專利名稱：高架式干霧噴射器的制作方法
技術領域：
本實用新型屬加濕設備領域，尤其涉及一種避免粉塵對大氣的環(huán)境污染，改善職 場作業(yè)勞動環(huán)境，減少人員職業(yè)病發(fā)生的高架式干霧噴射器。
背景技術：
現行的干霧噴射器均為落地式，雖然有360度轉動機能，但干霧噴灑射出方向高 揚或水平，造成噴霧范圍受到限制和干霧隨風飄散，防塵效果不十分理想。

實用新型內容本實用新型旨在克服現有技術的不足之處而提供一種結構簡單，操作靈活，噴霧 筒方向可多維調整，防塵效果理想的高架式干霧噴射器。為達到上述目的，本實用新型是這樣實現的一種高架式干霧噴射器，它包括噴霧筒、與所述噴霧筒相接的次支撐架及與所述 次支撐架相接的主支撐架；所述次支撐架的底部與主支撐架的頂部滑動配接。作為一種優(yōu)選方案，本實用新型所述次支撐架包括垂直旋轉機構、水平旋轉機構 及水平滑動桿；所述垂直旋轉機構一端與噴霧筒固定相接；所述垂直旋轉機構另一端與水 平旋轉機構的頂部固定相接；所述水平旋轉機構的底部與水平滑動桿的一端固定相接。作為另一種優(yōu)選方案，本實用新型所述主支撐架包括垂直升降桿、滑臺及底座；所 述垂直升降桿的頂端與滑臺的底部固定相接；所述滑臺與水平滑動桿滑動相接；所述垂直 升降桿的底端與底座固定相接。進一步地，本實用新型所述底座的下部設有行走機構。本實用新型結構簡單，操作靈活，由于采用多種方向調節(jié)機構，本實用新型噴霧筒 方向可多維調整，從而避免了干霧噴灑射出方向單純高揚或水平，噴霧范圍受限及干霧隨 風飄散，防塵效果不十分理想等問題。
以下結合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進一步說明。本實用新型的保護范 圍不僅局限于下列內容的表述。


圖1為本實用新型的整體結構示意圖。
具體實施方式
本實用新型包括一嵌裝有干霧裝置的進出風口噴霧機體，該機體被安裝在具有 PLC控制的能自動行走、升降、旋轉的高架之上，使干霧噴射器的噴口對準揚塵料場俯射，從 而提高加濕防塵效果。參見
圖1所示，高架式干霧噴射器，它包括噴霧筒1、與所述噴霧筒1相接的次支撐 架及與所述次支撐架相接的主支撐架；所述次支撐架的底部與主支撐架的頂部滑動配接。[0014]本實用新型所述次支撐架包括垂直旋轉機構2、水平旋轉機構3及水平滑動桿4 ； 所述垂直旋轉機構2 —端與噴霧筒1固定相接；所述垂直旋轉機構2另一端與水平旋轉機 構3的頂部固定相接；所述水平旋轉機構3的底部與水平滑動桿4的一端固定相接。本實用新型所述主支撐架包括垂直升降桿6、滑臺13及底座11 ；所述垂直升降桿 6的頂端與滑臺13的底部固定相接；所述滑臺13與水平滑動桿4滑動相接；所述垂直升降 桿6的底端與底座11固定相接。為保證系統(tǒng)操作的靈活性，本實用新型所述底座11的下部設有行走機構12。本實用新型在所述底座11上設有發(fā)電機組10、電控系統(tǒng)8及藥劑調節(jié)系統(tǒng)9。所 述藥劑調節(jié)系統(tǒng)9的輸出端經管路7與噴霧筒1的輸入端相接。本實用新型在使用時，可根據塵源的具體位置，移動行走機構12將系統(tǒng)置于塵源 區(qū)域。在噴射作業(yè)時，可結合現場的實際情況，多維調整噴霧筒1的位置。垂直旋轉機構2 用于調整噴霧筒1的垂直方向的上傾或下傾角。水平旋轉機構3用于調整噴霧筒1水平方 向的旋轉角度。水平滑動桿4可在滑臺13上水平滑動，用于調整噴霧筒1距離塵源的水平 距離。垂直升降桿用于調整噴霧筒1的垂直高度。5為水平滑動及垂直升降驅動機構?？梢岳斫獾厥?，以上關于本實用新型的具體描述，僅用于說明本實用新型而并非 受限于本實用新型實施例所描述的技術方案，本領域的普通技術人員應當理解，仍然可以 對本實用新型進行修改或等同替換，以達到相同的技術效果；只要滿足使用需要，都在本實 用新型的保護范圍之內。
權利要求一種高架式干霧噴射器，其特征在于，包括噴霧筒(1)、與所述噴霧筒(1)相接的次支撐架及與所述次支撐架相接的主支撐架；所述次支撐架的底部與主支撐架的頂部滑動配接。
2.根據權利要求1所述的高架式干霧噴射器，其特征在于所述次支撐架包括垂直旋 轉機構(2)、水平旋轉機構(3)及水平滑動桿(4)；所述垂直旋轉機構(2) —端與噴霧筒(1) 固定相接；所述垂直旋轉機構(2)另一端與水平旋轉機構(3)的頂部固定相接；所述水平 旋轉機構(3)的底部與水平滑動桿(4)的一端固定相接。
3.根據權利要求2所述的高架式干霧噴射器，其特征在于所述主支撐架包括垂直升 降桿(6)、滑臺(13)及底座(11)；所述垂直升降桿(6)的頂端與滑臺(13)的底部固定相接； 所述滑臺(13)與水平滑動桿(4)滑動相接；所述垂直升降桿(6)的底端與底座(11)固定 相接。
4.根據權利要求3所述的高架式干霧噴射器，其特征在于所述底座(11)的下部設有 行走機構(12)。
5.根據權利要求4所述的高架式干霧噴射器，其特征在于在所述底座(11)上設有發(fā) 電機組(10)、電控系統(tǒng)(8)及藥劑調節(jié)系統(tǒng)(9)。
專利摘要本實用新型屬加濕設備領域，尤其涉及一種高架式干霧噴射器，包括噴霧筒(1)、次支撐架及主支撐架；次支撐架的底部與主支撐架的頂部滑動配接；次支撐架包括垂直旋轉機構(2)、水平旋轉機構(3)及水平滑動桿(4)；垂直旋轉機構(2)一端與噴霧筒(1)固定相接；垂直旋轉機構(2)另一端與水平旋轉機構(3)的頂部固定相接；水平旋轉機構(3)的底部與水平滑動桿(4)的一端固定相接。主支撐架包括垂直升降桿(6)、滑臺(13)及底座(11)；垂直升降桿(6)的頂端與滑臺(13)的底部固定相接；垂直升降桿(6)的底端與底座(11)固定相接。本實用新型采用多種方向調節(jié)機構，噴霧筒方向可多維調整，防塵效果理想。
文檔編號B05B15/00GK201579171SQ20092028760
公開日2010年9月15日 申請日期2009年12月11日 優(yōu)先權日2009年12月11日
發(fā)明者于文祥 申請人:于文祥