專利名稱：制膜方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在對象物上噴涂從噴嘴噴射出來的超微粒材料從而在對象物上形成膜的制膜方法。
背景技術(shù)：
如上所述那樣，使用由陶瓷材料或金屬材料形成的粒徑100 μ m以下的超微粒，用惰性氣體等將該超微粒氣溶膠化而制成超微粒材料，將該超微粒材料噴射到對象物上來制膜的技術(shù)，作為氣溶膠沉積法而廣為人知(例如參照下述專利文獻(xiàn)1)。下述專利文獻(xiàn)1中記載的制膜方法是能夠制造膜內(nèi)的超微粒的接合充分、組織致密、表面平滑、密度均勻的膜的制膜方法。具體而言，是相對于構(gòu)成對象物的平面傾斜地噴射超微粒材料的制膜方法。如此傾斜地噴射超微粒材料，能形成優(yōu)質(zhì)的膜。下述專利文獻(xiàn)1中記載的制膜方法，在構(gòu)成對象物的面僅為平面的情況下是極其有效的技術(shù)，但在構(gòu)成對象物的面包含彎曲面的情況下，還需要進(jìn)一步改進(jìn)。具體而言，要想方設(shè)法使超微粒材料的噴射角即使在彎曲面上也保持一定角度，例如有人提出了下述專利文獻(xiàn)2中記載的技術(shù)。下述專利文獻(xiàn)2中記載的制膜方法是在構(gòu)成圓筒形對象物的彎曲面上制膜的方法，其一邊使圓筒形對象物圍繞該圓筒形狀的中心軸轉(zhuǎn)動，一邊在圓筒形外周即彎曲面上噴涂超微粒材料。更具體而言，通過一邊使圓筒形對象物轉(zhuǎn)動一邊噴涂超微粒材料，使在圓筒形外周的彎曲面上反射的超微粒材料中的超微粒二次碰撞，從而形成均勻的膜。另外，作為在對象物的外周的一部分形成了彎曲面的情況下的制膜方法之一，有人提出了下述專利文獻(xiàn)3中記載的制膜方法。下述專利文獻(xiàn)3中記載的制膜方法通過使用專用噴嘴在彎曲面上生成密度高的膜，該專用噴嘴具有與在對象物外周的一部分形成的彎曲面的寬度相同的開口。專利文獻(xiàn)1 特開2002-20878號公報專利文獻(xiàn)2 特開2008-7804號公報專利文獻(xiàn)3 特開2008-240068號公報

發(fā)明內(nèi)容
用氣溶膠沉積法來制膜，如上述專利文獻(xiàn)1中所公開的那樣，相對于成為制膜對象的面，在保持一定的角度的同時傾斜地噴射超微粒材料，是形成密度高的優(yōu)質(zhì)膜的必要條件。上述專利文獻(xiàn)2中記載的制膜方法，以對象物是圓筒形為前提，用于噴射超微粒材料的噴嘴的位置固定，一邊使對象物轉(zhuǎn)動一邊噴涂超微粒材料。該制膜方法確實在對象物為圓筒形的情況下比較容易實現(xiàn)，但是例如像將長方體形狀的各棱邊倒角后那樣、對象物的一部分由彎曲面形成而其余部分由平面形成的情況下，很難生成致密且優(yōu)質(zhì)的膜。當(dāng)對象物的一部分由彎曲面形成而其余部分由平面形成時，若要采用上述專利文獻(xiàn)2中記載的制膜方法，為了僅在彎曲面上噴涂超微粒材料，需要使對象物或噴嘴轉(zhuǎn)動以使僅彎曲面與噴嘴正對。這必須要實現(xiàn)極小范圍內(nèi)的轉(zhuǎn)動動作，但是這個很難實現(xiàn)。此外， 彎曲面的曲率半徑越小，必須使轉(zhuǎn)動動作的速度越快，因此更加難以實現(xiàn)。另一方面，若要采用上述專利文獻(xiàn)3中記載的制膜方法，雖然不會產(chǎn)生上述轉(zhuǎn)動動作的技術(shù)問題，但必須使用僅用于在彎曲面上制膜的專用噴嘴。為此，需要交換用于平面上制膜的噴嘴和用于彎曲面上制膜的噴嘴，還需要構(gòu)筑用于并用這兩個噴嘴的特別機(jī)構(gòu)， 因此從煩雜的作業(yè)性和機(jī)構(gòu)的復(fù)雜性的觀點出發(fā)，其很難實現(xiàn)。此外，若采用上述專利文獻(xiàn) 3中記載的制膜方法，由于不是連續(xù)地在平面和彎曲面上進(jìn)行制膜，因此平面上形成的膜與彎曲面上形成的膜的接合部分不是一體的，在該接合部分膜的質(zhì)量可能會下降。本發(fā)明鑒于上述技術(shù)問題而完成，其目的在于提供用簡單的方法即可形成連續(xù)的優(yōu)質(zhì)膜的制膜方法，其通過在具備第一平面和與該第一平面成90度以上不足180度的角度的第二平面、連接上述第一平面和上述第二平面的彎曲面的對象物上，噴涂從噴嘴噴射出來的超微粒材料的同時，連續(xù)地改變其噴涂位置，從而生成連續(xù)地覆蓋上述第一平面和上述第二平面和上述彎曲面的膜。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的制膜方法通過在具備第一平面和與該第一平面成90度以上不足180度的角度的第二平面、連接上述第一平面和上述第二平面的彎曲面的對象物上，噴涂從噴嘴噴射出來的超微粒材料的同時，連續(xù)地改變其噴涂位置，從而生成連續(xù)地覆蓋上述第一平面和上述第二平面和上述彎曲面的膜，其具備第一配置工序和第一制膜工序、第二配置工序、第二制膜工序。在第一配置工序中，以如下方式，與所述第一平面對置地配置所述噴嘴沿著所述超微粒材料的噴射方向的噴射直線與所述第一平面所成的角度在30度到60度的范圍內(nèi)， 并且，當(dāng)所述噴嘴位于所述噴射直線到達(dá)所述第一平面與所述彎曲面的邊界即第一邊界線的位置時，在所述第一平面上投影所述噴射直線得到的第一假想線與所述第一邊界線所成的角度在0度到60度的范圍內(nèi)。在緊接第一配置工序、或與第一配置工序同時進(jìn)行的第一制膜工序中，一邊從上述噴嘴噴射上述超微粒材料，一邊在保持上述噴嘴與上述第一平面的距離和角度的同時， 在上述第一平面和與上述第一平面相連的上述彎曲面上連續(xù)地噴涂上述超微粒材料，連續(xù)地形成覆蓋上述第一平面的膜和覆蓋上述彎曲面的至少一部分的膜。在第二配置工序中，以如下方式，與所述第二平面對置地配置所述噴嘴沿著所述超微粒材料的噴射方向的噴射直線與所述第二平面所成的角度在30度到60度的范圍內(nèi)， 并且，當(dāng)所述噴嘴位于所述噴射直線到達(dá)所述第二平面與所述彎曲面的邊界即第二邊界線的位置時，在所述第二平面上投影所述噴射直線得到的第二假想線與所述第二邊界線所成的角度在0度到60度的范圍內(nèi)。在緊接第二配置工序、或與第二配置工序同時進(jìn)行的第二制膜工序中，一邊從上述噴嘴噴射上述超微粒材料，一邊在保持上述噴嘴與上述第二平面的距離和角度的同時， 在上述第二平面和與上述第二平面相連的上述彎曲面上連續(xù)地噴涂上述超微粒材料，連續(xù)地形成覆蓋上述第二平面的膜和進(jìn)一步覆蓋在上述第一制膜工序中形成于上述彎曲面的膜的膜。上述本發(fā)明的制膜方法，在第一制膜工序中，一邊從噴嘴噴射超微粒材料，一邊在保持噴嘴與第一平面的距離和角度的同時，連續(xù)地改變其噴涂位置，從而連續(xù)地形成覆蓋
4第一平面的膜和覆蓋彎曲面的至少一部分的膜。因此，能一體地形成覆蓋第一平面的膜和覆蓋彎曲面的膜，能實現(xiàn)接合部分無間隙的制膜。此外，在第一制膜工序之后進(jìn)行的第二制膜工序中，一邊從噴嘴噴射超微粒材料，一邊在保持噴嘴與第二平面的距離和角度的同時， 連續(xù)地改變其噴涂位置，從而連續(xù)地形成覆蓋第二平面的膜和進(jìn)一步覆蓋在第一制膜工序中形成于彎曲面的膜的膜。因此，能一體地形成覆蓋第二平面的膜和進(jìn)一步覆蓋彎曲面上形成的膜的膜，能實現(xiàn)接合部分無間隙的制膜。在彎曲面，使第二制膜工序中形成的膜與第一制膜工序中形成的膜重疊，因此可以使第一制膜工序中形成的膜為考慮了與對象物的密合性的膜，而使第二制膜工序中形成的膜為考慮了與下層膜的密合性和外觀的膜，能實現(xiàn)分別最佳化的制膜。此外，在本發(fā)明中，為了更切實地在第一制膜工序中在第一平面和彎曲面上制膜， 在第一配置工序中，對噴嘴與對象物的配置下了功夫。具體而言，以噴射直線與第一平面所成的角度為30度到60度的范圍內(nèi)的方式來配置。通過如此配置，能以形成適于在第一平面上的制膜的入射角度的方式來配置噴嘴。若僅考慮第一平面上的制膜，只要適當(dāng)?shù)卦O(shè)定噴射直線與第一平面所成的角度即可，因此噴射直線在第一平面上的入射方向可以改變， 只要保持其所成的角度即可。本發(fā)明者著眼于此點，以噴射直線與第一平面所成的角度保持上述條件的同時還滿足追加的條件的方式，來配置噴嘴。即，以如下方式來配置噴嘴當(dāng)噴嘴位于噴射直線到達(dá)第一平面與彎曲面的邊界即第一邊界線的位置時，在第一平面上投影噴射直線得到的第一假想線與第一邊界線所成的角度在O度到60度的范圍內(nèi)。特別是在第一平面與第二平面近似正交的情況下，還可以如下來配置噴嘴當(dāng)噴嘴位于噴射直線到達(dá)第一平面與彎曲面的邊界即第一邊界線的位置時，從與第二平面正對的側(cè)方(在噴射直線與第一平面相交的位置，與第二平面正對的方向)所見的第一側(cè)方角度在30度到60度的范圍內(nèi)。此時，噴嘴的配置也滿足上述條件。通過如此巧妙地設(shè)定相對于對象物的噴嘴的角度，在第一制膜工序中，采用使噴嘴與對象物進(jìn)行相對的二維運動(例如，使對象物轉(zhuǎn)動或使噴嘴相對于對象物平行移動的運動)這樣簡單的方法，即可在具有曲率半徑極小的彎曲面的對象物上也切實地形成優(yōu)質(zhì)膜。此外，在本發(fā)明中，為了更切實地在第二制膜工序中在第二平面和彎曲面上制膜， 在第二配置工序中，對噴嘴與對象物的配置下了功夫。此時的噴嘴與對象物的配置，與第一配置工序中的配置相同，只要將第一平面換成第二平面即可。通過如此下功夫，在第二制膜工序中，采用使噴嘴與對象物進(jìn)行相對的二維運動(例如，使對象物轉(zhuǎn)動或使噴嘴相對于對象物平行移動的運動)這樣簡單的方法，即可在具有曲率半徑極小的彎曲面的對象物上也切實地形成優(yōu)質(zhì)膜。另外，本發(fā)明的制膜方法還優(yōu)選在上述第一配置工序中，以上述噴射直線與上述第一平面所成的角度大于上述第一假想線與上述第一邊界線所成的角度的方式，來配置上述噴嘴與上述對象物。在此優(yōu)選的方式中，在第一配置工序中，以噴射直線與第一平面所成的角度大于第一假想線與第一邊界線所成的角度的方式，來配置噴嘴和對象物。為此，可以相對較大地設(shè)定噴射直線與第一平面所成的角度，而相對較小地設(shè)定第一假想線與第一邊界線所成的角度。因此，當(dāng)在第一制膜工序中在第一平面上噴涂超微粒材料時，能實現(xiàn)高效的制膜，能維持較高的制膜速度。關(guān)于彎曲面的制膜，由于在第二制膜工序中也進(jìn)行，因此第一制膜工序中的制膜，優(yōu)選重視與對象物的密合性，這也有利于避免產(chǎn)生剝離這樣的不良現(xiàn)象。為此，在第一配置工序中，通過相對較小地設(shè)定第一假想線與第一邊界線所成的角度，使超微粒材料在彎曲面上的噴射角度較小，能形成與對象物的密合性良好且膜質(zhì)高的膜。另外，本發(fā)明的制膜方法還優(yōu)選在上述第二配置工序中以如下方式來配置上述噴嘴和上述對象物上述噴射直線與上述第二平面所成的角度大于上述第二假想線與上述第二邊界線所成的角度，且上述第二假想線與上述第二邊界線所成的角度大于上述第一配置工序中上述第一假想線與上述第一邊界線所成的角度。特別是在第一平面與第二平面近似正交的情況下，還可以如下來配置噴嘴和對象物噴射直線與第二平面所成的角度大于第二假想線與第二邊界線所成的角度，第二配置工序中的第二側(cè)方角度大于第一配置工序中的第一側(cè)方角度。這里，第二側(cè)方角度是指，從與第一平面正對的側(cè)方(在噴射直線與第二平面相交的位置，與第一平面正對的方向)所見的噴射直線與第二平面所成的角度。此時，噴嘴的配置也滿足上述條件。在此優(yōu)選方式中，在第二配置工序中，以噴射直線與第二平面所成的角度大于第二假想線與第二邊界線所成的角度的方式，來配置噴嘴和對象物。為此，能相對較大地設(shè)定噴射直線與第二平面所成的角度，而相對較小地設(shè)定第二假想線與第二邊界線所成的角度。因此，當(dāng)在第二制膜工序中在第二平面上噴涂超微粒材料時，能實現(xiàn)高效的制膜，能維持較高的制膜速度。關(guān)于彎曲面上的制膜，由于在第一制膜工序中已有進(jìn)行，因此通過相對較小地設(shè)定第二假想線與第二邊界線所成的角度將制膜速度抑制得較低，能防止最終在彎曲面上形成的膜過厚。在此優(yōu)選方式中，還以第二假想線與第二邊界線所成的角度大于第一配置工序中第一假想線與第一邊界線所成的角度的方式，來配置噴嘴和對象物。為此，與第一配置工序中第一假想線與第一邊界線所成的角度相比，能相對較大地設(shè)定第二配置工序中第二假想線與第二邊界線所成的角度。通過較大地設(shè)定第二假想線與第二邊界線所成的角度，能進(jìn)一步提高第二制膜工序中在彎曲面上的制膜速度。如上所述，由于在第一制膜工序中在彎曲面上已經(jīng)形成了膜，因此即使提高了與該膜重疊的膜的制膜速度，也不易引起剝離這樣的不良現(xiàn)象。因此，與此優(yōu)選方式那樣設(shè)定第二假想線與第二邊界線所成的角度，能確保在彎曲面上形成的膜與對象物的密合性和生產(chǎn)率。另外，本發(fā)明的制膜方法還優(yōu)選在上述第一配置工序中，以上述噴射直線與上述第二平面所成的角度為60度以下的方式，來配置上述噴嘴和上述對象物。特別是在第一平面與第二平面近似正交的情況下，可以在第一配置工序中以噴射直線與第二平面所成的角度即第二側(cè)方角度為60度以下的方式，來配置噴嘴和對象物。此時，噴嘴的配置也滿足上述條件。在此優(yōu)選方式中，由于在第一配置工序中噴射直線與第二平面所成的角度設(shè)定為 60度以下，因此即使在第一制膜工序中從噴嘴噴射出來的超微粒材料到達(dá)第二平面，相對于第二平面的入射角度也不會超過60度。因此，能防止在還未進(jìn)行制膜的第二平面上形成密合性差且膜質(zhì)低的膜。另外，在第一平面與第二平面近似正交的情況下，還優(yōu)選以如下方式來配置上述噴嘴和上述對象物在第一配置工序中，噴射直線與第二平面所成的角度為第二側(cè)方角度且為30度以下，在第二配置工序中，噴射直線與第一平面所成的角度為第一側(cè)方角度且為 30度以下。若在第一平面與第二平面近似正交的情況下如此配置噴嘴，則即使在第一制膜工序中從噴嘴噴射出來的超微粒材料到達(dá)了第二平面，由于在第二平面上的入射角度小， 因而能設(shè)定成不會引起制膜。因此，能抑制在第一制膜工序中在第二平面上形成膜，能抑制在未被設(shè)定為第一制膜工序的被制膜面的第二平面上進(jìn)行不需要的制膜。同樣地，在第二配置工序中，由于噴射直線與第一平面所成的角度為第一側(cè)方角度且設(shè)定為30度以下，因此即使在第二制膜工序中從噴嘴噴射出來的超微粒材料到達(dá)了第一平面，由于在第一平面上的入射角度小，因而能設(shè)定成不會引起制膜。因此，無論在第一制膜工序中還是在第二制膜工序中，都能抑制在未被設(shè)定為被制膜面的一側(cè)的平面上進(jìn)行不需要的制膜，能實現(xiàn)整體均勻的制膜。另外，本發(fā)明的制膜方法還優(yōu)選在上述第一制膜工序和上述第二制膜工序中，從上述噴嘴噴射出來的上述超微粒材料，與上述超微粒材料的噴涂位置沿上述彎曲面改變的方向相比，在上述超微粒材料的噴涂位置向上述彎曲面改變的方向上更廣地被噴涂。在彎曲面上制膜時，從確保膜厚和膜質(zhì)的均質(zhì)性的觀點出發(fā)，與一次性形成較厚的膜相比，優(yōu)選每次制膜的厚度雖薄但反復(fù)進(jìn)行多次制膜動作的方法。為此，在此優(yōu)選方式中，通過將從噴嘴噴射出來的超微粒材料，在超微粒材料的噴涂位置向彎曲面改變的方向上更廣地噴涂，即使沿彎曲面改變噴涂位置，也不會局部變厚，能通過薄膜的重涂來制膜。另外，本發(fā)明的制膜方法還優(yōu)選，在上述第一制膜工序中，上述噴嘴固定，而使上述對象物沿上述第一平面移動，從而改變上述超微粒材料的噴涂位置，在上述第二制膜工序中，上述噴嘴固定，而使上述對象物沿上述第二平面移動，從而改變上述超微粒材料的噴涂位置。在此優(yōu)選方式中，無論在第一制膜工序還是在第二制膜工序中，噴嘴固定，而使對象物沿第一平面或第二平面移動，從而改變超微粒材料的噴涂位置，因而無需移動噴嘴即可制膜。因此，通過固定噴嘴能使噴射出來的超微粒材料的狀態(tài)穩(wěn)定，能確保膜厚和膜質(zhì)的均質(zhì)性。本發(fā)明能提供用簡單的方法即可形成連續(xù)且優(yōu)質(zhì)的膜的制膜方法，其通過在具備第一平面和與該第一平面成90度以上不足180度的角度的第二平面、連接第一平面和第二平面的彎曲面的對象物上，噴涂從噴嘴噴射出來的超微粒材料的同時，連續(xù)地改變其噴涂位置，從而生成連續(xù)地覆蓋第一平面和第二平面和彎曲面的膜。


圖1是表示用于實施本發(fā)明的制膜裝置的簡要結(jié)構(gòu)圖。圖2是表示使用圖1所示的制膜裝置制膜時制膜對象物與噴嘴的關(guān)系的立體圖。圖3是表示制膜對象物的例子之一、即外側(cè)面與上表面所成的角度為鈍角這樣形狀的制膜對象物的立體圖。圖4是表示制膜對象物的例子之一、即內(nèi)側(cè)面與上表面所成的角度為鈍角這樣形狀的制膜對象物的立體圖。圖5是用于說明在第一配置工序和第一制膜工序中制膜對象物與沿著超微粒材料的噴射方向的噴射直線所成的角度的立體圖。圖6是用于說明在第二配置工序和第二制膜工序中制膜對象物與沿著超微粒材料的噴射方向的噴射直線所成的角度的立體圖。圖7是用于說明制膜對象物與沿著超微粒材料的噴射方向的噴射直線所成的角度的立體圖。圖8是用于說明制膜對象物與沿著超微粒材料的噴射方向的噴射直線的從側(cè)方所見的角度的圖。圖9是用于說明制膜對象物與沿著超微粒材料的噴射方向的噴射直線的從上方所見的角度的圖。圖10是表示圖9的I-I截面的圖，所示為制膜對象物上的膜的形成過程。圖11是表示圖9的I-I截面的圖，所示為制膜對象物上的膜的形成過程。圖12是表示圖9的I-I截面的圖，所示為制膜對象物上的膜的形成過程。圖13是表示圖9的I-I截面的圖，所示為制膜對象物上的膜的形成過程。圖14是表示在制膜對象物上形成膜后的截面的照片的圖。符號說明10-制膜裝置；101-儲氣瓶；102-氣溶膠發(fā)生器；103-制膜室；104-真空泵； 105-載氣流路；106-氣溶膠流路；107-噴嘴；108-基臺；109-試樣臺。
具體實施例方式下面，參照附圖來說明本發(fā)明的實施方式。為了易于內(nèi)容的理解，各圖中對相同的結(jié)構(gòu)要素盡可能采用相同的符號，并省略重復(fù)性說明。參照圖1，對在作為本發(fā)明的實施方式的制膜方法中使用的制膜裝置進(jìn)行說明。圖 1是表示制膜裝置10的結(jié)構(gòu)的簡要結(jié)構(gòu)圖。如圖1所示，制膜裝置10具備儲氣瓶101和氣溶膠發(fā)生器102、制膜室103、真空泵104。儲氣瓶101與氣溶膠發(fā)生器102由載氣流路105連接。氣溶膠發(fā)生器102除了與載氣流路105相連外，還與氣溶膠流路106的一端相連。在氣溶膠流路106的另一端，設(shè)有噴嘴107。噴嘴107配置在制膜室103內(nèi)。在制膜室103內(nèi)，配置了 XYZ θ α基臺108和試樣臺109。在XYZ θ α基臺上安裝有試樣臺109，以如下方式構(gòu)成能向沿著相互正交的χ 軸、y軸、ζ軸的方向移動，能在xy平面內(nèi)轉(zhuǎn)動，能進(jìn)行使試樣臺109傾斜的傾斜動作。通過調(diào)節(jié)XYZ θ α基臺108，即可使載置于試樣臺109上的制膜對象物與噴嘴107對置。在制膜室103內(nèi)，還連有真空泵104。驅(qū)動真空泵104，即可減少制膜室103內(nèi)的壓力。在氣溶膠發(fā)生器102內(nèi)，裝有陶瓷微粒(超微粒)。在儲氣瓶101內(nèi)，在高壓下封入了載氣。作為載氣，例如可以使用氬、氮、氦這樣的惰性氣體、氧、干燥空氣、或它們的混合氣體。載氣從儲氣瓶101經(jīng)由載氣流路105進(jìn)入氣溶膠發(fā)生器102內(nèi)。利用裝于氣溶膠發(fā)生器102內(nèi)的陶瓷微粒和從儲氣瓶101被運送到氣溶膠發(fā)生器102內(nèi)的載氣，形成氣溶膠 (超微粒材料)。氣溶膠發(fā)生器102內(nèi)形成的氣溶膠，經(jīng)由氣溶膠流路106被提供給噴嘴107。被提供給噴嘴107的氣溶膠，從設(shè)在噴嘴107的頂端的噴射孔噴射，噴涂到安裝于XYZ θ α基臺108上的試樣臺109上所放置的對象物上。當(dāng)氣溶膠被噴涂到對象物上時，氣溶膠中含有的陶瓷微粒與對象物碰撞，利用其機(jī)械沖擊力在對象物上形成致密的陶瓷被膜。接著，參照圖2來說明對象物與噴嘴107的相對位置關(guān)系。圖2是表示使用圖1 所示的制膜裝置制膜時制膜對象物W與噴嘴107的關(guān)系的立體圖。圖2所示的制膜對象物 W整體呈圓環(huán)狀，具有上表面WOl (第一平面)和外側(cè)面W02 (第二平面)、內(nèi)側(cè)面W12、彎曲面W03、彎曲面W13。上表面WOl是呈圓環(huán)狀的平面。外側(cè)面W02是與上表面WOl近似正交的面，沿上表面WOl的外圓直立設(shè)置。內(nèi)側(cè)面W12是與上表面WOl近似正交的面，沿上表面 WOl的內(nèi)圓直立設(shè)置。彎曲面W03是連接上表面WOl和外側(cè)面W02的面。彎曲面W13是連接上表面WOl和內(nèi)側(cè)面W12的面。如上所述，圖2所示為外側(cè)面W02與上表面WOl近似正交的制膜對象物W的例子。 但是，本實施方式的制膜方法不僅限用于這種形狀的制膜對象物W。還可適用于例如圖3所示那樣外側(cè)面W02與上表面WOl所成的角度為鈍角、即超過90度且不足180度的角度的制膜對象物W。這對于內(nèi)側(cè)面W12與上表面WOl所成的角度也同樣，對于圖4所示那樣內(nèi)側(cè)面 W12與上表面WOl所成的角度為鈍角、即超過90度且不足180度的角度的制膜對象物W，將內(nèi)側(cè)面W12和上表面WOl連續(xù)制膜的情況下也適用。下面，除特殊說明外，在制膜對象物W的外側(cè)面W02與上表面WOl近似正交且內(nèi)側(cè)面W12與上表面WOl近似正交的情況下，對本實施方式的制膜方法進(jìn)行說明。噴嘴107從其頂端噴射氣溶膠Cp (超微粒材料)。沿著氣溶膠Cp的噴射方向的噴射直線幾，與制膜對象物W碰撞于碰撞點Hp。噴嘴107以相對于制膜對象物W沿方向D2 移動的方式構(gòu)成。當(dāng)噴嘴107沿方向D2移動時，碰撞點Hp沿移動直線ML移動。制膜對象物W以沿方向Dl轉(zhuǎn)動的方式載置于試樣臺109上。另外，在圖2中，以沿著上表面WOl的平面為xy平面來設(shè)定χ軸和y軸。χ軸沿移動直線ML和方向D2設(shè)定，y軸以與χ軸正交的方式設(shè)定。ζ軸沿貫穿制膜對象物W沿方向Dl轉(zhuǎn)動時的轉(zhuǎn)動中心的中心軸設(shè)定，與χ軸及y軸正交。以下的說明以圖2中設(shè)定的χ 軸、y軸以及ζ軸為基準(zhǔn)來進(jìn)行。圖5是用于說明在第一配置工序和第一制膜工序中制膜對象物W與沿著氣溶膠Cp 的噴射方向的噴射直線幾所成的角度的立體圖。另外，在圖5中，還將對上表面WOl (第一平面)與外側(cè)面W02(第二平面)所成的角度SX進(jìn)行說明，因此將圖3所示形狀的制膜對象物W的E部分放大顯示。如圖5所示，當(dāng)噴射直線JL與上表面WOl相交的碰撞點Hp沿移動直線ML移動時， 噴射直線幾與上表面WOl所成的角度α即為角AHpB的角度。點A是噴射直線JL上的任意的點。點B是從點A在上表面WOl作垂線時在上表面WOl上的交點。在本實施方式中， 在上表面WOl上制膜時所成的角度α設(shè)定為30度到60度之間的角度。點Pl所示為氣溶膠Cp的噴涂位置沿上表面WOl上的移動直線ML移動而到達(dá)彎曲面W03時的噴涂位置。若將表示上表面WOl (第一平面)與彎曲面W03的邊界的線作為第一邊界線BLl，則如圖5所示，點Pl是移動直線ML與第一邊界線BLl的交點。第一假想線VLl是在上表面WOl (第一平面)上投影噴射直線幾得到的直線。在本實施方式中，在氣溶膠Cp的噴涂位置改變而到達(dá)彎曲面W03時的點、即點Ρ1，第一假想線
9VLl與第一邊界線BLl所成的角度rl為0度到60度之間的角度。若將與第一邊界線BLl 在點Pl相切的切線作為切線BLXl，則如圖5所示，上述角度rl和第一假想線VLl與切線 BLXl所成的角度一致。圖6是用于說明在第二配置工序和第二制膜工序中制膜對象物W與沿著氣溶膠Cp 的噴射方向的噴射直線幾2所成的角度的立體圖。圖6中的制膜對象物W與圖5所示的相同。另外，在第一制膜工序結(jié)束后的第二配置工序中，噴射直線幾2的方向不變，而相對于噴射直線幾2的制膜對象物W的方向改變。但是在圖6中為了便于說明，以與圖5相同的方向表示制膜對象物W，而噴射直線JL2的方向與第一制膜工序中的噴射直線JL的方向不同。如圖6所示，當(dāng)噴射直線JL2與外側(cè)面W02 (第二平面)相交的碰撞點Hp2沿移動直線ML2移動時，噴射直線JL2與外側(cè)面W02所成的角度α 2即為角A2Hp2B2的角度。點 A2是噴射直線JL2上的任意的點。點B2是在與外側(cè)面W02(第二平面)在Hp2相切的假想平面上從點A2作垂線時、在上述假想平面上的交點。在本實施方式中，在外側(cè)面W02上制膜時所成的角度α 2設(shè)定為30度到60度之間的角度。點Ρ2所示為氣溶膠Cp的噴涂位置沿外側(cè)面W02 (第二平面)上的移動直線ML2 移動而到達(dá)彎曲面W03時的噴涂位置。若將表示外側(cè)面W02(第二平面)與彎曲面W03的邊界的線作為第二邊界線BL2，則如圖6所示，點P2是移動直線ML2與第二邊界線BL2的交
點ο第二假想線VL2是在上述假想平面上投影噴射直線幾2得到的直線。該第二假想線VL2與在外側(cè)面W02上投影噴射直線JL2得到的線在點P2 —致。在本實施方式中，在氣溶膠Cp的噴涂位置改變而到達(dá)彎曲面W03時的點、即點P2， 第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度r2設(shè)定為0度到60度之間的角度。若將與第二邊界線BL2在點P2相切的切線作為切線BLX2，則如圖6所示，上述角度r2和第二假想線VL2與接線BLX2所成的角度一致。關(guān)于圖5和圖6所示的制膜對象物W的形狀，第一平面(上表面W01)與第二平面 (外側(cè)面W02)所成的角度SX為鈍角，即超過90度且不足180的角度。本發(fā)明的制膜方法可適用于角度SX為90度以上不足180度的情況。下面，參照附圖再接著說明角度SX為近似90度的制膜對象物W、即上表面WOl (第一平面)與外側(cè)面W02 (第二平面)近似正交的制膜對象物W。在上表面WOl (第一平面)與外側(cè)面W02(第二平面)近似正交的情況下，通過以第一側(cè)方角度Y為30度到60度的方式來配置噴嘴107，也能使第一假想線VLl與第一邊界線BLl所成的角度rl為0度到60度之間的角度。參照圖7和圖8對該第一側(cè)方角度、 進(jìn)行說明。圖7是用于說明在上表面WOl與外側(cè)面W02近似正交的情況下制膜對象物W與沿著氣溶膠Cp的噴射方向的噴射直線幾所成的角度的立體圖。圖7也與圖5所示的同樣， 在上表面WOl上制膜時所成的角度α設(shè)定為30度到60度之間的角度。圖8是用于說明制膜對象物W與沿著氣溶膠Cp的噴射方向的噴射直線幾的從側(cè)方所見的角度的圖。如圖8所示，從透視氣溶膠Cp的噴涂位置改變的方向即移動直線ML 的側(cè)方所見的、噴射直線幾與上表面WOl的表觀上的角度，即為第一側(cè)方角度Y。更具體而言，當(dāng)氣溶膠Cp的噴涂位置沿移動直線ML移動而到達(dá)上表面WOl的最外周，噴涂位置位于彎曲面W03上時，在該噴涂位置從與外側(cè)面W02正對的方向所見的表觀上的角度，即為第一側(cè)方角度Y。換言之，由于制膜對象物W呈圓環(huán)狀，外側(cè)面W02呈圓筒狀，因此當(dāng)氣溶膠 Cp的噴涂位置位于彎曲面W03上時，從與在該噴涂位置和外側(cè)面W02相切的面正對的方向所見的表觀上的角度，即為第一側(cè)方角度Y。由于第一側(cè)方角度Y如上所述來定義，因此在上表面WOl (第一平面)與外側(cè)面 W02(第二平面)近似正交的情況下，只要以第一側(cè)方角度Y為30度到60度之間的角度的方式來配置噴嘴，即可使第一假想線VLl與第一邊界線BLl所成的角度rl為0度到60度之間的角度。圖9是用于說明制膜對象物W與沿著氣溶膠Cp的噴射方向的噴射直線幾的從上方(以外側(cè)面W02為基準(zhǔn)的話是側(cè)方)所見的角度的圖。圖9中，以噴射直線幾交于上表面WOl的碰撞點Hp在移動直線ML上移動的方式，噴嘴107與制膜對象物W相對地移動。當(dāng)碰撞點Hp位于上表面WOl上的位置Hpa時，氣溶膠Cp以呈橢圓狀的方式與上表面WOl碰撞。該氣溶膠Cp碰撞的橢圓狀區(qū)域，以沿著移動直線ML的方向(氣溶膠Cp的噴涂位置向彎曲面W03改變的方向)為長軸，以沿著與移動直線ML正交的方向(氣溶膠Cp的噴涂位置沿彎曲面W03改變的方向)的方向為短軸。在第一制膜工序中，當(dāng)碰撞點Hp到達(dá)外側(cè)面W02 (第二平面)而位于位置Hpb時， 在該位置Hpb外側(cè)面W02(第二平面)與噴射直線幾所成的角度設(shè)定為60度以下。特別是，如本實施方式那樣在上表面WOl(第一平面)與外側(cè)面W02(第二平面)近似正交的情況下，通過以第二側(cè)方角度β為60度以下的角度的方式來配置噴嘴，也能使外側(cè)面W02(第二平面)與噴射直線幾所成的角度為60度以下的角度。第二側(cè)方角度β是指，碰撞點Hp到達(dá)外側(cè)面W02時，從與上表面WOl (第一平面) 正對的側(cè)方所見的角度。換言之，當(dāng)碰撞點Hp到達(dá)外側(cè)面W02 (第二平面)而位于位置Hpb 時，在位置Hpb與外側(cè)面W02 (第二平面)相切的切線MLc與噴射直線JL的表觀上的角度。由于第二側(cè)方角度β如上所述來定義，因此在上表面WOl (第一平面)與外側(cè)面 W02(第二平面)近似正交的情況下，只要以第二側(cè)方角度β為60度以下的角度的方式來配置噴嘴，即可使外側(cè)面W02 (第二平面)與噴射直線JL所成的角度為60度以下的角度。接著，對制膜對象物W上的制膜方法進(jìn)行說明。在說明制膜方法時，參照圖10 圖13。圖10和圖11是表示圖9的I-I截面的圖，所示為制膜對象物W上的膜的形成過程， 主要是在上表面WOl和彎曲面W03、W13上制膜的過程。圖12和圖13是表示圖9的I-I截面的圖，所示為制膜對象物上的膜的形成過程，主要是在外側(cè)面W02和彎曲面W03、W05上制膜的過程。如圖10所示，以如下方式與上表面WOl對置地配置噴嘴107 以保持能在上表面 WOl上噴涂氣溶膠的距離的方式使噴嘴107間隔一定距離，另一方面使沿著氣溶膠的噴射方向的噴射直線JL相對于上表面WOl的角度、即噴射直線JL與上表面WOl所成的角度α 為30度到60度，在氣溶膠的噴涂位置改變而到達(dá)彎曲面W03、W13時的點，從與內(nèi)側(cè)面W12、 外側(cè)面W02正對的側(cè)方所見的第一側(cè)方角度γ為30度到60度(第一配置工序)。如此配置噴嘴107的結(jié)果是，在氣溶膠的噴涂位置改變而到達(dá)彎曲面W03時的點，以上表面WOl為第一平面定義的第一假想線VLl與第一邊界線BLl所成的角度rl為0度到60度之間的角度。在本實施方式中，使噴嘴107向沿著移動直線ML的方向D2移動的同時，使制膜對象物W向沿著方向Dl的方向轉(zhuǎn)動來制膜，以噴射直線幾從制膜對象物W的一方的外側(cè)移動到另一方的外側(cè)的方式來移動噴嘴107。圖10所示為噴射直線JL從制膜對象物W的一方的外側(cè)移動到中心附近時的制膜狀態(tài)。以噴射直線幾從制膜對象物W的一方的外側(cè)移動到中心附近的方式，使噴嘴107 從位置107a移動到位置107b時，由于制膜對象物W轉(zhuǎn)動，因此會在上表面WOl上形成被膜 FOl0由于噴嘴107以向噴嘴107移動的方向D2的后方側(cè)噴射氣溶膠的方式傾斜，因此氣溶膠的噴射方向與彎曲面W13正對。從而在彎曲面W13上形成被膜FOl。另一方面，在噴嘴 107從位置107a移動到位置107b期間，由于氣溶膠的噴射方向與彎曲面W03不正對，因而不會在彎曲面W03上形成被膜FOl。圖11所示為噴射直線JL從制膜對象物W的中心附近移動到另一方的外側(cè)時的制膜狀態(tài)。以噴射直線幾從制膜對象物W的中心附近移動到另一方的外側(cè)的方式，使噴嘴 107從位置107c移動到位置107d時，由于制膜對象物W轉(zhuǎn)動，因此上表面WOl的被膜FOl 成長。由于噴嘴107以向噴嘴107移動的方向D2的后方側(cè)噴射氣溶膠的方式傾斜，因此這次氣溶膠的噴射方向與彎曲面W03正對。從而在彎曲面W03上也形成被膜FOl。另一方面， 在噴嘴107從位置107c移動到位置107d期間，由于氣溶膠的噴射方向與彎曲面W13不正對，因此在彎曲面W13上形成的被膜FOl不會成長。通過進(jìn)行如圖10和圖11所示的制膜，能一邊從噴嘴107噴射氣溶膠，一邊在保持最初配置的噴嘴107與制膜對象物W之間的距離和角度的同時，連續(xù)地改變其噴涂位置，在上表面WOl和與上表面WOl相連的彎曲面W03、W13上連續(xù)噴涂氣溶膠，連續(xù)地形成覆蓋上表面WOl的膜和覆蓋彎曲面W03、W13的至少一部分的膜(第一制膜工序)。另外，在第一配置工序和第一制膜工序中，從上表面WOl方向所見的噴射直線JL與外側(cè)面W02的第二側(cè)方角度β設(shè)定為30度的角度。如此配置噴嘴107的結(jié)果是，在氣溶膠的噴涂位置改變而到達(dá)外側(cè)面W02時的點，外側(cè)面W02與噴射直線JL所成的角度為60度以下的角度。接著，如圖12所示，以如下方式與外側(cè)面對置地配置噴嘴107 以保持能在外側(cè)面 W02上噴涂氣溶膠的距離的方式使噴嘴107間隔一定距離，另一方面，噴射直線JL2相對于外側(cè)面W02的角度、即噴射直線JL2與外側(cè)面W02所成的角度為30度到60度，在氣溶膠的噴涂位置改變而到達(dá)彎曲面W05時的點，從與下表面W04正對的側(cè)方所見的第一側(cè)方角度 Y為30度到60度(第二配置工序)。圖12所示為噴射直線JL2從制膜對象物W的一方的外側(cè)移動到另一方的外側(cè)時的制膜狀態(tài)。以噴射直線幾2從制膜對象物W的一方的外側(cè)移動到另一方的外側(cè)的方式， 使噴嘴107從位置107e移動到位置107f時，由于制膜對象物W轉(zhuǎn)動，因此在外側(cè)面W02上形成被膜F02。由于噴嘴107以向噴嘴107移動的方向D2的后方側(cè)噴射氣溶膠的方式傾斜，因此氣溶膠的噴射方向與彎曲面W05正對。從而在彎曲面W05上形成被膜F02。另一方面，噴嘴107以該傾斜方向從位置107e移動到位置107f期間，氣溶膠的噴射方向與彎曲面 W03不正對，因而不會在彎曲面W03上形成被膜F02。接著，如圖13所示，使噴嘴107以向噴嘴107移動的方向D2的前方側(cè)噴射氣溶膠的方式傾斜，使氣溶膠的噴射方向與彎曲面W03正對。圖13中，也是以如下方式與外側(cè)面對置地配置噴嘴107 以保持能在外側(cè)面W02上噴涂氣溶膠的距離的方式使噴嘴107間隔一定距離，另一方面使噴射直線幾相對于外側(cè)面W02的角度、即噴射直線JL2與外側(cè)面W02 所成的角度為30度到60度，在氣溶膠的噴涂位置改變而到達(dá)彎曲面W03時的點，從與上表面WOl正對的側(cè)方所見的第一側(cè)方角度Y為30度到60度。如此配置噴嘴107的結(jié)果是， 在氣溶膠的噴涂位置改變而到達(dá)彎曲面W03時的點，以外側(cè)面W02為第二平面定義的第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度r2為0度到60度之間的角度。以該配置使噴嘴107從位置107g移動到位置107h時，由于制膜對象物W轉(zhuǎn)動，因此在外側(cè)面W02上形成的被膜F02會成長。由于噴嘴107以向噴嘴107移動的方向D2的前方側(cè)噴射氣溶膠的方式傾斜，因此氣溶膠的噴射方向與彎曲面W03正對。從而在彎曲面 W03上形成被膜F02。另一方面，噴嘴107以該傾斜方向從位置107g移動到位置10 期間， 由于氣溶膠的噴射方向與彎曲面W05不正對，因此不會在彎曲面W05上形成被膜F02。在圖12和圖13中，為了在彎曲面W03和彎曲面W05兩者上都形成被膜F02，改變了噴嘴107的傾斜方向，但是若只在彎曲面W03上形成被膜F02即可時，優(yōu)選以圖13所示的噴嘴107的角度來制膜。另外，當(dāng)制膜對象物W為長方體時，由于無法如本實施方式那樣一邊使其轉(zhuǎn)動一邊來制膜，因此如參照圖12和圖13進(jìn)行的說明那樣，通過改變噴嘴107的傾斜方向來制膜，能在上述那樣的彎曲面W03上制膜。用上述制膜方法在上表面WOl和彎曲面W03上形成被膜FOl，在外側(cè)面W02和彎曲面W03上形成被膜F02，則被膜FOl和被膜F02成為一體，即被膜F。被膜F的截面照片示于圖14。如圖14所示，被膜F由被膜FOl和被膜F02 —體形成，因此形成了被膜FOl與被膜F02的邊界消失而渾然一體的膜。如此在彎曲面上進(jìn)行無邊界制膜是本實施方式的制膜方法的特征之一。根據(jù)上述本實施方式，在第一制膜工序(參照圖10和圖11)中，通過一邊從噴嘴 107噴射氣溶膠，一邊在保持噴嘴107與制膜對象物W的距離和角度的同時連續(xù)地改變其噴涂位置，從而連續(xù)地形成覆蓋第一平面即上表面WOl的被膜FOl和覆蓋彎曲面W03、W13的至少一部分的被膜FOl。因此，能一體地形成覆蓋上表面WOl的被膜FOl和覆蓋彎曲面W03、 W13的被膜F01，可實現(xiàn)接合部分無間隙的制膜。此外，在第一制膜工序之后進(jìn)行的第二制膜工序(參照圖12和圖13)中，通過一邊從噴嘴107噴射氣溶膠，一邊在保持噴嘴107與制膜對象物W的距離和角度的同時連續(xù)地改變其噴涂位置，從而連續(xù)地形成覆蓋第二平面即外側(cè)面W02的被膜F02和進(jìn)一步覆蓋在第一制膜工序中形成于彎曲面W03的被膜FOl的被膜F02。因此，能一體地形成覆蓋外側(cè)面W02的被膜F02和進(jìn)一步覆蓋形成于彎曲面W03上的被膜FOl的被膜F02，可實現(xiàn)接合部分無間隙的制膜。著眼于彎曲面W03，由于使第二制膜工序中形成的被膜F02與第一制膜工序中形成的被膜FOl重疊，因此可使第一制膜工序中形成的被膜FOl為考慮了與制膜對象物W的密合性的膜，而使第二制膜工序中形成的被膜F02為考慮了與下層被膜FOl的密合性和外觀的膜，可實現(xiàn)分別最佳化的制膜。此外，在本實施方式中，為了更切實地在第一制膜工序中進(jìn)行上表面WOl和彎曲面W03、W13上的制膜，在第一配置工序中，對噴嘴107與制膜對象物W的配置下了功夫。具體而言，以如下方式配置以保持能向上表面WOl噴涂氣溶膠的距離的方式使噴嘴107間隔一定距離，另一方面使噴射直線幾相對于上表面WOl的角度即噴射直線JL與上表面WOl 所成的角度α為30度到60度。通過如此配置，能以形成適合在上表面WOl上制膜的入射角度的方式來配置噴嘴 107。若僅考慮上表面WOl上的制膜，則只要恰當(dāng)?shù)卦O(shè)定噴射直線幾與上表面WOl所成的角度α即可，因此噴射直線JL相對于上表面WOl的入射方向可以改變，只要保持其所成的角度α即可。本發(fā)明者著眼于此點，使噴射直線JL相對于上表面WOl的角度作為噴射直線JL 與上表面WOl所成的角度α，在遵守上述條件的同時，進(jìn)一步滿足追加的條件，來配置噴嘴。即，以如下方式來配置將作為第一平面的上表面WOl與彎曲面W03的邊界作為第一邊界線BLl時，在氣溶膠的噴涂位置改變而到達(dá)彎曲面W03時的點，在上表面WOl上投影噴射直線幾得到的第一假想線VLl與第一邊界線BLl所成的角度為0度到60度的范圍內(nèi)。如上所述，通過巧妙地設(shè)定噴嘴107與制膜對象物W的角度，在第一制膜工序中， 采用使噴嘴107與制膜對象物W進(jìn)行相對的二維運動(例如使對象物轉(zhuǎn)動，或使噴嘴相對于對象物平行移動等運動)這樣簡單的方法，即使在具有曲率半徑極微小的彎曲面W03、 W13的制膜對象物W上也能切實地形成優(yōu)質(zhì)的膜。此外，在本實施方式中，為了更切實地在第二制膜工序(參照圖12和圖13)中進(jìn)行外側(cè)面W02和彎曲面W03上的制膜，在第二配置工序中，對噴嘴107與制膜對象物W的配置下了功夫。具體而言，以如下方式配置以保持能向外側(cè)面W02噴涂氣溶膠的距離的方式使噴嘴107間隔一定距離，另一方面使噴射直線幾2相對于外側(cè)面W02的角度即噴射直線 JL2與外側(cè)面W02所成的角度α 2為30度到60度。通過如此配置，能以形成適合在外側(cè)面 W02上制膜的入射角度的方式配置噴嘴107。若僅考慮外側(cè)面W02上的制膜，則只要恰當(dāng)?shù)卦O(shè)定噴射直線幾2與外側(cè)面W02所成的角度α 2即可，因此噴射直線JL2相對于外側(cè)面W02 的入射方向可以改變，只要保持其所成的角度α 2即可。本發(fā)明者著眼于此點，使噴射直線JL2相對于外側(cè)面W02的角度作為噴射直線JL2 與外側(cè)面W02所成的角度α 2，在遵守上述條件的同時，進(jìn)一步滿足追加的條件，來配置噴嘴。即，以如下方式來配置將作為第二平面的外側(cè)面W02與彎曲面W03的邊界作為第二邊界線BL2時，在氣溶膠的噴涂位置改變而到達(dá)彎曲面W03時的點，在外側(cè)面W02上投影噴射直線幾2得到的第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度為0度到60度的范圍內(nèi)。如上所述，通過巧妙地設(shè)定噴嘴107與制膜對象物W的角度，在第二制膜工序中， 也可以采用使噴嘴107與制膜對象物W進(jìn)行相對的二維運動(例如使對象物轉(zhuǎn)動，或使噴嘴相對于對象物平行移動等運動)這樣簡單的方法，在具有曲率半徑極微小的彎曲面W03、 W05的制膜對象物W上切實地形成優(yōu)質(zhì)的膜。另外，本實施方式還優(yōu)選在第一配置工序中以如下方式來配置噴嘴107和制膜對象物W，即噴射直線幾與上表面WOl所成的角度α大于第一假想線VLl與第一邊界線BLl 所成的角度rl。在此優(yōu)選的配置中，在第一配置工序中，以如下方式來配置噴嘴107與制膜對象物W:噴射直線幾與上表面WOl所成的角度α大于以上表面WOl為第一平面定義的第一假想線VLl與第一邊界線BLl所成的角度rl。由此，可以相對較大地設(shè)定噴射直線幾與上表面WOl所成的角度α，而相對較小地設(shè)定第一假想線VLl與第一邊界線BLl所成的角度
14rl。因此，當(dāng)在第一制膜工序中向上表面WOl噴涂氣溶膠時，能實現(xiàn)高效的制膜，能維持較高的制膜速度。由于彎曲面W03上的制膜在第二制膜工序中也進(jìn)行，因此第一制膜工序中彎曲面W03上的制膜優(yōu)選重視與制膜對象物W的密合性，這也有利于避免發(fā)生剝離這樣的不良現(xiàn)象。為此，在第一配置工序中，通過相對較小地設(shè)定第一假想線VLl與第一邊界線BLl所成的角度rl，使彎曲面W03上的氣溶膠的噴射角度較小，能形成膜質(zhì)好的膜。特別是在第一平面(上表面W01)與第二平面(外側(cè)面W02、內(nèi)側(cè)面WU)近似正交的情況下，還可以使第一側(cè)方角度、小于噴射直線JL與上表面WOl所成的角度α來配置噴嘴107和制膜對象物W。另外，本實施方式還優(yōu)選在第二配置工序中以如下方式來配置噴嘴107與制膜對象物W 噴射直線JL2與作為第二平面的外側(cè)面W02所成的角度α 2大于第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度r2，且第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度r2大于在第一配置工序中第一假想線VLl與第一邊界線BLl所成的角度rl。特別是在上表面WOl與外側(cè)面W02近似正交的情況下，可以如下來配置噴嘴107 和制膜對象物W 噴射直線JL2與外側(cè)面W02所成的角度α 2大于第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度r2，且第二配置工序中的第二側(cè)方角度β大于第一配置工序中的第一側(cè)方角度Y。此時，噴嘴107的配置也滿足上述條件。在此優(yōu)選配置中，在第二配置工序中以如下方式來配置噴嘴107和制膜對象物W 噴射直線幾2與外側(cè)面W02所成的角度α 2大于以外側(cè)面W02為第二平面定義的第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度r2。由此，可以相對較大地設(shè)定噴射直線幾2與外側(cè)面W02所成的角度α 2，而相對較小地設(shè)定第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度 r2。因此，當(dāng)在第二制膜工序中向外側(cè)面W02噴涂氣溶膠時，能實現(xiàn)高效的制膜，能維持較高的制膜速度。彎曲面W03上的制膜由于在第一制膜工序中已有進(jìn)行，因此通過相對較小地設(shè)定第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度r2，能將制膜速度抑制地較低，防止最終在彎曲面W03上形成的膜過厚。在此優(yōu)選方式中，還使第二配置工序中的第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度r2大于第一配置工序中第一假想線VLl與第一邊界線BLl所成的角度rl，來配置噴嘴和對象物。因此，相對于第一配置工序中第一假想線VLl與第一邊界線BLl所成的角度rl，可相對較大地設(shè)定第二配置工序中的第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度 r2。通過較大地設(shè)定第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度r2，能進(jìn)一步提高第二制膜工序中彎曲面W03上的制膜速度。如上所述，由于在第一制膜工序中已在彎曲面W03上形成了膜，因此即使提高了與該膜重疊的膜的制膜速度，也不易產(chǎn)生剝離這樣的不良現(xiàn)象。為此，如該優(yōu)選方式那樣設(shè)定第二假想線VL2與第二邊界線BL2所成的角度，能確保彎曲面W03上形成的膜與對象物的密合性和生產(chǎn)率。另外，本實施方式還優(yōu)選在第一配置工序中以噴射直線幾2與作為第二平面的外側(cè)面W02的角度α 2為60度以下來配置噴嘴107和制膜對象物W。特別是在上表面WOl與外側(cè)面W02近似正交的情況下，可以在第一配置工序中，以噴射直線JL相對于外側(cè)面W02的角度為第二側(cè)方角度β且為60度以下的方式，來配置噴嘴107和制膜對象物W。此時，噴嘴107的配置也滿足上述條件。在此優(yōu)選配置中，由于在第一配置工序中噴射直線JL相對于外側(cè)面W02的角度為第二側(cè)方角度β且設(shè)定為60度以下，因此在第一制膜工序中，即使從噴嘴107噴射出來的氣溶膠到達(dá)外側(cè)面W02，相對于外側(cè)面W02的入射角度也不會超過60度。因此，能防止在還未進(jìn)行制膜的外側(cè)面W02上形成密合性差且膜質(zhì)低的膜。另外，在上表面WOl與外側(cè)面W02近似正交的情況下，還優(yōu)選以如下方式來配置噴嘴107和制膜對象物W 在第一配置工序中，噴射直線JL相對于外側(cè)面W02的角度為第二側(cè)方角度β且為30度以下，在第二配置工序中，噴射直線相對于上表面WOl的角度為第一側(cè)方角度Y且為30度以下。若在上表面WOl與外側(cè)面W02近似正交的情況下如此配置， 則即使在第一制膜工序中從噴嘴107噴射出來的氣溶膠到達(dá)外側(cè)面W02，由于相對于外側(cè)面W02的入射角度小，因此可設(shè)定成不進(jìn)行制膜的方式。從而能抑制在第一制膜工序中在外側(cè)面W02上形成膜，能抑制在第一制膜工序中未被設(shè)定為被制膜面的外側(cè)面W02上進(jìn)行不需要的制膜。同樣地，在第二配置工序中，由于噴射直線幾2相對于上表面WOl的角度為第一側(cè)方角度且設(shè)定為30度以下，因此在第二制膜工序中即使從噴嘴噴射出來的超微粒材料到達(dá)了上表面W01，由于相對于上表面WOl的入射角度小，因此能設(shè)定成不進(jìn)行制膜的方式。 因此，無論在第一制膜工序中還是在第二制膜工序中，都能抑制在未被設(shè)定為被制膜面的一側(cè)的平面上進(jìn)行不需要的制膜，能實現(xiàn)整體均勻的制膜。另外，本實施方式在第一制膜工序和第二制膜工序中，從噴嘴107噴射出來的氣溶膠，與其噴涂位置沿彎曲面W03改變的方向相比，在氣溶膠的噴涂位置向彎曲面W03改變的方向上更廣地被噴涂。在彎曲面W03上制膜時，從確保膜厚和膜質(zhì)的均質(zhì)性的觀點出發(fā)，與一次性形成較厚的膜相比，優(yōu)選每次制膜的厚度雖薄但反復(fù)進(jìn)行多次制膜動作的方法。為此，通過將從噴嘴107噴射出來的氣溶膠，在氣溶膠的噴涂位置向彎曲面W03改變的方向上更廣地噴涂， 即使沿彎曲面W03改變噴涂位置，也不會局部變厚，能通過薄膜的重涂來制膜。另外，本實施方式在第一制膜工序中，噴嘴107固定，而制膜對象物W沿上表面WOl 移動，從而改變氣溶膠的噴涂位置，在第二制膜工序中，噴嘴107固定，而制膜對象物W沿外側(cè)面W02移動，從而改變氣溶膠的噴涂位置。如上所述，無論在第一制膜工序還是在第二制膜工序中，噴嘴107固定，而制膜對象物W沿上表面WOl或外側(cè)面W02移動，從而改變氣溶膠的噴涂位置，因此無需移動噴嘴 107即可制膜。因此，通過固定噴嘴107能使噴射出來的氣溶膠的狀態(tài)穩(wěn)定，能確保膜厚和膜質(zhì)的均質(zhì)性。以上，參照具體例子對本發(fā)明的實施方式進(jìn)行了說明。但是，本發(fā)明不限于這些具體例子。也就是說，本領(lǐng)域技術(shù)人員對這些具體例子進(jìn)行了適當(dāng)設(shè)計變更后得到的方式，只要具備了本發(fā)明的特征，均屬于本發(fā)明的范圍。例如，上述各具體例子所具備的各要素及其配置、材料、條件、形狀、尺寸等，不限于例示，可進(jìn)行適當(dāng)變更。另外，上述各實施方式所具備的各要素可以在技術(shù)允許的范圍內(nèi)組合，它們的組合只要包含本發(fā)明的特征，也屬于本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.一種制膜方法，其通過在具備第一平面和與該第一平面成90度以上不足180度的角度的第二平面、連接所述第一平面和所述第二平面的彎曲面的對象物上，噴涂從噴嘴噴射出來的超微粒材料的同時，連續(xù)地改變其噴涂位置，從而生成連續(xù)地覆蓋所述第一平面和所述第二平面和所述彎曲面的膜，其特征在于，具備第一配置工序，即以如下方式來配置所述噴嘴沿著所述超微粒材料的噴射方向的噴射直線與所述第一平面所成的角度在30度到60度的范圍內(nèi)，并且，當(dāng)所述噴嘴位于所述噴射直線到達(dá)所述第一平面與所述彎曲面的邊界即第一邊界線的位置時，在所述第一平面上投影所述噴射直線得到的第一假想線與所述第一邊界線所成的角度在0度到60度的范圍內(nèi)；第一制膜工序，即一邊從所述噴嘴噴射所述超微粒材料，一邊在保持所述噴嘴與所述第一平面的距離和角度的同時，在所述第一平面和與所述第一平面相連的所述彎曲面上連續(xù)地噴涂所述超微粒材料，連續(xù)地形成覆蓋所述第一平面的膜和覆蓋所述彎曲面的至少一部分的膜；第二配置工序，即以如下方式來配置所述噴嘴沿著所述超微粒材料的噴射方向的噴射直線與所述第二平面所成的角度在30度到60度的范圍內(nèi)，并且，當(dāng)所述噴嘴位于所述噴射直線到達(dá)所述第二平面與所述彎曲面的邊界即第二邊界線的位置時，在所述第二平面上投影所述噴射直線得到的第二假想線與所述第二邊界線所成的角度在0度到60度的范圍內(nèi)；以及第二制膜工序，即一邊從所述噴嘴噴射所述超微粒材料，一邊在保持所述噴嘴與所述第二平面的距離和角度的同時，在所述第二平面和與所述第二平面相連的所述彎曲面上連續(xù)地噴涂所述超微粒材料，連續(xù)地形成覆蓋所述第二平面的膜和進(jìn)一步覆蓋在所述第一制膜工序中形成于所述彎曲面的膜的膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制膜方法，其特征在于，在所述第一配置工序中，以如下方式來配置所述噴嘴和所述對象物，即所述噴射直線與所述第一平面所成的角度大于所述第一假想線與所述第一邊界線所成的角度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制膜方法，其特征在于，在所述第二配置工序中，以如下方式來配置所述噴嘴和所述對象物，即所述噴射直線與所述第二平面所成的角度大于所述第二假想線與所述第二邊界線所成的角度，且所述第二假想線與所述第二邊界線所成的角度大于所述第一配置工序中所述第一假想線與所述第一邊界線所成的角度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制膜方法，其特征在于，在所述第一配置工序中，以所述噴射直線與所述第二平面所成的角度為60度以下的方式，來配置所述噴嘴和所述對象物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制膜方法，其特征在于，在所述第一制膜工序和所述第二制膜工序中，從所述噴嘴噴射出來的所述超微粒材料，與所述超微粒材料的噴涂位置沿所述彎曲面改變的方向相比，在所述超微粒材料的噴涂位置向所述彎曲面改變的方向上更廣地被噴涂。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制膜方法，其特征在于，在所述第一制膜工序中，所述噴嘴固定，而使所述對象物沿所述第一平面移動，從而改變所述超微粒材料的噴涂位置，=在所述第二制膜工序中，所述噴嘴固定，而使所述對象物沿所述第二平面移動，從而改變所述超微粒材料的噴涂位置。
全文摘要
本發(fā)明提供用簡單的方法即可形成連續(xù)且優(yōu)質(zhì)的膜的制膜方法，其通過一邊在制膜對象物上噴涂從噴嘴噴射出來的氣溶膠，一邊連續(xù)地改變其噴涂位置，從而生成連續(xù)地覆蓋上表面和外側(cè)面和彎曲面的膜。該制膜方法具備第一制膜工序和第二制膜工序，在所述第一制膜工序中，在上表面(W01)和與上表面(W01)相連的彎曲面(W03)上連續(xù)地噴涂氣溶膠，連續(xù)地形成覆蓋上表面(W01)的膜和覆蓋彎曲面(W03)的至少一部分的膜，在所述第二制膜工序中，連續(xù)地形成覆蓋外側(cè)面(W02)的膜和進(jìn)一步覆蓋在第一制膜工序中形成于彎曲面(W03)的膜的膜。
文檔編號B05C19/04GK102400134SQ20111025878
公開日2012年4月4日 申請日期2011年9月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月15日
發(fā)明者伊藤朋和, 新田安隆 申請人:Toto株式會社