專利名稱：噴霧狹縫式的基板清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種基板清洗裝置，尤其涉及一種將雙流體均勻并全面性的霧化，以提升基板清潔效率的噴霧式的基板清洗裝置。
背景技術(shù)：
薄膜晶體管(液晶顯示器)、等離子顯示面板及電致發(fā)光顯示器等平板顯示器上的基板是需要高精密加工的一種部件，在基板進(jìn)行制程之前或處理后須進(jìn)行該清洗制程， 清洗制程對基板表面進(jìn)行清潔，例如由藥液處理制程、沖洗(rinse)制程以及干燥制程組成，在清洗制程中，為了清除顆粒及污染物而利用清洗液對基板進(jìn)行處理時，為了提高清洗能力，提出了在清洗液中混合清潔的干燥空氣(Clean dry air)而生成雙流體，并將生成的雙流體放大之后以泡沫(bubble)形態(tài)沖擊至基板表面的基板清洗用雙流體噴嘴(以下稱為雙流體噴嘴)。請參考中國臺灣的公開號為200906210的發(fā)明專利的基板清洗用雙流體噴嘴，參閱圖1，為基板清洗用雙流體噴嘴的剖面示意圖，其包含有用于分別收容互不相同的流體的第一收容部100及第二收容部200 ；用于移送收容于該第一收容部100的第一流體的第一通道110，在其端部形成有噴射該第一流體的第一噴射口 111 ；用于移送收容于該第二收容部200的第二流體的第二通道210，在其端部形成有噴射該第二流體的第二噴射口 211 ；雙流體排出部400，以用于排出由該第一噴射口 111及第二噴射口 211噴射的流體相混合而生成的雙流體；以及形成于該第二噴射口 211的前端部的引導(dǎo)部212，以用于將由該第二噴射口 211噴射的該第二流體的噴射方向引導(dǎo)至該第一噴射口 111。然而現(xiàn)有技術(shù)的缺點在于液體及空氣混合時無法一直產(chǎn)生均勻的雙流體，且第一噴射口及第二噴射口之間具有一間距，使部分還未霧化的液體直接掉落至基板上，因此混合后雙流體的大小無法充分地被微?；?，導(dǎo)致清洗效率降低，影響后續(xù)制程的處理，因此需要一種霧化效果佳以提升基板清潔效率的一種噴霧式的基板清洗裝置。

實用新型內(nèi)容本實用新型的主要目的是提供一種噴霧狹縫式的基板清洗裝置，其用以產(chǎn)生霧化形態(tài)的二相流體，并將霧化形態(tài)的二相流體噴灑至欲清洗的基板上，以提升基板的潔凈度， 進(jìn)而幫助于后續(xù)制程處理。為達(dá)上述目的，本實用新型的具體技術(shù)手段包含有一霧化裝置，該霧化裝置之內(nèi)至少具有一第一流體腔室、一第二流體腔室、一分流室及一霧化作用室，該第一流體腔室與該第二流體腔室為分隔設(shè)置且互不連通，該第一流體腔室及第二流體腔室都設(shè)于該霧化作用室之上，該第一流體腔室具有至少一個氣體注入部，該至少一個氣體注入部可接設(shè)一氣體供給管，該第一流體腔室與該霧化作用室之間設(shè)置有一第一流通道，該第二流體腔室具有至少一個液體注入部，該至少一個液體注入部可接設(shè)一液體供給管，該第二流體腔室與該分流室之間設(shè)有一第二流通道，其中該分流室與該霧化作用室之間設(shè)置有多個分流孔，該霧化作用室的底端則連通于一排出通道，該排出通道的底端出口為一噴出口。本實用新型可有效解決現(xiàn)有技術(shù)的缺點，使噴射均勻度更為統(tǒng)一，進(jìn)而提升基板的潔凈度，以提升產(chǎn)品優(yōu)良率。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)的基板清洗用雙流體噴嘴的剖面示意圖。圖2為本實用新型的噴霧狹縫式的基板清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下配合說明書附圖及組件符號對本實用新型的實施方式做更詳細(xì)的說明，以使本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在研讀本說明書后能據(jù)以實施。參閱圖2，為本實用新型的噴霧狹縫式的基板清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。本實用新型包含有一霧化裝置1，該霧化裝置1具有一第一流體腔室11、一第二流體腔室13、一分流室 15及一霧化作用室17，該第一流體腔室11與該第二流體腔室13為分隔設(shè)置且不連通，第一流體腔室11及第二流體腔室13都設(shè)于該霧化作用室17的上方，因此第一流體腔室11 及第二流體腔室13之內(nèi)的流體可下傳至該霧化作用室17之中。該第一流體腔室11具有至少一個氣體注入部111，該氣體注入部111可接設(shè)一氣體供給管(圖未示出)，該第一流體腔室11與該霧化作用室17之間具有一第一流通道113， 其中該第一流體腔室11與該霧化作用室17之間可進(jìn)一步設(shè)置至少一中置室115，該中置室115與該第一流通道113相連通，該中置室115供氣流回旋其中，以增加氣流的壓力及流量。該第二流體腔室13具有至少一個液體注入部131，該液體注入部131可接設(shè)一液體供給管(圖未示出)，該第二流體腔室13與該分流室15之間設(shè)有一第二流通道133，其中該分流室15與該霧化作用室17之間設(shè)置有多個微小的分流孔(圖未示出)，所述分流孔的孔洞大小并不加以限定，只要能滿足讓氣體將通過分流孔(圖未示出)后水流霧化的大小即可，該霧化作用室17的底端則連通于一排出通道19，該排出通道19的底端出口為一噴出口 191。當(dāng)氣體與液體都經(jīng)由氣體注入部111與液體注入部131輸入到第一流體腔室11 及第二流體腔室13中，其中氣體會通過第一流通道113與中置室115到達(dá)至霧化作用室17 之中，液體則先后通過第二流通道133與分流室15，在分流室15的液體透過所述分流孔分流成多個細(xì)化水流，所述細(xì)化水流受氣體沖擊與混合后而形成霧態(tài)，最后霧態(tài)化二相流體會經(jīng)由排出通道19從噴出口 191均勻噴灑至基板上，本實用新型在霧化裝置1之內(nèi)通過先將流體分流并霧態(tài)化，使得從霧化裝置1噴灑出完全霧化的二相流體，因此在基板上產(chǎn)生微小氣泡或沖擊波等情形，且大幅提升噴射均勻度，使得基板的清潔效率大幅提升，有助于后續(xù)制程處理，進(jìn)而提升產(chǎn)品良率。以上所述僅為用以解釋本實用新型的較佳實施例，并非企圖據(jù)以對本實用新型做任何形式上的限制，因此，凡有在相同的創(chuàng)作精神下所作有關(guān)本實用新型的任何修飾或變更，皆仍應(yīng)包括在本實用新型意圖保護(hù)的范疇。
權(quán)利要求1.一種噴霧狹縫式的基板清洗裝置，其特征在于，包含有一霧化裝置，該霧化裝置之內(nèi)至少具有一第一流體腔室、一第二流體腔室、一分流室及一霧化作用室，該第一流體腔室與該第二流體腔室為分隔設(shè)置且互不連通，該第一流體腔室及第二流體腔室都設(shè)于該霧化作用室之上，該第一流體腔室具有至少一個氣體注入部，該至少一個氣體注入部可接設(shè)一氣體供給管，該第一流體腔室與該霧化作用室之間設(shè)置有一第一流通道，該第二流體腔室具有至少一個液體注入部，該至少一個液體注入部可接設(shè)一液體供給管，該第二流體腔室與該分流室之間設(shè)有一第二流通道，其中該分流室與該霧化作用室之間設(shè)置有多個分流孔， 該霧化作用室的底端則連通于一排出通道，該排出通道的底端出口為一噴出口。
2.如權(quán)利要求1所述的噴霧狹縫式的基板清洗裝置，其特征在于，所述霧化裝置進(jìn)一步設(shè)置有一中置室，該中置室位于該第一流體腔室與該霧化作用室之間，且該中置室與該第一流通道相連通。
專利摘要本實用新型提供一種噴霧狹縫式的基板清洗裝置，包含霧化裝置，該霧化裝置之內(nèi)至少具有第一流體腔室、第二流體腔室、分流室及霧化作用室，第一流體腔室與該第二流體腔室為分隔設(shè)置且互不連通，第一流體腔室及第二流體腔室都設(shè)于該霧化作用室之上，該第一流體腔室具有至少一個氣體注入部，該至少一個氣體注入部可接設(shè)一氣體供給管，該第一流體腔室與該霧化作用室之間設(shè)置有第一流通道，該第二流體腔室具有至少一個液體注入部，該至少一個液體注入部可接設(shè)一液體供給管，該第二流體腔室與該分流室之間設(shè)有第二流通道，其中該分流室與該霧化作用室之間設(shè)置有多個分流孔，該霧化作用室的底端則連通于一排出通道，該排出通道的底端出口為一噴出口。
文檔編號B05B7/04GK202052719SQ20112006525
公開日2011年11月30日 申請日期2011年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月14日
發(fā)明者李玟澄, 龔棉英 申請人:亞智科技股份有限公司