專利名稱：鍍膜件及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜件及其制備方法，尤其涉及一種表面呈釉瓷質(zhì)感的鍍膜件及其制備方法。
背景技術(shù)：
釉瓷一般是在硅酸鹽的坯體上表面施釉二次燒結(jié)而成，釉瓷使得陶瓷表面光滑細(xì)膩，潤(rùn)澤如玉。然而陶瓷制品本身具有輕脆易碎的特點(diǎn)，極易破碎損壞?，F(xiàn)有的采用物理氣相沉積技術(shù)(PVD)在金屬表面的制備的各種膜層通常呈現(xiàn)金屬質(zhì)感，較難制備具有釉瓷質(zhì)感的PVD膜層。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種表面呈現(xiàn)釉瓷質(zhì)感的鍍膜件。另外，還有必要提供一種上述鍍膜件的制備方法。一種鍍膜件，其包括基材、形成于基材表面的透明層、形成于透明層表面的第一顏色層、形成于第一顏色層表面的第一樹脂層、形成于第一樹脂層部分表面的第二顏色層，以及形成于第二顏色層和第一樹脂層表面的第二樹脂層；該透明層為氮氧化鋁或氮氧化硅層，該第一顏色層和第二顏色層為鈦、鉻、鋅和鋁中的至少一種金屬的碳化物、氮化物、碳氮化物、氮氧化物或碳氧化物，該第一樹脂層和第二樹脂層均為透明的樹脂層。一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟:
提供基材；
在該基材的表面形成透明層，該透明層為氮氧化鋁或氮氧化硅層；
在該透明層的表面形成第一顏色層，該第一顏色層為鈦、鉻、鋅和鋁中的至少一種金屬的碳化物、氮化物、碳氮化物、氮氧化物或碳氧化物；
在該第一顏色層的表面形成第一樹脂層，該第一樹脂層為透明的樹脂層；
采用曝光顯影技術(shù)或者膠帶遮蔽的方式，在第一樹脂層的表面形成遮蔽區(qū)；
在形成有遮蔽區(qū)的第一樹脂層的表面形成一第二顏色層，形成第二顏色層的方法與形成第一顏色層的方法相同，第二顏色層為鈦、鉻、鋅和鋁中的至少一種金屬的碳化物、氮化物、碳氮化物、氮氧化物或碳氧化物；
去除遮蔽區(qū)上的膠帶或遮蔽油墨；
在第二顏色層的表面和第一樹脂層未被第二顏色覆蓋的表面噴涂一第二樹脂層，該第二樹脂層為透明的樹脂層。本發(fā)明在基材的表面依次形成透明層、第一顏色層、透明的第一樹脂層、第二顏色層及透明的第二樹脂層，通過該五層的綜合作用，不僅使所述鍍膜件的表面光滑、潤(rùn)澤，呈現(xiàn)釉瓷般的質(zhì)感；還可使鍍膜件的表面呈現(xiàn)出美觀的圖案效果。此外，該鍍膜件具有較高的強(qiáng)度，不像陶瓷制品輕脆易碎；且該鍍膜件的膜層附著牢固。


圖1為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的鍍膜件的剖視 圖2為本發(fā)明一較佳實(shí)施例真空鍍膜機(jī)的俯視示意圖。主要元件符號(hào)說明
權(quán)利要求
1.一種鍍膜件，其包括基材，其特征在于:該鍍膜件還包括形成于基材表面的透明層、形成于透明層表面的第一顏色層、形成于第一顏色層表面的第一樹脂層、形成于第一樹脂層部分表面的第二顏色層，以及形成于第二顏色層和第一樹脂層表面的第二樹脂層；該透明層為氮氧化鋁或氮氧化硅層，該第一顏色層和第二顏色層為鈦、鉻、鋅和鋁中的至少一種金屬的碳化物、氮化物、碳氮化物、氮氧化物或碳氧化物，該第一樹脂層和第二樹脂層均為透明的樹脂層。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于:該第一樹脂層和第二樹脂層均為聚乙烯樹脂層。
3.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于:該透明層為經(jīng)拋光處理過的，該透明層的厚度為 600-800nm。
4.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于:該第一顏色層的厚度為500-800nm。
5.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于:該第一樹脂層的厚度為3-5Mm。
6.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于:第二顏色層的厚度為500-800nm。
7.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于:第二樹脂層的厚度為3-5Mm。
8.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于:該基材的材質(zhì)為不銹鋼、鋁合金或鎂合金。
9.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于:該鍍膜件還包括形成于基材與透明層之間的打底層。
10.如權(quán)利要求9所述的鍍膜件，其特征在于:該打底層為硅層或鋁層，打底層的厚度為 50_200nm。
11.一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟: 提供基材； 在該基材的表面形成透明層，該透明層為氮氧化鋁或氮氧化硅層； 在該透明層的表面形成第一顏色層，該第一顏色層為鈦、鉻、鋅和鋁中的至少一種金屬的碳化物、氮化物、碳氮化物、氮氧化物或碳氧化物； 在該第一顏色層的表面形成第一樹脂層，該第一樹脂層為透明的樹脂層； 采用曝光顯影技術(shù)或者膠帶遮蔽的方式，在第一樹脂層的表面形成遮蔽區(qū)； 在形成有遮蔽區(qū)的第一樹脂層的表面形成一第二顏色層，形成第二顏色層的方法與形成第一顏色層的方法相同，第二顏色層為鈦、鉻、鋅和鋁中的至少一種金屬的碳化物、氮化物、碳氮化物、氮氧化物或碳氧化物； 去除遮蔽區(qū)上的膠帶或遮蔽油墨； 在第二顏色層的表面和第一樹脂層未被第二顏色覆蓋的表面噴涂一第二樹脂層，該第二樹脂層為透明的樹脂層。
12.如權(quán)利要求11所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于:形成所述透明層的方法為:采用磁控濺射法，使用鋁靶或硅靶，控制基材的溫度為20-200°C，設(shè)置鋁靶或硅靶的功率為5-8Kw,以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為100-300sccm，以氧氣和氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，氧氣的流量為50-200sccm，氮?dú)獾牧髁繛?0-300sccm，對(duì)基材施加的偏壓為(-100) - (-300) V，鍍膜時(shí)間為15-35min ;然后對(duì)濺射形成的膜層進(jìn)行拋光處理。
13.如權(quán)利要求11所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于:形成所述第一顏色層和第二顏色層的方法為:采用磁控濺射法，使用第二靶材，第二靶材為鋁靶、鋅靶、鈦靶或鉻靶，設(shè)置第二靶材的功率為8-lOKw，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為100-300sCCm，反應(yīng)氣體為乙炔、氮?dú)夂脱鯕庵械囊环N或一種以上,對(duì)基材施加的偏壓為(-100)-(-300)V,鍍膜時(shí)間為 30_45min。
14.如權(quán)利要求11所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于:該方法還包括在形成透明層之前，在基材的表面形成打底層，該打底層設(shè)置于與透明層之間。
15.如權(quán)利要求14所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于:形成所述打底層的方法為:采用磁控濺射法，使用鋁靶或硅靶，控制基材的溫度為20-200°C，設(shè)置鋁靶或硅靶的功率為5-8Kw，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為100-300sCCm，對(duì)基材施加的偏壓為(-100)-(-300) V，鍍膜時(shí)間為 10-30min。
16.如權(quán)利要求11所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于:該第一樹脂層和第二樹脂層均為聚乙烯樹脂層，且均采用噴涂的方法形成。
全文摘要
一種表面具有釉瓷質(zhì)感的鍍膜件，其包括基材，形成于基材表面的透明層、形成于透明層表面的第一顏色層、形成于第一顏色層表面的第一樹脂層、形成于第一樹脂層部分表面的第二顏色層，以及形成于第二顏色層和第一樹脂層表面的第二樹脂層。本發(fā)明所述鍍膜件的表面光滑、潤(rùn)澤，質(zhì)感如同釉瓷并具有鮮艷的色彩，且該鍍膜件具有較高的強(qiáng)度，不像陶瓷制品輕脆易碎。此外，本發(fā)明還提供一種所述鍍膜件的制備方法。
文檔編號(hào)B05D5/06GK103182804SQ20111045059
公開日2013年7月3日 申請(qǐng)日期2011年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月29日
發(fā)明者陳文榮, 陳正士, 李聰 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司