專利名稱：一種帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種霧化裝置，特別涉及一種用于金屬制粉的帶有哈特曼氣流式超聲 輻射器的氣流霧化噴嘴裝置。
背景技術(shù)：
真空霧化制粉是在真空條件下熔煉金屬或金屬合金，在氣體保護(hù)的條件下，金屬 液體經(jīng)過保溫坩堝、導(dǎo)流嘴流出、通過噴嘴由高壓惰性氣體流將金屬液體霧化破碎成大量 細(xì)小的液滴，細(xì)細(xì)的液滴在飛行中凝固成球形或是亞球形顆粒，由于液滴細(xì)小和熱交換條 件好，液滴的冷凝速度一般可達(dá)到100 ΙΟΟΟΟΚ/s，比鑄錠的冷卻高幾個數(shù)量級。因此合金 的成分均勻，組織細(xì)小，用它制成的合金材料無宏觀偏析，性能優(yōu)異。真空霧化制粉可以制 備大多數(shù)不能采用在空氣中和水霧化方法制造的金屬及其合金粉末，其次，由于凝固快克 服了偏析現(xiàn)象，可以制取許多特殊合金的球形或亞球形粉末，最后，采用合適的工藝參數(shù)， 可以使粉末粒度達(dá)到一個額定要求的范圍。幾乎所有可被熔化的金屬都可用霧化法生產(chǎn)， 尤其適宜生產(chǎn)合金粉末。真空霧化制粉法生產(chǎn)效率高，并易于擴(kuò)大工業(yè)規(guī)模而受到極其廣 泛的工業(yè)應(yīng)用。真空霧化制粉法是一個眾多參數(shù)共同作用的復(fù)雜過程，真空霧化粉末的粒度、形 狀和結(jié)晶組織和霧化工藝參數(shù)如熔體流直徑、噴嘴結(jié)構(gòu)、噴射介質(zhì)的壓力、流速等緊密相 關(guān)。特別是真空霧化的氣流霧化噴嘴結(jié)構(gòu)是最關(guān)鍵的技術(shù)問題之一。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的正是為了提供一種帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴 裝置。該氣流霧化噴嘴裝置能使金屬熔液的噴出霧化更加合理，霧化均勻，霧化制粉速度 快、效率高、冷卻迅速，可連續(xù)作業(yè)，金屬霧化粉末的粒徑小，產(chǎn)出率高。本發(fā)明的目的可通過下述技術(shù)措施來實(shí)現(xiàn)
本發(fā)明的帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置包括噴嘴本體，設(shè)置在噴 嘴本體中心位置處的垂直通孔，安裝在垂直通孔內(nèi)的輸液管，環(huán)繞垂直通孔由內(nèi)向外依次 設(shè)置在噴嘴本體內(nèi)的哈特曼氣流式超聲輻射器和高壓氣體駐室；所述高壓氣體駐室的一側(cè) 通過通孔及連接管路與外置的高壓氬氣或氮?dú)鈿庠聪噙B通，另一側(cè)通過連氣道與哈特曼氣 流式超聲輻射器相連通；環(huán)繞哈特曼氣流式超聲輻射器的環(huán)形腔底面設(shè)置有由若干個以均 布排列方式設(shè)置的噴嘴孔構(gòu)成的噴嘴環(huán)，所述噴嘴孔均以其軸線與輸液管軸線的下延長線 相交的側(cè)斜方式設(shè)置，且所述噴嘴孔的軸線與哈特曼氣流式超聲輻射器的環(huán)形腔橫截面中 軸線重合。本發(fā)明的工作原理及有益效果如下
在進(jìn)行真空霧化制粉時，高壓氬氣或氮?dú)庵惖臍怏w通過管路進(jìn)入高壓氣體駐室，之 后進(jìn)入連氣道與哈特曼氣流式超聲輻射器，然后從哈特曼氣流式超聲輻射器下端的由若干 個以均布排列方式設(shè)置的噴嘴孔構(gòu)成的噴嘴環(huán)高速噴出，高速噴出的氣流集中于從輸液管中流出的金屬液柱上，從而達(dá)到使液體進(jìn)行霧化的目的。這種帶有哈特曼氣流式超聲輻射 器的氣流霧化噴嘴裝置，吹出的高壓氣速度極高，可以使金屬熔液的噴出霧化更加合理，霧 化均勻，霧化制粉速度快、效率高、冷卻迅速，可連續(xù)作業(yè)，金屬霧化粉末的粒徑小，產(chǎn)出率 高，是十分理想的金屬霧化制粉裝置。


附圖為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)原理圖。圖中序號1為高壓氬氣或氮?dú)鈿庠矗?為高壓氣體駐室，3為噴射氣流，4為金屬液 柱，5為哈特曼氣流式超聲輻射器，6為輸液管，7為噴嘴本體。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明以下將結(jié)合實(shí)施例(附圖)作進(jìn)一步描述
如圖所示，本發(fā)明的帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置包括噴嘴本體 7，設(shè)置在噴嘴本體中心位置處的垂直通孔，安裝在垂直通孔內(nèi)的輸液管6，環(huán)繞垂直通孔由 內(nèi)向外依次設(shè)置在噴嘴本體內(nèi)的哈特曼氣流式超聲輻射器5和高壓氣體駐室2 ；所述高壓 氣體駐室2的一側(cè)通過通孔及連接管路與外置的高壓氬氣或氮?dú)鈿庠?相連通，另一側(cè)通 過連氣道與哈特曼氣流式超聲輻射器5相連通；環(huán)繞哈特曼氣流式超聲輻射器的環(huán)形腔底 面設(shè)置有由若干個以均布排列方式設(shè)置的噴嘴孔構(gòu)成的噴嘴環(huán)，且所述噴嘴孔均以其軸線 與輸液管軸線的下延長線相交的側(cè)斜方式設(shè)置，且所述噴嘴孔的軸線與哈特曼氣流式超聲 輻射器的環(huán)形腔橫截面中軸線重合。
權(quán)利要求
1. 一種帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴裝 置包括噴嘴本體，設(shè)置在噴嘴本體中心位置處的垂直通孔，安裝在垂直通孔內(nèi)的輸液管，環(huán) 繞垂直通孔由內(nèi)向外依次設(shè)置在噴嘴本體內(nèi)的哈特曼氣流式超聲輻射器和高壓氣體駐室； 所述高壓氣體駐室的一側(cè)通過通孔及連接管路與外置的高壓氬氣或氮?dú)鈿庠聪噙B通，另一 側(cè)通過連氣道與哈特曼氣流式超聲輻射器相連通；環(huán)繞哈特曼氣流式超聲輻射器的環(huán)形腔 底面設(shè)置有由若干個以均布排列方式設(shè)置的噴嘴孔構(gòu)成的噴嘴環(huán)，且所述噴嘴孔均以其軸 線與輸液管軸線的下延長線相交的側(cè)斜方式設(shè)置，且所述噴嘴孔的軸線與哈特曼氣流式超 聲輻射器的環(huán)形腔橫截面中軸線重合。
全文摘要
一種帶有哈特曼氣流式超聲輻射器的氣流霧化噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴裝置包括噴嘴本體，設(shè)置在噴嘴本體中心位置處的垂直通孔，安裝在垂直通孔內(nèi)的輸液管，環(huán)繞垂直通孔由內(nèi)向外依次設(shè)置在噴嘴本體內(nèi)的哈特曼氣流式超聲輻射器和高壓氣體駐室；所述高壓氣體駐室的一側(cè)通過通孔及連接管路與高壓氬氣或氮?dú)鈿庠聪噙B通，另一側(cè)通過連氣道與哈特曼氣流式超聲輻射器相連通；環(huán)繞哈特曼氣流式超聲輻射器的環(huán)形腔底面設(shè)置有由若干個以均布排列方式設(shè)置的噴嘴孔構(gòu)成的噴嘴環(huán)，且所述噴嘴孔均以其軸線與輸液管軸線的下延長線相交的側(cè)斜方式設(shè)置。
文檔編號B05B17/06GK102120206SQ20111002745
公開日2011年7月13日 申請日期2011年1月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月26日
發(fā)明者南紅艷, 王有超, 王海燕, 米國發(fā), 鄭喜平, 陳立林 申請人:河南理工大學(xué)