專利名稱：：簾式涂布設(shè)備和簾式涂布方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：0001本發(fā)明涉及一種簾式涂布設(shè)備和簾式涂布方法，并且更特別地，本發(fā)明涉及能夠避免簾式薄膜擺動、抑制液體沉積在邊緣引導(dǎo)件的爪上以及抑制簾式薄膜向內(nèi)偏離的簾式涂布設(shè)備及其方法。
背景技術(shù)：
：0002簾式涂布方法廣泛地用于例如照相膠片等照相感光材料的生產(chǎn)。對于簾式涂布方法，已知以下方法。一種是圖1所示的方法，其中從噴嘴切口中噴出的涂布液體3被允許通過簾式邊緣引導(dǎo)件2向著連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)的巻狀巻狀物5以類似簾式的方式自由落下，由此形成涂布薄膜。另一種是圖2所示的方法，其中從噴嘴切口中噴出的涂布液體3被允許在滑動表面7上移動并且之后通過簾式邊緣引導(dǎo)件2'向著連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)的巻狀物5以類似簾式的方式自由落下，由此形成涂布薄膜。此外，對于多層涂布方法，已知以下方法。一種方法是其中從各自的噴嘴切口中噴出的具有不同功能的涂布液體被允許通過簾式邊緣引導(dǎo)件向著連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)的巻狀物以類似簾式的方式自由落下，由此形成涂布薄膜。另一種方法是其中從各自的噴嘴切口中噴出的具有不同功能的涂布液體被允許在滑動表面上層覆，并且層覆后的液體之后被允許通過簾式邊緣引導(dǎo)件向著連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)的巻狀物以類似簾式的方式自由落下，由此形成涂布薄膜。0003注意，在圖1和圖2中，參考標(biāo)記4和6分別表示真空單元和支撐輥。0004然而，上述方法存在以下缺點(diǎn)。如圖1和2所示，真空單元4布置在與巻狀物5上的簾式涂布液體3的傳輸方向相對的部分處。真空單元4吸收由運(yùn)轉(zhuǎn)的巻狀物5拖拽的空氣以避免發(fā)生夾氣現(xiàn)象(該現(xiàn)象為由傳輸?shù)膸啝钗?拖拽的空氣在巻狀物5上的涂布液體3的傳送部分處陷入涂布在巻狀物5上的涂布液體3中，從而變?yōu)闅馀?。因此，如圖3所示，當(dāng)由傳輸?shù)膸啝钗?拖拽環(huán)境空氣時(shí)(由圖3中向下的實(shí)線箭頭表示)，真空單元4在涂布液體簾式薄膜3a的端部吸收環(huán)境空氣(由圖3中向上的實(shí)線箭頭表示)，使得空氣在圖3中由虛線箭頭指示的方向中流動。因此，涂布液體簾3a變得不穩(wěn)定，使得該涂布液體簾3a擺動。之后，涂布液體離開簾式邊緣引導(dǎo)件2，并且涂布液體簾式薄膜3a向內(nèi)偏離，結(jié)果涂布的寬度變得不穩(wěn)定。此外，這種向內(nèi)的偏離導(dǎo)致在涂布寬度方向上的端部處的涂布液體的過量沉積。因此，由于生產(chǎn)過程中的不均勻的涂布寬度使得產(chǎn)品的損耗增大。此外，當(dāng)涂布液體的沉積在涂布寬度方向上的端部過量時(shí)，在生成過程中由于不完全烘干而出現(xiàn)未干燥的部分，使得在生產(chǎn)期間涂布液體附著到巻狀物傳輸輥。這之后使得后續(xù)的巻狀物涂布表面被污染，導(dǎo)致在產(chǎn)品巻繞時(shí)的阻塞，或者導(dǎo)致巻狀物由于端部的提升而在巻繞時(shí)被切割，由此降低了生產(chǎn)效率。注意，在圖3中，參考標(biāo)記3b、4和6分別表示涂布液體(在巻狀物上)、真空單元和支撐輥。0005在圖4A中所示的簾式涂布中，為了穩(wěn)定簾式薄膜102的目的，用于引導(dǎo)簾式形式的涂布液體的簾式邊緣引導(dǎo)件101允許輔助液體103流動從而使簾式薄膜的邊緣流速變得接近簾式薄膜的中心流速。輔助液體從簾式邊緣引導(dǎo)件101的底邊緣吸取從而被收集。然而，在收集輔助液體的同時(shí)還收集涂布液體，并且由此，如圖4C所示，液體107的沉積累積在簾式邊緣引導(dǎo)件的爪104和吸取端口105上。這是因?yàn)闅饬髦械囊徊糠挚煊谄渌糠郑@是由收集輔助液體時(shí)爪的涂布液體接觸表面處簾式薄膜102的巻狀物傳輸方向側(cè)上和另一側(cè)上的空氣-液體分界面上的巻狀空氣吸取導(dǎo)致的。因此，涂布液體在具有爪的接觸部分處的流動變得緩慢，并且緩慢流動的涂布液體變千。此外，由于簾式薄膜102的擺動大，則液體107在簾式邊緣引導(dǎo)件101的底部爪處的沉積量隨著連續(xù)生產(chǎn)的時(shí)間而變大。之后，因?yàn)橐后w沉積的存在，由爪的邊緣支撐的簾式薄膜102過濾到保持部件，并且此時(shí)，簾式薄膜的位置從輔助液體103的位置移開，簾式薄膜接觸邊緣引導(dǎo)件的框架(簾式薄膜的邊緣的流速變得緩慢)，并且發(fā)生簾式薄膜102的向內(nèi)偏離。由此，出現(xiàn)的問題是關(guān)于涂布寬度方向上的邊緣部分的沉積量變大。因此，由于涂布寬度在生產(chǎn)時(shí)的不均勻，使得產(chǎn)品損耗增大。此外，由于關(guān)于涂布寬度方向上的邊緣的沉積量大，由于生產(chǎn)中劣等的烘干而生成未干燥的部分。由此，涂布液體在生產(chǎn)期間粘附到巻狀物的傳輸輥，并且此后所粘附的涂布液體可能污染涂布有薄膜的巻狀物的表面，或者可能在最終產(chǎn)品被巻起時(shí)引起阻塞。此外，由于邊緣部分被抬高，巻狀物可能在巻起時(shí)被切割或分離。因此，存在的問題是使得生產(chǎn)效率降低。0006注意，除非特別說明，否則在圖4A中，箭頭顯示了巻狀物的傳輸方向，在圖4B中，箭頭顯示了輔助液體的吸收，并且在圖4C中，箭頭顯示了空氣的吸收。0007為了避免涂布液體簾式薄膜的這種擺動和向內(nèi)偏離，提出了以下方法。日本專利申請?zhí)亻_平(JP-A)No.11-188299公開了一種簾式涂布方法，其中簾式邊緣引導(dǎo)件采用多孔材料，并且輔助液體均勻地流入簾式邊緣引導(dǎo)件和簾式涂布液體之間的接觸表面。JP-ANo.2001-46939公開了一種簾式涂布方法，其中板狀玻璃被布置在簾式邊緣引導(dǎo)件和簾式涂布液體之間的接觸面處。JP-ANo.2003-71353公開了一種簾式涂布方法，其中在由簾式薄膜擋住的支撐構(gòu)件的傳輸方向上的上游側(cè)中的空間的壓力被減小。0008然而，在JP-ANo.11-188299，No.2001-46939和No,2003-71353中公開的以上簾式涂布方法中，未解決的是在涂布液體簾式薄膜的端部處拖拽環(huán)境空氣從而使得涂布液體簾式薄膜不穩(wěn)定進(jìn)而導(dǎo)致該涂布液體簾式薄膜擺動的問題。此外，涂布液體的沉積累積在邊緣引導(dǎo)件的爪上，涂布液體離開簾式邊緣引導(dǎo)件，并且涂布液體簾式薄膜向內(nèi)偏離，導(dǎo)致不穩(wěn)定的涂布寬度、不良的產(chǎn)品和生產(chǎn)效率的下降。
發(fā)明內(nèi)容0009本發(fā)明鑒于本領(lǐng)域中固有的以上問題而產(chǎn)生，并且本發(fā)明的目的是提供一種簾式涂布設(shè)備和簾式涂布方法，從而能夠避免因簾式薄膜的端部周圍空氣的影響而導(dǎo)致的涂布液體簾式薄膜的不穩(wěn)定運(yùn)動，避免了邊緣引導(dǎo)件的爪上的涂布液體的沉積，并且避免了簾式薄膜的向內(nèi)偏離。0010解決以上問題的裝置如下所述(1)一種簾式涂布設(shè)備，其包括噴射單元，其具有用于噴射涂布液體的切口；引導(dǎo)單元，其被構(gòu)造為將從切口噴射出的涂布液體以類似簾式的方式引導(dǎo)到支撐構(gòu)件上；以及傳輸單元，其被構(gòu)造為傳輸支撐構(gòu)件，其中所述引導(dǎo)單元包括提供在以類似簾式的方式噴射的涂布液體關(guān)于切口的開口方向的兩個端部處的簾式邊緣引導(dǎo)部分；以及擋風(fēng)板，其被布置為接觸簾式邊緣引導(dǎo)部分。(2)根據(jù)(1)中所述的簾式涂布設(shè)備，其中引導(dǎo)單元包括滑動表面，并且所述噴射單元將涂布液體噴射到滑動表面上。(3)根據(jù)(2)中所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述引導(dǎo)單元包括位于滑動表面關(guān)于切口的開口方向的兩個端部處的滑動表面簾式邊緣引導(dǎo)部分。(4)根據(jù)(1)-(3)中任一項(xiàng)所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述噴射單元包括多個切口。(5)根據(jù)(1)-(4)中任一項(xiàng)所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板被布置在簾式邊緣引導(dǎo)部分關(guān)于支撐構(gòu)件的傳輸方向的相對側(cè)上。(6)根據(jù)(5)所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板布置為與支撐構(gòu)件的傳輸方向平行并且與支撐構(gòu)件垂直。(7)根據(jù)(5)所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板布置為與支撐構(gòu)件的傳輸方向及支撐構(gòu)件垂直。(8)根據(jù)(1)-(7)中任一項(xiàng)所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板在與支撐構(gòu)件平行的方向上具有10mm或更大的長度。(9)根據(jù)(1)-(8)中任一項(xiàng)所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板在與支撐構(gòu)件垂直的方向上具有10mm或更大的長度。(10)根據(jù)(1)-(9)中任一項(xiàng)所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述簾式邊緣引導(dǎo)部分和支撐構(gòu)件之間的距離小于或等于擋風(fēng)板和支撐構(gòu)件之間的距離。(11)根據(jù)(10)所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述簾式邊緣引導(dǎo)部分和支撐構(gòu)件之間的距離比擋風(fēng)板和支撐構(gòu)件之間的距離小Omm-10mm。(12)根據(jù)(1)-(11)中任一項(xiàng)所述的簾式涂布設(shè)備，其中支撐構(gòu)件側(cè)的擋風(fēng)板的下端傾斜從而使更靠近簾式邊緣引導(dǎo)部分的下端部分更靠近支撐構(gòu)件。(13)根據(jù)(12)所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板的下端的傾斜角度是O.l。至40°。(14)一種簾式涂布方法，該方法包括從切口噴射涂布液體；通過引導(dǎo)單元將從切口噴射出的涂布液體以類似簾式的方式引導(dǎo)到支撐構(gòu)件上；并且傳輸支撐構(gòu)件，其中引導(dǎo)單元包括被提供在以類似簾式的方式噴射的涂布液體關(guān)于切口的開口方向上的兩個端部處的簾式邊緣引導(dǎo)部分，以及布置為接觸簾式邊緣引導(dǎo)部分的擋風(fēng)板。(15)根據(jù)(14)所述的簾式涂布方法，其中所述引導(dǎo)單元包括滑動表面，并且所述噴射為將涂布液體噴射到滑動表面上。(16)根據(jù)(15)所述的簾式涂布方法，其中所述引導(dǎo)單元包括位于滑動表面關(guān)于切口的開口方向的兩個端部處的滑動表面簾式邊緣引導(dǎo)部分。(17)根據(jù)(14)-(16)中的任一項(xiàng)所述的簾式涂布方法，其中所述噴射是自多個切口噴射涂布液體。(18)根據(jù)(14)-(17)中的任一項(xiàng)所述的簾式涂布方法，其中所述擋風(fēng)板布置在簾式邊緣引導(dǎo)部分關(guān)于支撐構(gòu)件的傳輸方向的相對側(cè)上。(19)根據(jù)(18)所述的簾式涂布方法，其中所述擋風(fēng)板布置為與支撐構(gòu)件的傳輸方向平行并且與支撐構(gòu)件垂直。(20)根據(jù)(18)所述的簾式涂布方法，其中所述擋風(fēng)板布置為與支撐構(gòu)件的傳輸方向及支撐構(gòu)件垂直。(21)根據(jù)(14)-(20)中任一項(xiàng)所述的簾式涂布方法，其中所述擋風(fēng)板在與支撐構(gòu)件平行的方向上具有10mm或更大的長度。(22)根據(jù)(14)-(21)中任一項(xiàng)所述的簾式涂布方法，其中所述擋風(fēng)板在與支撐構(gòu)件垂直的方向上具有10mm或更大的長度。(23)根據(jù)(14)-(22)中任一項(xiàng)所述的簾式涂布方法，其中所述簾式邊緣引導(dǎo)部分和支撐構(gòu)件之間的距離小于或等于擋風(fēng)板和支撐構(gòu)件之間的距離。(24)根據(jù)(23)所述的簾式涂布方法，其中所述簾式邊緣引導(dǎo)部分和支撐構(gòu)件之間的距離比擋風(fēng)板和支撐構(gòu)件之間的距離小0mm-10mm。(25)根據(jù)(14)-(24)中任一項(xiàng)所述的簾式涂布方法，其中支撐構(gòu)件側(cè)的擋風(fēng)板的下端傾斜從而使下端更靠近簾式邊緣引導(dǎo)部分的部分更靠近支撐構(gòu)件。(26)根據(jù)(25)所述的簾式涂布方法，其中所述擋風(fēng)板的下端的傾斜角度是O.l。至40°。0011根據(jù)本發(fā)明，一種簾式涂布設(shè)備和簾式涂布方法能夠避免由涂布液體簾式薄膜的端部周圍的環(huán)境空氣引起的簾式薄膜的不穩(wěn)定的擺動，避免了邊緣引導(dǎo)件的爪上的涂布液體的沉積，并且避免了簾式薄膜的向內(nèi)偏離。0012圖1是傳統(tǒng)的簾式涂布設(shè)備的構(gòu)造示例的橫截面透視0013圖2是傳統(tǒng)的簾式涂布設(shè)備的另一個構(gòu)造示例的橫截面透視0014圖3是傳統(tǒng)的簾式涂布設(shè)備的俯視圖，該俯視圖示出了涂布液體簾式薄膜端部周圍部分的構(gòu)造；0015圖4A是示出了傳統(tǒng)的簾式涂布設(shè)備的透視0016圖4B是圖4A中的放大的部分視0017圖4C是說明用于在簾式涂布期間在爪上形成沉積的機(jī)構(gòu)的圖示；0018圖5A是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備的示意0019圖5B是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備在操作時(shí)的示意0020圖6A是根據(jù)第一實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備的示意性透視圖，該透視圖示出了簾式薄膜端部周圍部分的構(gòu)造；0021圖6B是根據(jù)第一實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備的示意性俯視圖，該俯視圖示出了簾式薄膜端部周圍部分的構(gòu)造；0022圖7是在根據(jù)本發(fā)明的簾式涂布設(shè)備的擋風(fēng)板的第二改型中的簾式薄膜端部周圍部分的構(gòu)造的示意性俯視0023圖8是根據(jù)本發(fā)明的簾式涂布設(shè)備的擋風(fēng)板的第一改型中的簾式薄膜端部周圍的部分構(gòu)造的示意性的透視0024圖9是用于說明生產(chǎn)過程中簾式邊緣引導(dǎo)件的狀態(tài)和涂布液體的遷移的圖示；0025圖IOA是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備的示意0026圖10B是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備在操作時(shí)的示意0027圖UA是用于說明表1中的"不存在向內(nèi)偏離"的狀態(tài)的圖示；以及0028圖11B是用于說明表1中的"存在向內(nèi)偏離"的狀態(tài)的圖示。具體實(shí)施例方式0029本發(fā)明的簾式涂布設(shè)備包括噴射單元1，其具有用于噴射涂布液體的切口；引導(dǎo)單元，其用于引導(dǎo)從切口噴射出的涂布液體以類似簾式的方式噴射到支撐構(gòu)件上；以及傳輸單元6，其用于傳輸支撐構(gòu)件，并且簾式涂布設(shè)備可以按需要進(jìn)一步包括其他單元。引導(dǎo)單元包括被提供在以類似簾式的方式噴射的涂布液體關(guān)于切口的開口方向的兩個邊緣處的簾式邊緣引導(dǎo)部分；以及擋風(fēng)板，其被布置為接觸簾式邊緣引導(dǎo)部分。0030擋風(fēng)板優(yōu)選為(1)放置為與支撐構(gòu)件的傳輸方向平行并且與所述支撐構(gòu)件垂直，或者(2)放置為與支撐構(gòu)件的傳輸方向垂直并且垂直于所述支撐構(gòu)件。0031不特別限制與支撐構(gòu)件處于平行的方向內(nèi)的擋風(fēng)板的長度(寬度)，并且擋風(fēng)板被置于關(guān)于水平方向的支撐構(gòu)件的整個長度(寬度)上。擋風(fēng)板的長度(寬度)優(yōu)選為10mm或更大，更優(yōu)選為10mm至30mm。0032不特別限制與支撐構(gòu)件處于垂直的方向內(nèi)的擋風(fēng)板的長度(高度)，并且擋風(fēng)板可以整體地相對于與支撐構(gòu)件的垂直方向而放置。擋風(fēng)板的長度(高度)優(yōu)選為10mm或更大，更優(yōu)選為10mm至60mm。0033此后，將參考附圖對本發(fā)明的簾式涂布設(shè)備進(jìn)行更詳細(xì)的說明。0034以下實(shí)施例是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，并且應(yīng)用了多種技術(shù)上優(yōu)選的限制。然而，除非被指明，否則本發(fā)明不限于以下各方面。(第一實(shí)施例)0035圖5A是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備的示意圖，并且圖5B是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備在操作時(shí)的示意圖。0036涂布液體3被保持在簾式涂布頭1中，該簾式涂布頭1是具有切口的噴射單元。涂布液體3在由簾式邊緣引導(dǎo)件2引導(dǎo)的同時(shí)，在重力方向上從簾式涂布頭1噴射(允許自由地下落)到作為支撐構(gòu)件的巻狀物5上，所述簾式邊緣引導(dǎo)件2是被提供在涂布液體3的兩個端部處的簾式邊緣引導(dǎo)部分。巻狀物5以恒定速度通過傳輸單元在一個方向上傳輸，所述傳輸單元包括支撐輥6和其他未示出的構(gòu)件。此時(shí)，布置在巻狀物5的傳輸方向上相對于涂布液體3的液簾的上游側(cè)上的真空單元4減小了由簾式邊緣引導(dǎo)件2、涂布液體3的液簾、巻狀物5等圍繞的空間中的空氣壓力。擋風(fēng)板9被布置為接觸簾式邊緣引導(dǎo)件2并且為涂布液體3的液簾的端部遮蔽了干擾氣流。參考標(biāo)記3a表示涂布液體(簾式薄膜)并且參考標(biāo)記3b表示(巻狀物上的)涂布液體。0037簾式涂布頭1具有的切口可以具有任意形狀，只要該切口可以以類似簾式的形式噴射涂布液體。優(yōu)選地，所述切口具有對于切口寬度而言長度足夠(在切口開口方向上)的矩形橫截面。切口寬度和切口長度可以根據(jù)涂布液體的粘性或噴射量、使用的巻狀物的尺寸等被任意設(shè)計(jì)。0038此外，簾式涂布頭1可以具有多個切口。在此情況下，優(yōu)選為不同的涂布液體從各自的切口噴射并且以層疊狀態(tài)涂布在支撐構(gòu)件上。0039在本發(fā)明中，簾式邊緣引導(dǎo)件2可以是任意類型，只要其可以形成簾式薄膜并且可以是已知的傳統(tǒng)構(gòu)件。0040此外，在本發(fā)明中，涂布液體3可以是任意類型的，只要其可以形成簾式薄膜并且可以是已知的傳統(tǒng)液體。0041真空單元4可以是任意類型的，只要其可以吸收空氣并且減小壓力并且可以是已知的傳統(tǒng)設(shè)備。此外，包括支撐輥6的傳輸單元可以是任意類型，只要其可以傳輸巻狀物5并且可以是已知的傳統(tǒng)傳輸單元。0042巻狀物5是由紙張、薄膜或薄膜金屬構(gòu)成的基材，該基材表面涂覆有涂布液體?？梢允褂猛扛瞾硖幚韼啝钗?的表面。0043圖6A是根據(jù)第一實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備的示意性透視圖，該透視圖示出了簾式薄膜端部周圍部分的構(gòu)造，并且圖6B是根據(jù)第一實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備的示意性俯視圖，該俯視圖示出了簾式薄膜端部周圍部分的構(gòu)造。0044如圖6A和6B所示，擋風(fēng)板9在巻狀物5的傳輸方向上關(guān)于以類似簾式的方式流動的涂布液體3a的相對側(cè)上附連到簾式邊緣引導(dǎo)件2的下端。這種構(gòu)造為涂布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽了生成在簾式邊緣引導(dǎo)件2關(guān)于巻狀物傳輸方向的相對側(cè)上以影響該端部部分的干擾氣流，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩(wěn)定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導(dǎo)件2處的向內(nèi)偏離。0045在本實(shí)施例中，擋風(fēng)板9被布置為垂直于巻狀物5的傳輸方向以及巻狀物5。這種構(gòu)造有效地為涂布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽了生成在簾式邊緣引導(dǎo)件2關(guān)于巻狀物傳輸方向的相對側(cè)上以影響該端部部分的干擾氣流，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩(wěn)定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導(dǎo)件2處的向內(nèi)偏離。0046雖然未特別地限定，但例如鐵、不銹鋼或鋁等的金屬以及例如Teflon⑧或PET等的樹脂均可以優(yōu)選地用作擋風(fēng)板9的材料。0047擋風(fēng)板9優(yōu)選為具有給定寬度、高度和厚度的板狀構(gòu)件。0048此外，擋風(fēng)板9優(yōu)選為在與巻狀物5平行的方向上(擋風(fēng)板9的寬度方向上)具有10mm或更大的長度。這種構(gòu)造有效地為涂布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽了生成在簾式邊緣引導(dǎo)件2關(guān)于巻狀物傳輸方向的相對側(cè)上以影響該部分的干擾氣流，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩(wěn)定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導(dǎo)件2處的向內(nèi)偏離。0049此外，擋風(fēng)板9優(yōu)選為在與巻狀物5垂直的方向上(擋風(fēng)板9的高度方向上)具有10mm或更大的長度。這種構(gòu)造有效地為涂布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽了生成在簾式邊緣引導(dǎo)件2關(guān)于巻狀物傳輸方向的相對側(cè)上以影響該部分的干擾氣流，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩(wěn)定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導(dǎo)件2處的向內(nèi)偏離。0050此外，簾式邊緣引導(dǎo)件2的下端(巻狀物5側(cè)的端部)和巻狀物5之間的距離優(yōu)選為小于或等于擋風(fēng)板9的下端(巻狀物5側(cè)的端部)和巻狀物5之間的距離。通過這種構(gòu)造，簾式邊緣引導(dǎo)件2的下端和巻狀物5之間的縫隙的大小可以被減小并且由此減小了環(huán)境空氣的入口，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩(wěn)定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導(dǎo)件2處的向內(nèi)偏離。0051此外，簾式邊緣引導(dǎo)件2優(yōu)選地被布置為距巻狀物5比距擋風(fēng)板9近0mm至10mm。g卩，簾式邊緣引導(dǎo)件2和巻狀物5之間的距離比擋風(fēng)板9和巻狀物5之間的距離小Omm至10mm。當(dāng)簾式邊緣引導(dǎo)件2距巻狀物5比距擋風(fēng)板9遠(yuǎn)10mm或更大距離時(shí)，簾式邊緣引導(dǎo)件2不能為涂布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽干擾氣流，該干擾氣流生成在簾式邊緣引導(dǎo)件2關(guān)于巻狀物傳輸方向的相對側(cè)上以影響該部分，從而導(dǎo)致簾式薄膜3a的擺動并且由此發(fā)生了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導(dǎo)件2處的向內(nèi)偏離。(擋風(fēng)板的第一改型)0052圖8是在根據(jù)本發(fā)明的簾式涂布設(shè)備的擋風(fēng)板的第一改型中的簾式薄膜端部周圍部分的構(gòu)造的示意性俯視圖。0053在本改型中擋風(fēng)板9'的下端(巻狀物5側(cè)的端部)傾斜成使得所述下端的一部分靠近簾式邊緣引導(dǎo)件2時(shí)該部分更接近巻狀物5。0054這種構(gòu)造有效地避免了以下問題。也就是，如圖9所示，當(dāng)涂布液體簾式薄膜3a在生產(chǎn)開始時(shí)移動到支撐輥8上的巻狀物位置時(shí)，如果此時(shí)簾式薄膜3a擺動，則涂布液體3接觸擋風(fēng)板9'并且保持在擋風(fēng)板9，上。由擋風(fēng)板9'保持的涂布液體3落到該擋風(fēng)板9'的下端。涂布液體3之后落到巻狀物5上從而導(dǎo)致不良涂布(由于涂布液體的過量沉積而導(dǎo)致的阻塞等)。然而在本改型中，由擋風(fēng)板9'保持的涂布液體3由于擋風(fēng)板9'下端的傾斜而移動到簾式邊緣引導(dǎo)件2側(cè)，由此避免了由擋風(fēng)板9'保持的涂布液體3落在巻狀物5上。0055在此情況下，擋風(fēng)板9'的傾斜角度優(yōu)選為0.r至40°。當(dāng)傾斜角度大于4(T時(shí)，簾式邊緣引導(dǎo)件2不能為涂布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽干擾氣流，該干擾氣流生成在簾式邊緣引導(dǎo)件關(guān)于巻狀物傳輸方向的相對側(cè)上以影響該部分，導(dǎo)致簾式薄膜3a的擺動并且由此發(fā)生了簾式薄膜3a在簾式邊緣弓I導(dǎo)件2處的向內(nèi)偏離。(擋風(fēng)板的第二改型)0056圖7是在根據(jù)本發(fā)明的簾式涂布設(shè)備的擋風(fēng)板的第二改型中的簾式薄膜端部周圍部分的構(gòu)造的示意性透視圖。0057在此改型中，擋風(fēng)板9被布置為平行于巻狀物5的傳輸方向并且垂直于巻狀物5。這種構(gòu)造為涂布液體簾式薄膜3a的端部屏蔽了生成在簾式邊緣引導(dǎo)件2關(guān)于巻狀物傳輸方向的相對側(cè)上以影響該部分的干擾氣流，從而可以避免簾式薄膜3a的不穩(wěn)定擺動，由此避免了簾式薄膜3a在簾式邊緣引導(dǎo)件2處的向內(nèi)偏離。(第二實(shí)施例；簾式涂布設(shè)備的改型)0058圖IOA是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備的示意圖，并且圖10B是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備在操作時(shí)的示意圖。0059優(yōu)選地，引導(dǎo)單元具有滑動表面7并且更優(yōu)選地，滑動表面簾式邊緣引導(dǎo)部分(滑動部分邊緣引導(dǎo)件)8被布置在滑動表面7關(guān)于切口開口方向的兩個端部處。0060圖2中示出的構(gòu)造可以不被改變地應(yīng)用到滑動表面7和滑動表面簾式邊緣引導(dǎo)部分8。除了滑動表面7和滑動表面簾式邊緣引導(dǎo)部分8以外的構(gòu)造與第一實(shí)施例中的簾式涂布設(shè)備的構(gòu)造相同，并且此處省略了這些構(gòu)造的說明。0061此后，參考圖IOA和IOB，將說明根據(jù)第二實(shí)施例的簾式涂布設(shè)備的構(gòu)造。0062在本實(shí)施例中，作為具有切口的噴射單元的滑動簾式涂布頭l'將涂布液體3'噴射在滑動表面7上，并且涂布液體3'層覆在滑動表面7上。當(dāng)噴射的涂布液體3，由滑動部分邊緣引導(dǎo)件8引導(dǎo)時(shí)，該噴射的涂布液體3'在滑動表面7上滑動并且之后在重力方向上從滑動表面的滑動方向下游端以類似簾式的方式自由落體，所述滑動部分邊緣引導(dǎo)件8是被布置在層疊的涂布液體的兩個端部(附圖中的切口縱向方向的端部)處的簾式邊緣引導(dǎo)部分。此時(shí)，涂布液體3'通過簾式邊緣引導(dǎo)件2被引導(dǎo)到作為支撐構(gòu)件的巻狀物5上，所述簾式邊緣引導(dǎo)件2是被布置在涂布液體3'的液簾的兩個端部處的簾式邊緣引導(dǎo)部分。巻狀物5以恒定速度通過傳輸單元在一個方向上傳輸，所述傳輸單元包括支撐輥6和其他未示出的構(gòu)件。真空單元4被布置在巻狀物5關(guān)于涂布液體3'的液簾的傳輸方向的上游側(cè)上并且減小了簾式邊緣引導(dǎo)件2、涂布液體3，的液簾、巻狀物5等圍繞的空間中的空氣壓力。此外，擋風(fēng)板9被置為接觸簾式邊緣引導(dǎo)件2并且為涂布液體3的液簾的端部屏蔽了干擾氣流，該干擾氣流在傳輸巻狀物5時(shí)或在操作真空單元4時(shí)產(chǎn)生。示例0063此后，將參考示例和比較示例對本發(fā)明做更詳細(xì)的說明，然而，無論如何，這些說明不應(yīng)解釋為對本發(fā)明的范圍的限制。示例中使用的份意味著以質(zhì)量計(jì)的份。[示例1]0064擋風(fēng)板9附連到圖1所示的簾式涂布設(shè)備的簾式邊緣引導(dǎo)件2的下端從而在巻狀物傳輸方向上關(guān)于圖6中所示的類似簾式方式流動的涂布液體的相對側(cè)上被布置為與巻狀物5(垂直于巻狀物的傳輸方向)的傳輸方向平行巻狀并且與巻狀物5垂直。涂布液體以400m/min的涂布速度和250mm的涂布寬度被涂覆在巻狀物5(紙張)上，并且從噴嘴切口噴射出的涂布液體的流動速度為3,000g/min。0065擋風(fēng)板9(PET薄膜)的尺寸被設(shè)置為30mm寬X60mm高X175戸厚，擋風(fēng)板9和巻狀物5之間的距離被設(shè)置為等于簾式邊緣引導(dǎo)件2和巻狀物5之間的距離，真空單元4的真空壓力被設(shè)置為-3kpa，并且沿簾式邊緣引導(dǎo)件2的水流的體積被設(shè)置為30cc/min。0066涂布液體具有300mPas的粘性和35mN/m的靜態(tài)表面張力。涂布液體的成分如下(涂布液體成分)聚乙烯醇85份綠色素5份水915份0067之后，在以上涂布條件下鑒定存在/不存在簾式薄膜在簾式邊緣引導(dǎo)件2處的向內(nèi)偏離和簾式邊緣引導(dǎo)件的爪上的沉積狀態(tài)。結(jié)果顯示在表1中。A:24小時(shí)無簾式薄膜的向內(nèi)偏離B:2-3小時(shí)后發(fā)生向內(nèi)偏離C:l小時(shí)后發(fā)生向內(nèi)偏離A:非常少量的爪上的沉積B:少量的爪上的沉積C:大量的爪上的沉積0068使用如圖2中所示的滑動簾式涂布設(shè)備執(zhí)行與示例1中相同的涂布步驟和鑒定。結(jié)果顯示在表1中。[示例3]0069如圖7所示，示例2的擋風(fēng)板9附連到簾式邊緣引導(dǎo)件2的下端從而在巻狀物5的傳輸方向上關(guān)于類似簾式方式流動的涂布液體3的相對側(cè)上被布置為與巻狀物5的傳輸方向和巻狀物5(平行于巻狀物5的傳輸方向)垂直，并且執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定。結(jié)果顯示在表l中。[示例4]0070執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9在水平方向上的長度(寬度)被設(shè)置為10mm。結(jié)果顯示在表l中。[示例5]10071執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9在水平方向上的長度(寬度)被設(shè)置為5mm。結(jié)果顯示在表1中。[示例6]0072執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9在豎直方向上的長度(高度)被設(shè)置為10mm。結(jié)果顯示在表l中。[示例7]0073執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9在豎直方向上的長度(高度)被設(shè)置為5mm。結(jié)果顯示在表1中。[示例8]0074執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9和巻狀物5之間在高度方向上的距離比簾式邊緣引導(dǎo)件2和巻狀物5之間的距離大5mm。結(jié)果顯示在表1中。[示例9]0075執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9和巻狀物5之間的距離比簾式邊緣引導(dǎo)件2和巻狀物5之間的距離小10mm。結(jié)果顯示在表1中。[示例10]0076執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9和巻狀物5之間的距離比簾式邊緣引導(dǎo)件2和巻狀物5之間的距離大15mm。結(jié)果顯示在表1中。[示例11]0077執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9和巻狀物5之間的距離比簾式邊緣引導(dǎo)件2和巻狀物5之間的距離小2mm。結(jié)果顯示在表1中。[示例12]0078執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9的下端在寬度方向上向著簾式邊緣引導(dǎo)件2側(cè)向下傾斜40。，如圖8所示。結(jié)果顯示在表1中。[示例13]0079執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9的下端在寬度方向上向著簾式邊緣引導(dǎo)件2側(cè)向下傾斜45°，如圖8所示。結(jié)果顯示在表l中。0080執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中示例2的擋風(fēng)板9的下端在寬度方向上向著簾式邊緣引導(dǎo)件2側(cè)向下傾斜1°，如圖8所示。結(jié)果顯示在表l中。[比較示例1]0081執(zhí)行與示例1中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9從所述設(shè)備移除。結(jié)果顯示在表1中。[比較示例2]0082執(zhí)行與示例2中相同的涂布步驟和鑒定，其中擋風(fēng)板9從所述設(shè)備移除。結(jié)果顯示在表1中。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage18</column></row><table>0083表1中不存在和存在向內(nèi)偏離的狀態(tài)在圖IIA和11B中進(jìn)行了說明。0084以上示例1-14和比較示例1和2的結(jié)果揭示了本發(fā)明的簾式涂布設(shè)備可以避免由涂布液體簾式薄膜的端部周圍的環(huán)境空氣引起的簾式薄膜的不穩(wěn)定擺動，避免了邊緣引導(dǎo)件的爪上的涂布液體的沉積，并且避免了簾式薄膜的向內(nèi)偏離。權(quán)利要求1.一種簾式涂布設(shè)備，其包括噴射單元，其具有用于噴射涂布液體的切口；引導(dǎo)單元，其被構(gòu)造為將從所述切口噴射出的所述涂布液體以類似簾式的方式引導(dǎo)到支撐構(gòu)件上；以及傳輸單元，其被構(gòu)造為傳輸所述支撐構(gòu)件，其中所述引導(dǎo)單元包括提供在以類似簾式的方式噴射的所述涂布液體關(guān)于所述切口的開口方向的兩個端部處的簾式邊緣引導(dǎo)部分；以及被布置為接觸所述簾式邊緣引導(dǎo)部分的擋風(fēng)板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述引導(dǎo)單元包括滑動表面，并且所述噴射單元將所述涂布液體噴射到所述滑動表面上。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述引導(dǎo)單元包括位于所述滑動表面關(guān)于所述切口的開口方向的兩個端部處的滑動表面簾式邊緣引導(dǎo)部分。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述噴射單元包括多個切口。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板被布置在所述簾式邊緣引導(dǎo)部分關(guān)于所述支撐構(gòu)件的傳輸方向的相對側(cè)上。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板被布置為與所述支撐構(gòu)件的傳輸方向平行并且與所述支撐構(gòu)件垂直。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板被布置為與所述支撐構(gòu)件的傳輸方向及所述支撐構(gòu)件垂直。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板在與所述支撐構(gòu)件平行的方向上具有10mm或更大的長度。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板在與所述支撐構(gòu)件垂直的方向上具有10mm或更大的長度。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述簾式邊緣引導(dǎo)部分和所述支撐構(gòu)件之間的距離小于或等于所述擋風(fēng)板和所述支撐構(gòu)件之間的距離。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述簾式邊緣引導(dǎo)部分和所述支撐構(gòu)件之間的距離比所述擋風(fēng)板和所述支撐構(gòu)件之間的距離小0mm-10mm。12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的簾式涂布設(shè)備，其中在所述支撐構(gòu)件側(cè)的所述擋風(fēng)板的下端傾斜從而使所述下端更靠近所述簾式邊緣引導(dǎo)部分的一部分更靠近所述支撐構(gòu)件。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的簾式涂布設(shè)備，其中所述擋風(fēng)板的所述下端的傾斜角度是0.r至40°。14.一種簾式涂布方法，該方法包括從切口噴射涂布液體；通過引導(dǎo)單元將從所述切口噴射的所述涂布液體以類似簾式的方式引導(dǎo)到支撐構(gòu)件上；以及傳輸所述支撐構(gòu)件；其中所述引導(dǎo)單元包括提供在以類似簾式的方式噴射的所述涂布液體關(guān)于所述切口的開口方向的兩個端部處的簾式邊緣引導(dǎo)部分，以及被布置為接觸所述簾式邊緣引導(dǎo)部分的擋風(fēng)板。全文摘要提供一種簾式涂布設(shè)備，其包括噴射單元，該噴射單元具有用于噴射涂布液體的切口；引導(dǎo)單元，該引導(dǎo)單元將從切口噴射出的涂布液體以類似簾式的方式引導(dǎo)到支撐構(gòu)件上；以及傳輸單元，該傳輸單元傳輸所述支撐構(gòu)件。引導(dǎo)單元包括提供在以類似簾式的方式噴射的涂布液體關(guān)于切口的開口方向的兩個端部處的簾式邊緣引導(dǎo)部分，并且該引導(dǎo)單元還包括擋風(fēng)板，該擋風(fēng)板被布置為接觸所述簾式邊緣引導(dǎo)部分。本發(fā)明還提供簾式涂布方法。文檔編號B05C5/00GK101537402SQ200910128839公開日2009年9月23日申請日期2009年3月17日優(yōu)先權(quán)日2008年3月17日發(fā)明者小堀英之,清水智仁,花井修司,高下泰秀申請人:株式會社理光