量為10至90重量份。本發(fā)明提供了一種采用上述用于減反射的涂料組合物來制備的減反射膜,以及制備該減反射膜的方法。制備根據(jù)本發(fā)明的制備減反射膜的方法包括下列步驟a)制備上述用于減反射的涂料組合物;b)將所述涂料組合物涂覆在基板上以形成涂層;c)干燥所述涂層以使低折射材料和高折射材料相分離;以及d)固化干燥的涂層。在步驟b)中,所述基板可為玻璃、塑料片和膜,且其厚度沒有限制。塑料膜的實例 可包括三醋酸纖維素膜、降冰片烯環(huán)烯烴聚合物膜、聚酯膜、聚甲基丙烯酸酯膜和聚碳酸酯 膜,但不限于此。在步驟b)中,涂覆所述涂料組合物的方法可采用如棒涂法、兩輥或三輥逆向涂覆 法、凹版涂覆法、模壓涂覆法(die coating)、微凹版涂覆法和連續(xù)涂覆法(comma coating) 的多種方法,可根據(jù)基板和涂料溶液的液相或流變學性質(zhì)來選擇涂覆方法而沒有任何限 制。并不特別限制涂層的厚度,但優(yōu)選為0. 5至30 y m,并在涂覆工藝后進行用于干燥 溶劑的干燥工藝。在干燥工藝后,如果涂層的厚度小于0.5 ym,則不能充分改進耐磨性。如 果涂層的厚度大于30 u m,則難以實現(xiàn)低折射材料和高折射材料的相分離,從而不能獲得所 需的折射特性。在步驟c)中,可在40至150°C的溫度下進行干燥工藝0. 1至30分鐘從而從涂料 組合物中除去有機溶劑并逐漸固化涂層上部的低折射材料。如果溫度低于40°C,則不能完 全除去有機溶劑而使UV固化時的固化程度下降。如果溫度高于150°C,可能會在低折射材 料定位在涂層上部之前就發(fā)生固化。在步驟d)中,根據(jù)所用樹脂的類型可通過UV或加熱來進行固化工藝。當同時使 用熱固性和UV固化樹脂時,首先進行UV固化工藝,接著進行熱固化工藝??稍?. 01至2J/cm2的UV輻照劑量下進行UV固化工藝1至600秒以使涂層具有 足夠的耐磨性。如果UV輻照劑量不在上述范圍內(nèi),則涂層上保留了未固化的樹脂,因此表 面變粘而不能確保耐磨性。如果UV輻照劑量超過上述范圍,則UV固化樹脂的數(shù)量增加太 多,因此可能在熱固化步驟中妨礙熱固性樹脂的固化??稍?0至200°C下進行熱固化1至72小時。如果溫度小于20°C,則固化率太低 而不能減少固化時間。如果溫度大于200°C,則涂覆基板的穩(wěn)定性會存在問題。固化工藝優(yōu) 選進行1至72小時,并且為了使涂層的抗劃傷性最大化,熱固性樹脂應(yīng)被充分固化。使用上述用于減反射的涂料組合物制備的根據(jù)本發(fā)明的減反射膜包括單層涂層, 該單層涂層包含折射率為1. 2至1. 45的低折射樹脂和折射率為1. 46至2的高折射材料, 優(yōu)選進一步包含氟化化合物和納米粒子分散液中的至少一種,其中兩種材料間的表面能差 異為5mN/m以上,并且低折射材料和高折射材料已經(jīng)在厚度方向上具有了濃度梯度。所述 減反射膜可進一步包括施加在涂層一個面上的基板。在減反射膜內(nèi),基于低折射材料的總重量,包含在從涂層面向空氣的表面起在厚 度方向相當于50%的區(qū)域內(nèi)的低折射材料優(yōu)選為70%以上,更優(yōu)選85%以上,并且最優(yōu)選 95%以上。根據(jù)本發(fā)明的減反射膜的反射率為小于3%,從而顯現(xiàn)出優(yōu)異的減反射作用。此外,本發(fā)明提供了 一種包括根據(jù)本發(fā)明的上述減反射膜的偏光片。具體而言,根據(jù)本發(fā)明的偏光片包括a)偏光膜,和b)施加在所述偏光膜的至少一面上的根據(jù)本發(fā)明的 減反射膜。在偏光膜和減反射膜之間可以設(shè)置保護膜。此外,實際上可將在制備減反射膜的 過程中用于形成單層涂層的基板用作保護膜。偏光膜和減反射膜可通過粘合劑彼此結(jié)合。 可使用本領(lǐng)域已知的偏光膜。本發(fā)明提供了一種顯示器件,其包括減反射膜或偏光片。所述顯示器件可為液晶 顯示器或等離子體顯示器。除了設(shè)置有根據(jù)本發(fā)明的減反射膜這一情況外,根據(jù)本發(fā)明的 顯示器件可具有本領(lǐng)域已知的結(jié)構(gòu)。例如,在根據(jù)本發(fā)明的顯示器件中,可將減反射膜設(shè)置 在顯示面板朝向觀眾的最外面的表面上或設(shè)置在其朝向背光源的最外面的表面上。此外, 根據(jù)本發(fā)明的顯示器件可包括顯示面板、設(shè)置在該面板的至少一個面上的偏光膜和設(shè)置在 偏光膜朝向面板一側(cè)的相對側(cè)的減反射膜。最佳實施方式在下文中,為了更好理解本發(fā)明提供了優(yōu)選的實施例。然而,這些實施例僅為了示 例的目的,而非意欲通過這些實施例來限制本發(fā)明。
實施例制備實施例低折射-熱固性材料(材料A)的制備均勻地混合15. 3重量份的DN 980 (由DIC公司生產(chǎn))(其中異氰酸酯官能團的平 均數(shù)為3)、14重量份的含氟的雙官能醇1H,1H,12H,12H-全氟-1,12-十二烷二醇、作為金 屬催化劑的0. 7重量份的二月桂酸二丁錫以及作為溶劑的各35重量份的雙丙酮醇(DAA) 和甲乙酮(MEK)來制備低折射-熱固性溶液。低折射-熱固性材料(材料B)的制備將10重量份的四乙氧基硅烷、30重量份的十七氟癸基三甲氧基硅烷、20重量份的 甲基丙烯?;籽趸柰?、10重量份的水、0. 5重量份的鹽酸、40重量份的乙醇和40重量 份的2- 丁醇的混合物在室溫下進行溶膠-凝膠反應(yīng)12小時來制備低折射-熱固性溶液。低折射-熱固性材料(材料C)的制備將25重量份的氟代烷基甲氧基硅烷、20重量份的四乙氧基硅烷、7重量份的3-甲 基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、7. 5重量份的水、0. 5重量份的硝酸、20重量份的甲醇和 20重量份的2- 丁醇的混合物在室溫下進行溶膠-凝膠反應(yīng)24小時來制備低折射-熱固性 溶液。低折射-熱固性材料(材料D)的制備將15重量份的氟代烷基甲氧基硅烷、25重量份的四乙氧基硅烷、12重量份的 3-甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷、7. 5重量份的水、0. 5重量份的硝酸、20重量份的甲醇和 20重量份的2- 丁醇的混合物在室溫下進行溶膠-凝膠反應(yīng)24小時來制備低折射-熱固性 溶液。高折射-UV固化材料(材料E)的制備均勻地混合28重量份的二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)(作為用于提高涂膜強度 的多官能丙烯酸酯)、2重量份的作為UV引發(fā)劑的Darocur 1173以及各35重量份的作為 溶劑的雙丙酮醇(DAA)和甲乙酮(MEK)來制備高折射-UV固化溶液。
高折射-UV固化材料(材料F)的制備均勻地混合30重量份的二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)(作為用于提高涂膜的強 度的多官能丙烯酸酯)、1重量份的作為UV引發(fā)劑的Darocur 1173、20重量份的乙醇、29重 量份的正丁醇和20重量份的作為溶劑的乙酰丙酮(AcAc)來制備高折射-UV固化溶液。低折射-熱固性材料(材料G)的制備將5重量份的氟代烷基乙氧基硅烷、37重量份的四甲氧基硅烷、10重量份的乙烯 基三甲氧基硅烷、7. 5重量份的水、0. 5重量份的硝酸和40重量份的甲醇的混合物在室溫下 進行溶膠_凝膠反應(yīng)24小時來制備低折射-熱固性溶液。高折射-UV固化材料(材料H)的制備均勻地混合20重量份的季戊四醇三/四丙烯酸酯(作為用于提高涂膜強度的 多官能丙烯酸酯)、10重量份的三亞甲基丙烷三丙烯酸酯、1重量份的作為UV引發(fā)劑的 Darocur 1173、作為表面活性劑的5重量份的BYK 333和4重量份的BYK371以及作為溶劑 的20重量份的乙醇、20重量份的正丁醇和20重量份的甲乙酮(MEK)來制備高折射-UV固 化溶液。實施例1均勻地混合30重量份的低折射_熱固性材料A和70重量份的高折射-UV固化材 料E來制備用于減反射的涂料組合物。使用線棒(wire bar) (No. 5)將制得的組合物涂覆在厚度為80 y m的三醋酸纖維 素膜上。在60°C烘箱內(nèi)干燥該膜2分鐘,并通過輻照lj/cm2劑量的UV來固化,接著在120°C 烘箱內(nèi)熱固化1天。最終的涂層厚度為1 P m,并在透射電子顯微鏡下觀察橫截面,其顯示在 圖1中。參照圖1,發(fā)現(xiàn)在基板上以層結(jié)構(gòu)分別形成了高折射材料層和低折射材料層。與單 層結(jié)構(gòu)相比,當由具有不同折射率的材料形成層結(jié)構(gòu)時,能夠獲得更有效的反射率。實施例2除了用材料B代替材料A作為低折射-熱固性材料外,以與實施例1中相同的方 法制備膜。實施例3均勻地混合25重量份的低折射_熱固性材料C和75重量份的高折射-UV固化材 料F來制備相容的混合溶液,生成涂料組合物。使用線棒(No. 5)將制得的涂料組合物涂覆在厚度為80 y m的三醋酸纖維素膜上。 在120°C烘箱內(nèi)干燥該膜2分鐘,并通過輻照200mJ/cm2劑量的UV來固化,接著在120°C烘 箱內(nèi)熱固化1天。最終的涂層厚度為lPm。實施例4均勻地混合30重量份的低折射_熱固性材料A和70重量份的高折射-UV固化材 料F來制備相容的涂料組合物。使用該組合物以與實施例3中相同的方式制備涂膜。實施例5均勻地混合20重量份的低折射-熱固性材料C、75重量份的高折射-UV固化材 料F和5重量份的作為氟化化合物的丙烯酸三氟乙酯來制備相容的用于減反射的涂料組合 物。使用該組合物以與實施例3中相同的方式制備涂膜。
實施例6均勻地混合25重量份的低折射-熱固性材料A、70重量份的高折射_UV固化材 料F和5重量份的作為氟化化合物的丙烯酸三氟乙酯來制備相容的用于減反射的涂料組合 物。使用該組合物以與實施例3中相同的方式制備涂膜。實施例7均勻地混合25重量份的低折射-熱固性材料D、70重量份的高折射_UV固化材 料F和5重量份的作為氟化化合物的丙烯酸三氟乙酯來制備相容的用于減反射的涂料組合 物。使用該組合物以與實施例3中相同的方式制備涂膜。實施例8均勻地混合22重量份的低折射_熱固性材料C、70重量份的高折射-UV固化材料 F和8重量份的作為氟化化合物的十三氟辛基三乙氧基硅烷來制備相容的用于減反射的涂 料組合物。使用該組合物以與實施例3中相同的方式制備涂膜。實施例9均勻地混合26重量份的低折射_熱固性材料C、70重量份的高折射-UV固化材料 F和4重量份的作為氟化化合物的Fluorad FC4430 (3M)來制備相容的用于減反射的涂料組 合物。使用該組合物以與實施例3中相同的方式制備涂膜。實施例10均勻地混合50重量份的10% MgF2-分散液、30重量份的三氟乙酸鎂和20重量份 的甲乙酮(MEK)來制備金屬氟化物-分散液。均勻地混合8重量份的低折射_熱固性材料C、75重量份的高折射UV固化材料F 和17重量份的所述金屬氟化物_分散液來制備相容的用于減反射的涂料組合物。使用該 組合物以與實施例3中相同的方式制備涂膜。實施例11除了用材料A代替材料C作為低折射-熱固性材料外,以與實施例10中相同的方 法制備涂料溶液和涂膜。實施例12均勻地混合25重量份的低折射_熱固性材料D、70重量份的高折射-UV固化材料 F和5重量份的在實施例10中制備的金屬氟化物-分散液來制備相容的用于減反射的涂料 組合物。使用該組合物以與實施例3中相同的方式制備涂膜。實施例13均勻地混合10重量份的平均粒度為30至40nm的NaMgF3和90重量份的異丙醇 (IPA)來制備金屬氟化物_分散液。除了使用該金屬氟化物_分散液外,以與實施例10中 相同的方式制備涂料溶液和涂膜。實施例14均勻地混合10重量份的平均粒度為20nm且空隙率為20%的中孔二氧化硅和90 重量份的甲醇來制備納米粒子分散液。除了使用該納米粒子分散液外,以與實施例10中相 同的方式制備涂料溶液和涂膜。對比實施例1僅使用高折射-UV固化材料E作為用于形成涂層的材料,并使用線棒(No. 5)將其涂覆在厚度為80 y m的三醋酸纖維素膜上。在60°C烘箱內(nèi)干燥該膜2分鐘,并通過輻照1J/ cm2劑量的UV固化來制備涂膜。涂膜的厚度為約1 P m。對比實施例2僅使用低折射-熱固性材料A作為用于形成涂層的材料,并使用線棒(No. 5)將其 涂覆在厚度為80 ym的三醋酸纖維素膜上。在120°C烘箱內(nèi)熱固化該膜1天來制備涂膜。 涂膜的厚度為約lym。對比實施例3僅使用低折射-熱固性材料B作為用于形成涂層的材料,并使用線棒(No. 5)將其 涂覆在厚度為80 ym的三醋酸纖維素膜上。在120°C烘箱內(nèi)熱固化該膜1天來制備涂膜。 涂膜的厚度為約lym。對比實施例4僅使用高折射-UV固化材料F作為用于形成涂層的材料,并使用線棒(No. 5)將 其涂覆在厚度為80 ym的三醋酸纖維素膜上。在120°C烘箱內(nèi)干燥該膜2分鐘,通過輻照 200mJ/cm2劑量的UV固化,并置于120°C烘箱內(nèi)1天。涂膜的厚度為約1 P m。對比實施例5均勻地混合25重量份的低折射-熱固性材料G、70重量份的高折射-UV固化材 料H和5重量份的作為氟化化合物的丙烯酸三氟乙酯來制備相容的用于減反射的涂料組合 物。以與實施例3中相同的方式使用該組合物來制備涂膜。對比實施例6均勻地混合25重量份的低折射_熱固性材料G、70重量份的高折射-UV固化材料 H和5重量份的在實施例10中制備的金屬氟化物-分散液來制備相容的用于減反射的涂料 組合物。以與實施例3中相同的方式使用該組合物來制備涂膜。試驗實施例將在制備實施例中制備的低折射材料和高折射材料用于制備固化產(chǎn)品,并測量其 折射率和表面能,將其顯示在表1中。用各種材料來制備固化產(chǎn)品的方法如下所述。使 用線棒(No. 5)將低折射-熱固性材料涂覆在厚度為80 ym的三醋酸纖維素膜上,并置于 120°C烘箱內(nèi)1天。除了將其在60°C烘箱內(nèi)干燥2分鐘并通過200mJ/cm2的劑量輻照UV 固化外,以與低折射材料相同的方式涂覆高折射-UV固化材料。采用棱鏡耦合器(Sairon Technology)來測量折射率,并采用滴形分析系統(tǒng)(Drop shape analysis system) DSA100 (KRUSS)來測量表面能,并以水和二碘甲烷(CH2I2)作為標樣。[表1] 由實施例和對比實施例的方法制備的涂膜的厚度為1 P m。如下所述,評測在實施 例和對比實施例中制備的減反射膜的耐磨性以及包括反射率、透明度和霧度的光學特性1)抗劃傷性的評測用鋼絲絨(#0000)在1kg的載荷下各種涂膜10次,然后評測出現(xiàn)的刮傷。2)反射率的評測用黑色處理涂膜的背側(cè),然后使用Solid Spec. 3700分光光度計(Shimadzu)測量 反射率以測定取決于最小反射率的減反射性能。3)透明度和霧度的評測使用HR-100 (Murakami,日本)來評測涂膜的透明度和霧度。反射率、透明度和霧度的評測結(jié)果顯示在下表2和3中。[表 2] [表 3] 如表2和3所示,在實施例1至14中制備的涂膜顯現(xiàn)出了良好的抗劃傷性從而具 有優(yōu)異的耐磨性,并顯現(xiàn)出優(yōu)異的光學特性(包括反射率、透明度和霧度)。同時,與實施例 的那些涂膜相比,在對比實施例1和4至6中制備的涂膜顯現(xiàn)出了較差的光學特性(包括 透明度和霧度)。由于在對比實施例2和3中制備的涂膜顯現(xiàn)除了較差的抗劃傷性,所以需 要另外的硬涂覆工藝。因此,出現(xiàn)加工效率降低的問題。根據(jù)實施例和對比實施例,根據(jù)本發(fā)明的減反射膜能夠通過一步涂覆法來制備, 從而提高了加工效率并降低了生產(chǎn)成本,并實現(xiàn)了優(yōu)異的減反射特性和耐磨性。參照優(yōu)選的實施方式已經(jīng)描述了本發(fā)明,盡管在本申請中采用了具體的術(shù)語,但本發(fā)明的范圍并不局限于這些具體的實施方式,而應(yīng)在隨附權(quán)利要求的基礎(chǔ)上理解該范圍。
權(quán)利要求
一種用于減反射的涂料組合物,其包含折射率為1.2至1.45的低折射材料和折射率為1.46至2的高折射樹脂,其中,兩種材料間的表面能差異為5mN/m以上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于減反射的涂料組合物,其中,所述低折射材料的表面能 為25mN/m以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于減反射的涂料組合物,其中,所述低折射材料為熱固性 樹脂而所述高折射材料為UV固化樹脂。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于減反射的涂料組合物,其中,所述低折射材料包含選自 引起溶膠-凝膠反應(yīng)的烷氧基硅烷反應(yīng)物、氨基甲酸酯反應(yīng)基化合物、脲反應(yīng)基化合物和 酯化反應(yīng)物中的一種或多種。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于減反射的涂料組合物,其中,所述高折射材料包含丙烯 酸酯樹脂、光敏引發(fā)劑和溶劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于減反射的涂料組合物,其中,基于100重量份的總的所述 涂料組合物,所述高折射材料的含量為10至90重量份而所述低折射材料的含量為5至80 重量份。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于減反射的涂料組合物,其中,所述低折射材料和高折射 材料的固化產(chǎn)品的折射率的差異為0.01以上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于減反射的涂料組合物,其中,所述用于減反射的涂料組 合物進一步包含氟化化合物和納米粒子分散液中的至少一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于減反射的涂料組合物,其中,所述氟化化合物的折射率 為1.5以下,其分子量比所述低折射材料的分子量小,并且表面能在高折射材料和低折射 材料的表面能之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于減反射的涂料組合物,其中,所述納米粒子分散液包含 平均粒度為1,OOOnm以下的納米粒子。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于減反射的涂料組合物,其中,所述納米粒子分散液的折 射率為1.45以下。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的用于減反射的涂料組合物,其中,所述納米粒子分散液進 一步包含增強分散的螯合劑、氟化丙烯酸酯和溶劑。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的用于減反射的涂料組合物,其中,所述納米粒子為金屬氟 化物或者為有機/無機中空或多孔的粒子。
14.一種制備減反射膜的方法,其包括下面的步驟a)制備根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項所述的用于減反射的涂料組合物;b)將所述涂料組合物涂覆在基板上以形成涂層;c)干燥所述涂層以使低折射材料和高折射材料相分離;以及d)固化干燥的涂層。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制備減反射膜的方法,其中,在步驟b)中,干燥的涂層的厚 度為1至30iim。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制備減反射膜的方法,其中,所述低折射材料為熱固性樹 脂而所述高折射材料為UV固化樹脂,并且步驟d)包括以下步驟dl)以0. 1至2J/cm2的劑 量通過輻照UV 1至600秒來固化所述高折射-UV固化樹脂;和d2)在20至200°C的溫度下固化所述低折射-熱固性樹脂1至72小時。
17.一種減反射膜,其采用根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項所述的用于減反射的涂料組 合物來制備,其中,所述減反射膜包括單層涂層,在該單層涂層中所述低折射材料和高折射 材料在厚度方向上具有濃度梯度。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的減反射膜,其中,所述減反射膜通過包括下列步驟的方法 制備a)制備用于減反射的涂料組合物,其含有折射率為1. 2至1. 45的低折射樹脂和折射 率為1. 46至2的高折射材料,并且兩種材料間的表面能差異為5mN/m以上;b)將所述涂料組合物涂覆在基板上以形成涂層;c)干燥所述涂層以使所述低折射材料和高折射材料相分離;以及d)固化干燥的涂層。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的減反射膜,其中,基于所述低折射材料的總重量,在從所述 單層涂層面向空氣的表面起在厚度方向相當于50%的區(qū)域內(nèi)包含的低折射材料為70%以 上。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的減反射膜,其中,反射率低于3%。
21.一種偏光片,其包括a)偏光膜;和b)權(quán)利要求17的減反射膜。
22.—種顯示器件,其包括根據(jù)權(quán)利要求17所述的減反射膜。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種用于減反射的涂料組合物,其包含折射率為1.2~1.45的低折射材料、折射率為1.46~2的高折射樹脂,其中,兩種材料間的表面能差異為5mN/m以上;一種使用所述用于減反射的涂料組合物制備的減反射膜;和一種制備所述減反射膜的方法。根據(jù)本發(fā)明,使用一種組合物通過一步涂覆法能夠制備具有優(yōu)異的耐磨性和減反射特性的減反射膜,從而可以降低制備成本。
文檔編號C09D1/00GK101855303SQ200880116007
公開日2010年10月6日 申請日期2008年11月13日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月13日
發(fā)明者尹漢植, 張影來, 金惠珉, 金芙敬 申請人:Lg化學株式會社