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防塵薄膜組件用粘著劑的制作方法

文檔序號:3821003閱讀:174來源:國知局
專利名稱:防塵薄膜組件用粘著劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明 涉及在制造半導(dǎo)體器件、印刷電路板以及液晶顯示器等時的作為光刻用掩模的除塵器而使用的光刻用防塵薄膜組件的制造方法,特別是涉及防塵薄膜組件框架的粘著劑。
背景技術(shù)
在LSI (大規(guī)模集成電路)、超LSI (超大規(guī)模集成電路)或液晶顯示器等的制造中,用光對半導(dǎo)體晶圓、液晶用原板進行照射來制作圖案。如此時所用的光掩模或中間光掩模(在本說明書中統(tǒng)稱為光掩模)上附著有異物,不僅會使轉(zhuǎn)印在半導(dǎo)體晶片或液晶用原板上的圖案發(fā)生邊緣部分不鮮明,而且還會造成背景贓污,尺寸、質(zhì)量和外觀受損。由此,半導(dǎo)體晶片或液晶用原板的曝光是在無塵室里進行的。但即使如此,也難于完全防止異物附著于光掩模表面。故通常是采用這樣一種構(gòu)成,即在光掩模的表面安裝對曝光用光具有高透過率的、被稱為防塵薄膜組件的防塵罩,然后對半導(dǎo)體晶片或液晶用原板進行曝光。在此場合,異物就不會直接附著在光掩模上,而是附著在防塵薄膜組件上,如此,在進行光刻時,只要使焦點對準光掩模上的圖案即可,防塵薄膜組件上的異物就與轉(zhuǎn)印無關(guān)系了。通常,防塵薄膜組件,是通過在防塵薄膜組件框架的上端面粘貼防塵薄膜,并在防塵薄膜組件框架的下端面形成用以粘附于光掩模的粘著劑層,且在粘著劑層上設(shè)置保護該粘著劑層用的分離層(分離部)而制成。所述防塵薄膜是由對曝光用光具有高透過率的硝化纖維素、醋酸纖維素等纖維素類樹脂或氟樹脂等制成。該防塵薄膜組件框架是由鋁、不銹鋼、聚乙烯等所形成。將該防塵薄膜粘貼于防塵薄膜組件框架的方法為在防塵薄膜組件框架的上端面涂布防塵薄膜材料的易溶溶劑,并將所述防塵薄膜風干后進行粘貼(參照專利文獻1),或者利用丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂或氟樹脂等的粘合劑進行粘貼(參照專利文獻2以及專利文獻3)。所述粘著劑層是由聚丁烯樹脂、聚醋酸乙烯酯樹脂、丙烯酸樹脂、硅樹脂等所構(gòu)成。在使用防塵薄膜組件時,將分離層揭掉,在粘著劑層上施加向著光掩模的壓力,直至壓緊,由此將防塵薄膜組件粘貼在光掩模上。照射光而制作圖案的工序是使防塵薄膜組件沖下而進行,這樣而成的機構(gòu)最長可使用數(shù)年。但是,在將防塵薄膜組件貼附于光掩模之后,要對異物進行檢查,在將防塵薄膜組件貼附于光掩模的粘著劑為透明的場合,異物檢查機會發(fā)生誤檢,特別是在防塵薄膜組件附近更是如此。這是因為從異物檢查用光源照射的光在粘著劑的內(nèi)部以及表面被反射以及折射成為雜散光而射入檢測器,檢測器將該散光誤認為是異物造成的,結(jié)果誤測為有異物存在。這樣一來,盡管實際上在防塵薄膜組件上以及光掩模上都沒有異物,但是檢查機卻判斷為有異物存在,從而將產(chǎn)品判定為不合格。專利文獻1 日本特開昭58-219023號公報
專利文獻2 美國專利第4861402號說明書專利文獻3 日本特公昭63-27707號公報本發(fā)明就是鑒于上述情況而作出的,本發(fā)明的課題就是選定一種粘著劑,該粘著劑在防塵薄膜組件的異物檢測時,不會發(fā)生光在粘著劑中由于反射折射產(chǎn)生雜散光,從而發(fā)生誤檢的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明內(nèi)容如下1. 一種防塵薄膜組件用粘著劑,所述防塵薄膜組件至少由防塵薄膜以及防塵薄膜組件框架組成,在所述防塵薄膜組件框架的一個端面,貼附有所述防塵薄膜,在所述防塵薄膜組件框架的另一個端面,設(shè)有用來將所述防塵薄膜組件貼附于玻璃基板的粘著劑,在所述粘著劑上表面,設(shè)置有可剝離片,所述防塵薄膜組件用粘著劑的特征在于其全光線透過率為不大于70%。2.如上述1所述的防塵薄膜組件用粘著劑,優(yōu)選其為黑色。根據(jù)本發(fā)明,由于將防塵薄膜組件貼附于光掩模的粘著劑的全光線透過率設(shè)定在 70%以下,特別是在防塵薄膜組件框架附近,在進行光掩模檢查時,由于沒有異物檢查用的光在粘著劑中反射、折射而成為雜散光入射到異物檢查器中,所以可以抑止異物的誤檢,從而防止了成品率的下降。另外,粘著劑為黑色可以抑止異物檢查用光在粘著劑表面的反射, 由此防止了成品率的下降。


附圖為本發(fā)明的防塵薄膜組件的一個實施例的示意圖。
具體實施例方式以下參照附圖對本發(fā)明進行詳細說明,但是本發(fā)明發(fā)明并不限于此。附圖為本發(fā)明的防塵薄膜組件的一個實施例的示意圖。在本發(fā)明的防塵薄膜組件10中,為了在與貼附防塵薄膜組件10的基板(光掩?;蚱洳AЩP部分)的形狀相對應(yīng)的通常的四角框狀(長方型框狀或正方形框狀)的防塵薄膜組件框架的上端面上繃緊貼附防塵薄膜11,在防塵薄膜組件框架的下端面,形成有為了將防塵薄膜組件貼附于基板上的粘著劑13。進一步,在粘結(jié)劑13的下端面貼附用來保護粘著劑13的,可剝離的分離膜(分離層)14。在本發(fā)明中,對防塵薄膜的材質(zhì)沒有什么特別的限定,可以使用已知的例如硝化纖維素、醋酸纖維素或者氟樹脂等的良好透光的材料即可。在本發(fā)明中,對防塵薄膜組件框架的材質(zhì)也沒有特別的限定,可使用已知的例如鋁、不銹鋼等的金屬以及聚乙烯等的合成樹脂等。在本發(fā)明中,粘著劑層在防塵薄膜組件框架的下端面以規(guī)定寬度(通常,于防塵薄膜組件框架的寬度相等或其以下)設(shè)置,使防塵薄膜組件框架的四周全部貼附于基板上。作 為所述粘著劑,可以使用已知的物質(zhì),例如可以使用聚丁烯類粘著劑、聚乙酸乙烯酯粘著劑、硅類粘著劑、丙烯酸類粘著劑等。粘著劑的全光線透過率優(yōu)選70%以 下。全光線透過率的數(shù)值是用霧度測定儀( 一 O—夕)HG M-2(氣體實驗株式會社制,商品名)對粘著劑進行測定的數(shù)值。如果全光線透過率大于70 %,從異物檢查機射出的光在粘著劑的內(nèi)部進行反射,折射,成為雜散光, 入射到檢查器中,錯誤地檢測為有異物存在。進一步,為了抑制在粘著劑的表面發(fā)生的反射光,粘著劑以黑色為佳。將粘著劑的全光線透過率抑制到70%以下,可以通過添加氣相二氧化硅(fumed silica)、結(jié)晶性二氧化硅、沉降性二氧化硅、中空填料、二氧化鈦、氧化鎂、氧化鋅、氫氧化鋁、氫氧化鎂、碳酸鎂、碳酸鈣、碳酸鋅、層狀云母、硅藻土、玻璃纖維等進行。黑色化可以通過添加黑色化劑來進行,黑色化劑為碳黑、以及氧化鐵等的黑色顏料或染料等來進行。上述填料以及黑色化劑的添加量要不使粘著劑的性能變低。粘著劑層的形成是在防塵薄膜組件框架上的涂布,是根據(jù)需要將粘著劑用溶劑進行稀釋,然后涂布在防塵薄膜組件框架的下端,然后進行加熱干燥,硬化而進行。在此場合, 粘著劑的涂布方法,可以列舉毛刷涂布、噴霧涂布、自動定量涂布等方法。離型片(分離片)是用來保護粘著劑而設(shè)置的。在防塵薄膜組件的使用時將其剝掉,因此,離型膜(分離膜)是在防塵薄膜組件使用前,有必要對粘著劑進行保護的場合,來設(shè)置的。防塵薄膜組件產(chǎn)品,一般來說,是以貼附有離型膜(分離膜)的形式來進行流通的。離型片(分離片)的材質(zhì)沒有特別的限制,可以使用已知的材料。另外,將離型膜 (分離膜)貼附于粘著劑的方法,可以使用已知的方法,只要能將離型膜(分離膜)貼附于粘著劑上即可。實施例以下,用實施例以及比較例對本發(fā)明進行具體說明,但是本發(fā)明并不限于這些實施例。實施例1首先,制作防塵薄膜組件框架,將外尺寸為782 X 474mm,內(nèi)尺寸為768 X 456mm,高為5. Omm的框架的兩端面的內(nèi)外兩周緣部進行楞角切削加工(R加工),由此,制得框架的兩端面的平坦面的寬度為4. 0mm,角部的內(nèi)半徑為2. 0mm,外卜半徑為6. Omm的鋁合金防塵薄膜組件框架,并且將其表面進行黑色氧化鋁膜處理。將該防塵薄膜組件框架搬入無塵室,用中性洗劑以及純水進行充分洗滌并干燥。作為全光線透過率為70 %以下的粘著劑,是在100質(zhì)量份硅粘著劑X-40-3122 (信越化學工業(yè)株式會社制,商品名)中,加入氣相二氧化硅(fumed silica)Musil-120A(信越化學工業(yè)株式會社制,商品名),并進行混合調(diào)制。此后,將調(diào)制的粘著劑涂布在防塵薄膜組件框架的下端面。然后,將粘著劑風干,直至不流動為止,進一步,用高頻感應(yīng)加熱器(未圖示),將防塵薄膜組件框架加熱到130°C,使粘著劑硬化。另外,在防塵薄膜組件框架的上端面上,施以硅粘著劑KR_3700(信越化學工業(yè)株式會社制,商品名),在其上,貼附防塵薄膜,用刀切除外側(cè)的多余膜,完成防塵薄膜組件的制作。實施例2
除了在100質(zhì)量份硅粘著劑X-40_3122(信越化學工業(yè)株式會社制,商品名)中, 添加0.3質(zhì)量份的黑色碳膏(力一#卜)K-LIMS彩色-02 (信越化學工業(yè)株式會社制,商品名),進行混合調(diào)制以外,與實施例1同樣進行防塵薄膜組件的制作。實施例3除了在100質(zhì)量份硅粘著劑X-40_3122(信越化學工業(yè)株式會社制,商品名)中, 添加3質(zhì)量份的黑色氧化鐵膏(《一 7卜)K-彩色-FE035(信越化學工業(yè)株式會社制,商品名),進行混合調(diào)制以外,與實施例1同樣進行防塵薄膜組件的制作。實施例4除了在100質(zhì)量份丙烯酸粘著劑SK_1425(綜研化學株式會社制,商品名)中,添加0.3質(zhì)量份的黑色膏(力一#卜)LIMS彩色-02 (信越化學工業(yè)株式會社制,商品名),進行混合調(diào)制以外,與實施例1同樣進行防塵薄膜組件的制作。比較例除了原封不動地使用硅粘著劑X-40_3122(信越化學工業(yè)株式會社制,商品名)之夕卜,與實施例1同樣進行防塵薄膜組件的制作。實施例與比較例的評價結(jié)果列于表1。外觀對上述實施例1至4以及比較例中調(diào)制的粘著劑的外觀顏色進行肉眼觀察。全光線透過率使在實施例1-4以及比較例中制作的粘著劑硬化,制成50X50X2mm的片狀,用霧度測定儀( 一 O—夕)H G M-2(氣體實驗株式會社制,商品名)進行全光線透過率的測定。異物檢測對實施例1-4以及比較例中制作的防塵薄膜組件的防塵薄膜上的異物進行了觀察。對是否有異物的誤檢,通過改變異物檢查用光源的照射角度進行了觀察。表
權(quán)利要求
1.一種防塵薄膜組件用粘著劑,所述防塵薄膜組件至少由防塵薄膜以及防塵薄膜組件框架組成,在所述防塵薄膜組件框架的一個端面,貼附有所述防塵薄膜,在所述防塵薄膜組件框架的另一個端面,設(shè)有用來將所述防塵薄膜組件貼附于玻璃基板的粘著劑,在所述粘著劑上表面,設(shè)置有可剝離片,所述防塵薄膜組件用粘著劑的特征在于其全光線透過率為不大于70%。
2.如權(quán)利要求1所述的防塵薄膜組件用粘著劑,其為黑色。
全文摘要
本發(fā)明的課題是選定一種粘著劑,該粘著劑在防塵薄膜組件的異物檢測時,不會發(fā)生由于光在粘著劑中反射或折射產(chǎn)生雜散光而發(fā)生誤檢。本發(fā)明的防塵薄膜組件至少由防塵薄膜以及防塵薄膜組件框架組成,在所述防塵薄膜組件框架的一個端面,貼附有所述防塵薄膜,在所述防塵薄膜組件框架的另一個端面,設(shè)有用來將所述防塵薄膜組件貼附于玻璃基板的粘著劑,在所述粘著劑上表面,設(shè)置有可剝離片,所述防塵薄膜組件用粘著劑的特征在于其全光線透過率為不大于70%。本發(fā)明的防塵薄膜組件用粘著劑優(yōu)選為黑色。
文檔編號C09J7/02GK102236250SQ20111011724
公開日2011年11月9日 申請日期2011年5月5日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月7日
發(fā)明者堀越淳 申請人:信越化學工業(yè)株式會社
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