專利名稱：膏劑涂覆頭、膏劑涂覆裝置以及膏劑涂覆方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及向基板上定量地涂覆膏劑的裝置以及方法，尤其是涉及用于將在液晶顯示面板等的制造過程中使用的作為密封材的膏劑向玻璃基板精度良好地涂覆的膏劑涂覆頭、膏劑涂覆裝置以及膏劑涂覆方法。
背景技術(shù)：
在液晶顯示面板的制造中，為了謀求降低制造成本，使用尺寸大的玻璃基板，將該玻璃基板的基板面劃分為多個區(qū)域，在各個區(qū)域描繪形狀相同的膏劑圖案，分割為各自的區(qū)域，能夠在每個分割的區(qū)域形成液晶顯示面板。這樣，所使用的玻璃基板的尺寸大，倒角 數(shù)也多，從ー張玻璃基板得到多個液晶顯示面板。而且，作為對此的策略，由于作為被涂覆的膏劑的密封材的壽命也得到改善，所以，提出了將用于收納向玻璃基板上排出的密封材的膏劑收納筒換成容量大的膏劑收納筒的方案。據(jù)此，能夠使膏劑收納筒的密封材的充填量增多。但是，為將收納在膏劑收納筒的密封材為向玻璃基板上描繪規(guī)定圖案而從噴嘴向該玻璃基板上排出，而向膏劑收納筒內(nèi)施加氣壓(空氣壓)，但是，若使膏劑收納筒的容量増大，則隨著將密封材從膏劑收納筒排出，膏劑收納筒的空容量(存在空氣的空間)變大，即使欲使氣壓變化，調(diào)整向膏劑收納筒內(nèi)的密封材施加的壓容，也因?yàn)閴亥?jīng)該空容量內(nèi)的空氣向密封材的表面?zhèn)鬟f，而在調(diào)整向密封材的加壓カ方面產(chǎn)生時間滯后。因此，為了精度良好地描繪細(xì)微的膏劑圖案，需要頻繁地進(jìn)行描繪條件，尤其是向膏劑收納筒內(nèi)的密封材的加減壓的調(diào)整，控制難以對應(yīng)。另外，在伴隨著使膏劑涂覆量微小化，在與液晶顯示面板的玻璃板的外周部相當(dāng)?shù)牟ＡЩ宓奈恢靡钥驙畹膱D案涂覆密封材的情況下，有使密封材的涂覆量減少的傾向，要求高精度地穩(wěn)定的密封材的涂覆。因此，難以使玻璃基板的大型化對應(yīng)和向密封材的精細(xì)的加減壓調(diào)整相互共存。對此，作為能夠?qū)γ芊獠牡呐懦隽窟M(jìn)行微調(diào)整的裝置，提出了螺旋槳式的膏劑涂覆裝置(例如，參見專利文獻(xiàn)I)。該專利文獻(xiàn)I記載的膏劑涂覆裝置做成在將噴嘴形成在承載部的缸的內(nèi)部的筒狀的空間內(nèi)設(shè)置棒狀的設(shè)有兩個以上螺旋狀的凸?fàn)畈康穆菪龢慕Y(jié)構(gòu)，通過伺服馬達(dá)使該螺旋槳旋轉(zhuǎn)，且將儲存在儲存容器內(nèi)的密封材經(jīng)管向該缸的內(nèi)部空間內(nèi)供給，據(jù)此，該被供給的密封材由旋轉(zhuǎn)的螺旋槳的凸?fàn)畈繌膰娮焱瞥觥＿@里，在該技術(shù)中，能夠與螺旋槳的旋轉(zhuǎn)角度相應(yīng)地控制排出量，據(jù)此，能夠減少密封材的排出量的不均勻。在先技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開2007-136397號公報但是，在螺旋槳式的膏劑涂覆裝置中，増加了螺旋槳本身、成為其驅(qū)動源的馬達(dá)、馬達(dá)的控制回路、控制軟件等隨附的構(gòu)成部。再有，在充填到膏劑收納筒內(nèi)后，與密封材接觸的構(gòu)成零件需要定期清洗，分解、組裝螺旋槳部分時的螺旋槳的外周和缸的內(nèi)部容器的內(nèi)壁面的縫隙管理等處理煩雜，需要大量的時間。另外，在從外部混入了異物的情況下，由于構(gòu)成零件復(fù)雜，所以，擔(dān)心是否在分解了時能夠?qū)愇锴袑?shí)地除去，存在不能使清洗時的維護(hù)性好的問題。另外，因?yàn)槭孤菪龢D(zhuǎn)，所以，還容易產(chǎn)生在驅(qū)動部的部位因磨損造成的異物產(chǎn)生。由于上述情況，從因需要清洗時間造成的制程、還有異物混入的風(fēng)險方面看存在問題。本發(fā)明的目的是解決該問題，提供一種實(shí)現(xiàn)密封材向大型玻璃基板高精細(xì)地涂覆的膏劑涂覆頭、膏劑涂覆裝置以及膏劑涂覆方法。

發(fā)明內(nèi)容
為了達(dá)到上述目的，基于本發(fā)明的膏劑涂覆頭的特征在于，收納涂覆材的涂覆材收納筒由預(yù)先收納所充填的涂覆材的母膏劑收納筒和臨時保存涂覆材的子膏劑收納筒構(gòu)成，在母膏劑收納筒和子膏劑收納筒上具備施加氣壓的氣壓施加構(gòu)件，從將涂覆材從母膏劑收納筒取出的取出口開始的涂覆材的流路與分隔閥相連，從分隔閥開始的涂覆材的流路與子骨劑收納筒相連，從子骨劑收納筒開始的涂覆材的流路與將涂覆材向基板排出的噴嘴相連，再有，在子膏劑收納筒的上部具備檢測涂覆材的保存量的涂覆材保存量檢測構(gòu)件。另外，基于本發(fā)明的膏劑涂覆頭的特征在于，母膏劑收納筒的氣壓施加構(gòu)件在從母膏劑收納筒向子膏劑收納筒補(bǔ)給上述涂覆材時，使分隔閥打開，井向母膏劑收納筒內(nèi)施加氣壓，子骨劑收納筒的氣壓施加構(gòu)件在從噴嘴排出涂覆材時，使分隔閥關(guān)閉，并向子骨劑收納筒內(nèi)施加氣壓。再有，基于本發(fā)明的膏劑涂覆頭的特征在于，子膏劑收納筒的涂覆材保存量檢測構(gòu)件是接收涂覆材的液面上的光學(xué)的反射光，檢測涂覆材的保存量的傳感器。另外，還有，基于本發(fā)明的膏劑涂覆頭的特征在于，子膏劑收納筒的容積與母膏劑收納筒的容積相比足夠小。為了達(dá)到上述目的，基于本發(fā)明的膏劑涂覆裝置是在ー或多臺架臺上設(shè)置機(jī)械手，該機(jī)械手可移動地設(shè)有具備充填了涂覆材的涂覆材收納筒和將來自涂覆材收納筒的涂覆材料排出的噴嘴排出ロ的一或多個涂覆頭，機(jī)械手相對于被搭載在架臺上所設(shè)置的基板載置工作臺上的基板移動，涂覆頭相對于機(jī)械手移動，據(jù)此，涂覆頭相對于基板移動，使涂覆材從噴嘴排出ロ向基板上排出，其特征在干，收納涂覆頭的涂覆材的涂覆材收納筒由預(yù)先收納所充填的涂覆材的母膏劑收納筒和臨時保存涂覆材的子膏劑收納筒構(gòu)成，母膏劑收納筒和子膏劑收納筒具備施加氣壓的構(gòu)件，從將涂覆材從母膏劑收納筒取出的取出口開始的涂覆材的流路與分隔閥相連，從分隔閥開始的涂覆材的流路與子膏劑收納筒相連，從子膏劑收納筒開始的涂覆材的流路與將涂覆材向基板排出的噴嘴相連，再有，在子膏劑收納筒的上部具備檢測涂覆材的保存量的涂覆材保存量檢測構(gòu)件。另外，基于本發(fā)明的膏劑涂覆裝置的特征在于，母膏劑收納筒的氣壓施加構(gòu)件在從母膏劑收納筒向子膏劑收納筒補(bǔ)給涂覆材時，使分隔閥打開，井向母膏劑收納筒內(nèi)施加氣壓，子骨劑收納筒的氣壓施加構(gòu)件在從噴嘴排出涂覆材時，使分隔閥關(guān)閉，并向子骨劑收納筒內(nèi)施加氣壓。再有，基于本發(fā)明的膏劑涂覆裝置的特征在于，子膏劑收納筒的涂覆材保存量檢測構(gòu)件是接收涂覆材的液面上的光學(xué)的反射光，檢測涂覆材的保存量的傳感器。另外，還有，基于本發(fā)明的膏劑涂覆裝置的特征在于，子膏劑收納筒的容積與母膏劑收納筒的容積相比足夠小。為了達(dá)到上述目的，基于本發(fā)明的膏劑涂覆方法是在ー或多臺架臺上設(shè)置機(jī)械手，該機(jī)械手可移動地設(shè)有具備充填了涂覆材的涂覆材收納筒和將來自涂覆材收納筒的涂覆材料排出的噴嘴排出ロ的一或多個涂覆頭，機(jī)械手相對于被搭載在架臺上所設(shè)置的基板載置工作臺上的基板移動，涂覆頭相對于機(jī)械手移動，據(jù)此，涂覆頭相對于基板移動，使涂覆材從噴嘴排出ロ向基板上排出，其特征在干，收納涂覆頭的涂覆材的涂覆材收納筒由預(yù)先收納所充填的涂覆材的母膏劑收納筒和臨時保存涂覆材的子膏劑收納筒構(gòu)成，母膏劑收納筒和子膏劑收納筒能夠施加氣壓，從將涂覆材從母膏劑收納筒取出的取出口開始的涂覆
材的流路與分隔閥相連，從分隔閥開始的涂覆材的流路與子膏劑收納筒相連，從子膏劑收納筒開始的涂覆材的流路與將涂覆材向基板排出的噴嘴相連，再有，在子膏劑收納筒的上部檢測涂覆材的保存量，一面與子膏劑收納筒內(nèi)的涂覆材的減少相應(yīng)地從母膏劑收納筒定期地補(bǔ)充涂覆材，一面向基板上涂覆涂覆材。另外，基于本發(fā)明的膏劑涂覆方法的特征在于，在從母膏劑收納筒向子膏劑收納筒補(bǔ)給涂覆材時，使分隔閥打開，井向母膏劑收納筒內(nèi)施加氣壓，在從噴嘴排出涂覆材吋，使分隔閥關(guān)閉，并向子膏劑收納筒內(nèi)施加氣壓。再有，基于本發(fā)明的膏劑涂覆方法的特征在于，子膏劑收納筒內(nèi)的涂覆材保存量通過接收子膏劑收納筒內(nèi)的涂覆材的液面上的光學(xué)的反射光來檢測。另外，還有，基于本發(fā)明的膏劑涂覆方法的特征在于，子膏劑收納筒的容積與母膏劑收納筒的容積相比足夠小。發(fā)明效果由于是使用膏劑的收納容量大的母膏劑收納筒和收納容量小的子膏劑收納筒，將子膏劑收納筒的膏劑從噴嘴排出，從母膏劑收納筒向子膏劑收納筒進(jìn)行膏劑的補(bǔ)給，所以，能夠精度良好地進(jìn)行在子膏劑收納筒的向膏劑的加減壓調(diào)整，能夠減少膏劑的涂覆量，能夠高精度地形成細(xì)微的涂覆膏劑圖案，能夠簡單地進(jìn)行膏劑向子膏劑收納筒的補(bǔ)給。


圖I是表示基于本發(fā)明的膏劑涂覆裝置的ー實(shí)施方式的立體圖。圖2是表示圖I中的涂覆頭的ー實(shí)施方式的示意結(jié)構(gòu)的立體圖。圖3是表示圖2所示的涂覆頭的膏劑收納/排出部20的一具體例的外觀立體圖。圖4是更詳細(xì)地表示圖3中的各部的圖。圖5是表示圖3、圖4中的流路塊內(nèi)的結(jié)構(gòu)的一具體例的透視圖。圖6是表示在圖I所示的實(shí)施方式中，向玻璃基板上涂覆的膏劑圖案的一具體例的圖。圖7是表示圖I所示的實(shí)施方式的圖5所示的膏劑圖案的涂覆描繪動作的一具體例的流程圖。圖8是表示基于本發(fā)明的涂覆頭的其它實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施例方式下面，使用附圖，說明本發(fā)明的實(shí)施方式。圖I是表示基于本發(fā)明的膏劑涂覆裝置的ー實(shí)施方式的立體圖，I是架臺，2A、2B是框架，3A、3B是固定部，4A 4D是可動部，5A 是涂覆頭，6是基板保持盤，7是Θ軸旋轉(zhuǎn)工作臺，8是玻璃基板，9是主控制部，10是副控制部，11是監(jiān)視器，12是鍵盤。在該圖中，在架臺I上，沿該架臺I的X軸方向的兩個邊部分別設(shè)置固定部3A、3B，在一方的固定部3A設(shè)置兩個可動部4A、4C，在另一方的固定部3B設(shè)置兩個可動部4B、4D。而且,從相向地配置的可動部4A、4B的一方直至另一方，沿Y軸方向設(shè)置框架2A，從相向地配置的可動部4C、4D的一方直至另一方，沿Y軸方向設(shè)置框架2B。這些固定部3A、3B、可動部4A 4D、框架2A、2B構(gòu)成涂覆頭5A 的X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)。在框架2A上沿該框架2A的長度方向(即、Y方向)可移動地設(shè)置兩個涂覆頭5A、 5B，另外，在框架2B上沿該框架2B的長度方向(即、Y方向)可移動地設(shè)置兩個涂覆頭5C、5D。該用于移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)被設(shè)置在框架2A、2B和涂覆頭5A 下面，也有將該驅(qū)動機(jī)構(gòu)稱為Y軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)的情況。在架臺I上的X軸驅(qū)動機(jī)構(gòu)的固定部3A、3B之間設(shè)置基板保持盤6，且為了使該基板保持盤6能夠在Θ軸方向旋轉(zhuǎn)，而設(shè)置Θ軸旋轉(zhuǎn)工作臺7，在該Θ軸旋轉(zhuǎn)工作臺7上設(shè)置基板保持盤6。在該基板保持盤6上吸附保持著玻璃基板8。另外，在架臺I上設(shè)置監(jiān)視器11、鍵盤12，內(nèi)置主控制部9、副控制部10等。圖2是表示圖I中的涂覆頭5A 的ー實(shí)施方式的示意結(jié)構(gòu)的立體圖，13是基臺，14是檢測部，15是Z軸伺服馬達(dá)，16是Z軸導(dǎo)向器，17是Z軸工作臺，18是圖像識別照相機(jī)，19是光學(xué)式距離計，20是膏劑收納/排出部，21是噴嘴支撐件，22是噴嘴。另外，因?yàn)橥扛差^5A 的結(jié)構(gòu)、動作相同，所以，將它們統(tǒng)稱為涂覆頭5。該圖中，涂覆頭5的基臺13是沿Y軸方向可移動地被安裝在框架2A、2B上的部件，由被設(shè)置在該架臺13上的檢測部14，檢測涂覆頭5的在框架2A、2B上的位置，即、基板保持盤6(圖I)上的Y軸方向的位置。在該基臺13上設(shè)有Z軸伺服馬達(dá)15，安裝著Z軸導(dǎo)向器16，在該Z軸導(dǎo)向器16上相對于Z軸導(dǎo)向器16可在Z軸方向(上下方向)移動地安裝Z軸工作臺17。再有，在該Z軸工作臺17設(shè)置光學(xué)式距離計19和圖像識別照相機(jī)18，在該光學(xué)式距離計19設(shè)置膏劑收納/排出部20。Z軸伺服馬達(dá)15根據(jù)以設(shè)置在Z軸工作臺17上的光學(xué)式距離計19的檢測結(jié)果為基礎(chǔ)的副控制部10 (圖I)的控制，沿Z軸導(dǎo)向器16在Z軸方向驅(qū)動膏劑收納/排出部20、光學(xué)式距離計19、圖像識別照相機(jī)18。在膏劑收納/排出部20的下端，設(shè)置噴嘴支撐件21，在其前端部，安裝著膏劑排出ロ向玻璃基板8(圖I)開ロ的噴嘴22。膏劑收納/排出部20和噴嘴22經(jīng)噴嘴支撐件21連通，噴嘴22的膏劑排出ロ的位置雖然在玻璃基板8的上面從光學(xué)式距離計19的距離計量光的反射點(diǎn)錯開，但非常接近。因?yàn)槠溴e開量被設(shè)定成不受玻璃基板8的表面的凹凸的影響的程度，所以，通過根據(jù)光學(xué)式距離計19的計量結(jié)果來控制Z軸伺服馬達(dá)15，使噴嘴22的前端部與玻璃基板8的表面的起伏(凹凸)相吻合地上下運(yùn)動，據(jù)此，能夠總是將到玻璃基板8的表面(上面)的垂直距離(間隔)維持為一定。
圖3是表示圖2所示的涂覆頭5的膏劑收納/排出部20的一具體例的外觀立體圖，23是母膏劑收納筒(母注射筒)，24是子膏劑收納筒(子注射筒)，25是分隔閥用缸，26是流路塊，對與圖2對應(yīng)的部分標(biāo)注相同的符號，省略重復(fù)的說明。該圖中，膏劑收納/排出部20具有膏劑的儲藏和排出這兩個功能，由用于執(zhí)行膏劑的儲藏功能的母膏劑收納筒23和用于執(zhí)行膏劑排出功能的子膏劑收納筒24構(gòu)成這點(diǎn)是大的特征。母膏劑收納筒23是具有收容被補(bǔ)充的涂覆材(這里，是作為密封材的膏劑)的功能的膏劑收納筒，子膏劑收納筒24是具有以大致一定的涂覆壓將膏劑從噴嘴22排出，進(jìn)行描繪的功能的膏劑收納筒。在該實(shí)施方式中，作為母膏劑收納筒23，使用以往的容量為120cc的標(biāo)準(zhǔn)注射筒，膏劑的充填是通過一面使用專用的夾具，一面從母膏劑收納 筒23的上部將膏劑投入來進(jìn)行的。作為該母膏劑收納筒23，也可以使用市場銷售的充填后的膏劑收納筒，此時，只要通過變更為螺紋式魯爾圓錐接頭規(guī)格來對應(yīng)即可。另外，由于不進(jìn)行膏劑涂覆用的加壓，所以，也可以使用塑料制的注射筒。子膏劑收納筒24收納為描繪而從噴嘴22排出的膏劑，向該子膏劑收納筒充填被儲藏在母膏劑收納筒23的膏劑。子膏劑收納筒24的容積約為O. 5cc，是母膏劑收納筒23的容積(120cc)的約1/250倍的比例，但是，通常也可以使用I/幾十倍到I/幾百倍左右的比例的容積的膏劑收納筒。在流量塊26設(shè)置從子膏劑收納筒24到噴嘴支撐件21的膏劑排出流路和用于從母膏劑收納筒23向子膏劑收納筒充填膏劑的膏劑充填流路。分隔閥用缸25是用于使對從母膏劑收納筒23到子膏劑收納筒24的該膏劑充填流路進(jìn)行開閉的分隔閥動作的部件。圖4是更詳細(xì)地表示圖3中的各部的圖，27是母膏劑收納筒23側(cè)的膏劑充填流路，28是膏劑排出流路，29是閥室，30是分隔閥，31是涂覆壓附加用管道，32是光纖傳感器，33是空氣配管管道，對與圖3對應(yīng)的部分標(biāo)注相同的符號，省略重復(fù)的說明。該圖中，在母膏劑收納筒23上，在其下端部連接膏劑充填流路27的一方的端部，該膏劑充填流路27的另一方的端部與收納分隔閥30的閥室29連接。將它稱為母膏劑收納筒23側(cè)的膏劑充填流路27。另外，雖未圖示出，但連接著從該閥室29與膏劑排出流路28連結(jié)的膏劑充填流路，即、子膏劑收納筒24側(cè)的膏劑充填流路。通常，分隔閥30通過因分隔閥用缸25動作而按壓桿(未圖示出)，來將母膏劑收納筒23側(cè)的膏劑充填流路27關(guān)閉，據(jù)此，膏劑充填流路整體被分隔閥30維持為關(guān)閉狀態(tài)，但是，在將儲藏在母膏劑收納筒23的膏劑向子膏劑收納筒24充填時，分隔閥用缸25動作，桿拉拽分隔閥30。此時，雖然向母膏劑收納筒23側(cè)的膏劑充填流路27內(nèi)充填來自母膏劑收納筒23的膏劑，但是，若分隔閥30被桿拉拽，則母膏劑收納筒23側(cè)的膏劑充填流路27被開放。據(jù)此，膏劑充填流路整體成為打開狀態(tài)。另外，此時，從作為向母膏劑收納筒23內(nèi)施加氣壓的構(gòu)件的空氣配管管道33施加氣壓，據(jù)此，膏劑從母膏劑收納筒23經(jīng)膏劑充填流路27向子膏劑收納筒24被壓送，向該子膏劑收納筒24充填。這里，雖然在經(jīng)膏劑充填流路27壓送膏劑時產(chǎn)生的膏劑的壓カ還經(jīng)來自子膏劑收納筒24的膏劑排出流路28向噴嘴22側(cè)施加，但是，因?yàn)樽痈鄤┦占{筒24的內(nèi)徑比噴嘴22的孔徑大很多，所以，膏劑的基本全部向子膏劑收納筒24側(cè)被壓送。另外，雖然因膏劑的物理性質(zhì)而存在膏劑從噴嘴22泄漏的可能性，但是，在這種情況下，通過進(jìn)行噴嘴22的清掃動作中的臨時描繪(在與正式的描繪位置不同的位置排出膏劑的處理)，將無效地附著在噴嘴22上的膏劑除去。在子膏劑收納筒24，通過由設(shè)置在其上部側(cè)的光纖傳感器32檢測子膏劑收納筒
24內(nèi)的膏劑的液面位置，總是監(jiān)視子膏劑收納筒24內(nèi)的膏劑的收納量，若從母膏劑收納筒23通過膏劑充填流路27向子膏劑收納筒24充填的膏劑的充填量達(dá)到預(yù)先決定的第一極限值，則看做其充填完成，分隔閥用缸25動作，將桿推入，分隔閥30將膏劑充填流路27關(guān)閉。另外，與此同吋，從空氣配管管道33向母膏劑收納筒23的氣壓的施加結(jié)束。另外，作為此時的第一極限值，例如為上述的O. 5cc左右，但是，并不限定于此。另外，這里，雖然是僅在從母膏劑收納筒23向子膏劑收納筒24充填膏劑吋，從空氣配管管道33向母膏劑收納筒23內(nèi)施加氣壓，但是，若通過桿的推壓，分隔閥30能夠?qū)⒏鄤┏涮盍髀?7關(guān)閉，則也可以總是從空氣配管管道33向母膏劑收納筒23內(nèi)施加氣壓。
另ー方面，在子膏劑收納筒24中，被收納的膏劑因描繪動作而減少，例如，在收納量減少到?jīng)]有描繪完被設(shè)定的玻璃基板8上的膏劑圖案的量的第二極限值的情況下，光纖傳感器32檢測這種情況，進(jìn)行OFF(關(guān)閉)。另外，若子膏劑收納筒24中的因來自母膏劑收納筒23的膏劑的充填使得收納量達(dá)到上述第一極限值以上，則光纖傳感器32檢測這種情況，進(jìn)行ON(打開)。在自動運(yùn)轉(zhuǎn)中，在因膏劑圖案的描繪，子膏劑收納筒24內(nèi)的膏劑的收納量達(dá)到上述第二極限值以下時，若結(jié)束此時的玻璃基板的描繪動作，則光纖傳感器32進(jìn)行OFF。而且，若進(jìn)行玻璃基板8的運(yùn)入運(yùn)出動作，則在該動作的時間帶(不進(jìn)行描繪動作的時間帶)自動開始從母膏劑收納筒23向子膏劑收納筒24的上述的膏劑充填動作。而且，若子膏劑收納筒24中的膏劑的收納量達(dá)到上述第一極限值以上，則光纖傳感器32進(jìn)行0N，且結(jié)束向子膏劑收納筒24的充填動作。據(jù)此，向被新裝配的下ー個玻璃基板8進(jìn)行膏劑圖案的描繪動作。在進(jìn)行膏劑圖案的描繪動作時，分隔閥30處于關(guān)閉的狀態(tài)，即使從作為向子膏劑收納筒24施加氣壓的施加構(gòu)件的涂覆壓附加用管道31施加涂覆壓(氣壓)，也能夠防止膏劑向母膏劑收納筒24側(cè)倒流。在該防止倒流狀態(tài)下，從電-氣調(diào)壓閥(未圖示出)經(jīng)涂覆壓附加用管道31向子膏劑收納筒24內(nèi)施加微小的氣壓，從噴嘴22排出被加壓了的膏劑，向玻璃基板8(圖I)涂覆。 因此，在子膏劑收納筒24內(nèi)，在成為光纖傳感器32的ON-OFF的極限值的位置，膏劑的量在大致一定狀態(tài)下穩(wěn)定，能夠減少子膏劑收納筒24的空容量的變動。通過利用光纖傳感器31的打開、關(guān)閉，頻繁地反復(fù)進(jìn)行子膏劑收納筒24的充填動作和涂覆動作，使子膏劑收納筒24內(nèi)不會變空，另外，還能夠抑制涂覆壓的變動。另ー方面，在像以往那樣，僅通過母膏劑收納筒23等那樣的容積大的膏劑收納筒進(jìn)行管理的情況下，空容積隨著膏劑的消耗而增多，由于空氣是壓縮性流體，所以，即使對壓カ進(jìn)行加減調(diào)整，也是首先該壓カ的變化向空氣傳遞，此后向膏劑傳遞，因此，在對膏劑的壓カ調(diào)整方面產(chǎn)生時間滯后，這部分的量使得來自噴嘴的膏劑的排出動作產(chǎn)生變動，描繪處理變得不穩(wěn)定。這點(diǎn)在本發(fā)明中，由于是相對于母膏劑收納筒23還具備小容積的子膏劑收納筒24的發(fā)明，是從該子膏劑收納筒排出用于描繪的膏劑的發(fā)明，所以，即使是該子膏劑收納筒，也能夠與母膏劑收納筒23同樣，施加氣壓，但是，由于原本其容積小，還能夠通過由光纖傳感器31的監(jiān)視減小空容積的變動，因此，對作為調(diào)整施加的壓カ的構(gòu)件的未圖示出的電-氣調(diào)壓閥的控制的追從性提高，使排出量穩(wěn)定化。即、通過在這樣的短時間的周期向子膏劑收納筒24補(bǔ)給密封材27，能夠?qū)⒆痈鄤┦占{筒24內(nèi)的膏劑的容量保持為大致一定的狀態(tài)，進(jìn)行穩(wěn)定的描繪處理。在該實(shí)施方式中，子膏劑收納筒24的容積約為O. 5cc，是母膏劑收納筒23的容積的約1/250倍的比例，但是，通常也可以使用I/幾十倍到I/幾百倍的比例的容積的膏劑收納筒。另外，以往，由于涂覆了膏劑后的線寬穩(wěn)定性的問題，還存在在始端和終端還有角部，屢屢產(chǎn)生有必要微妙地管理涂覆壓的情況，但是，根據(jù)該實(shí)施方式，因?yàn)槟軌蜻M(jìn)行對膏劑無時間滯后的涂覆壓的管理，所以，還使得圖案的末端、角部的描繪也穩(wěn)定化。這里，在母膏劑收納筒23中，僅在向子膏劑收納筒24壓送膏劑時從空氣配管管道33施加氣壓，在子膏劑收納筒24中，僅在將膏劑向玻璃基板8描繪時，從涂覆壓附加用管道31施加氣壓。除施加氣壓時以外，母膏劑收納筒23、子膏劑收納筒24均為向大氣壓開放的 狀態(tài)。從維護(hù)性方面對該實(shí)施方式和以往的使用螺旋槳式的膏劑收納筒的機(jī)械式注射筒方式進(jìn)行比較，如前面說明的那樣，在機(jī)械式注射筒方式中，由結(jié)構(gòu)復(fù)雜的構(gòu)件構(gòu)成，間隙調(diào)整困難，清洗時的維護(hù)性不好。另ー方面，在基于該實(shí)施方式的使用了子膏劑收納筒的方式中的清洗中，被限定在母膏劑收納筒23、子膏劑收納筒24、包括分隔閥30、膏劑充填流路27的流路塊26、噴嘴22、隨附于流路塊26的塞子、墊片類。作為分隔閥30的驅(qū)動源的分隔閥用缸25因?yàn)椴慌c膏劑接觸，所以，能夠原樣固定在裝置主體側(cè)，不成為清洗對象。因此，與上述以往的螺旋槳式的涂覆頭上的旋轉(zhuǎn)翼、其周邊零件的清洗相比，清洗對象的數(shù)量少，也沒有復(fù)雜的形狀，另外，還能夠大幅縮短分解、再組裝需要的時間。另外，還能夠縮短組裝后的精度調(diào)整時間，進(jìn)一步提聞維護(hù)性。圖5是表示圖3、圖4中的流路塊26內(nèi)的結(jié)構(gòu)的一具體例的透視圖，23a、24a是膏劑收納筒安裝部，27a是膏劑充填流路，29a是前壁面，34是吸入ロ，35是排出口，對于與前述附圖對應(yīng)的部分標(biāo)注相同的符號，省略重復(fù)的說明。該圖中，在閥室29的前壁面29a設(shè)置吸入ロ 34和排出ロ 35，閥30 (圖4)與該前壁面29a抵接或從它離開，以便開閉這些吸入ロ 34、排出ロ 35。母膏劑收納筒23側(cè)的膏劑充填流路27是將被安裝在安裝部23a的母膏劑收納筒23向該閥室29的吸入ロ 34連結(jié)的部件，另外，閥室29的排出ロ 35由子膏劑收納筒24側(cè)的膏劑充填流路27a連結(jié)在從被安裝在安裝部24a的子膏劑收納筒24開始的膏劑排出流路28。在向玻璃基板8(圖I)涂覆膏劑時，在閥室29內(nèi)，通過分隔閥用缸25 (圖4)的作用，由分隔閥30將吸入口 34和排出ロ 35堵塞，膏劑充填路徑27處于隔斷狀態(tài)。據(jù)此，子膏劑收納筒23內(nèi)的膏劑經(jīng)膏劑排出流路28被送入噴嘴22。另外，在向子膏劑收納筒23充填膏劑時，在閥室29內(nèi)，通過分隔閥用缸25的作用，分隔閥30從閥室29的前壁面29a離開，吸入ロ 34和排出ロ 35成為開放狀態(tài)，母膏劑收納筒23和子膏劑收納筒24成為經(jīng)膏劑充填流路27、27a連通了的狀態(tài)。據(jù)此，如上所述，從母膏劑收納筒23向子膏劑收納筒24充填膏劑。
圖6是表示在該實(shí)施方式中，向玻璃基板8上涂覆的膏劑圖案的一具體例的圖，PTa PTd是膏劑圖案，Sa Sd是膏劑圖案PTa PTd的涂覆開始位置。該圖中,在該具體例中，由圖I所示的四個涂覆頭5A 向基板8上涂覆四個膏劑圖案PTa PTd。這些膏劑圖案PTa PTd是相同形狀，設(shè)定從涂覆開始位置Sa Sd到結(jié)束位置的ニ維路徑數(shù)據(jù)。這里，膏劑圖案PTa的涂覆開始位置Sa以玻璃基板8的中心O為原點(diǎn)被位置設(shè)定為坐標(biāo)(X1、Y1)，膏劑圖案PTb的涂覆開始位置Sb同樣被位置設(shè)定為坐標(biāo)(Χ2、Υ2)，膏劑圖案PTc的涂覆開始位置Sc同樣被位置設(shè)定為坐標(biāo)(Χ3、Υ3)，膏劑圖案PTd的涂覆開始位置Sd同樣被位置設(shè)定為坐標(biāo)(Χ4、Υ4)。圖7是表示上述的實(shí)施方式的圖6所示的膏劑圖案的涂覆描繪動作的一具體例的流程圖。在該圖中，首先是接通電源(步驟100)，進(jìn)行裝置的初期設(shè)定的步驟(200)。在該初期設(shè)定中，在圖I中，通過驅(qū)動伺服馬達(dá)，使Θ軸旋轉(zhuǎn)工作臺7旋轉(zhuǎn)，使基板保持盤6在Θ軸方向移動，定位在規(guī)定的基準(zhǔn)角度，通過驅(qū)動可動部4Α、4Β和涂覆頭5Α 的線性馬達(dá)，使這些涂覆頭5A 移動，將這些噴嘴前端的膏劑排出ロ設(shè)定在預(yù)先決定的規(guī)定的原點(diǎn)位置，且進(jìn)行從膏劑圖案PTa PTd的涂覆開始位置到結(jié)束位置的ニ維路徑數(shù)據(jù)、定位用標(biāo)記數(shù)據(jù)、膏劑涂覆高度(針對各涂覆頭5A 的從玻璃基板8的表面到噴嘴22的前端的膏劑排出ロ的距離)等的設(shè)定。這些數(shù)據(jù)的輸入由鍵盤12(圖I)進(jìn)行，各輸入數(shù)據(jù)收藏在作為主控制部9 (圖I)的構(gòu)成要素的微電腦、作為副控制部10 (圖I)的構(gòu)成要素的微電腦所內(nèi)置的RAM，且存儲保管在作為這些控制部9、10的外部存儲裝置被包括的硬盤等存儲媒介。若上述的初期設(shè)定(步驟200)的處理結(jié)束，則下面將玻璃基板8載置、保持在基板保持盤6上(步驟300)。接著，進(jìn)行玻璃基板8的定位(步驟400)。在該處理中，將涂覆頭5A 的圖像識別照相機(jī)18(圖3)中的在步驟200中初期設(shè)定的任意的圖像識別照相機(jī)18定位在能夠?qū)d置在基板保持盤6上的玻璃基板8的定位用標(biāo)記進(jìn)行攝影的位置，對該定位用標(biāo)記攝影。通過根據(jù)攝影了的定位用標(biāo)記的重心位置的檢測結(jié)果，由伺服馬達(dá)驅(qū)動Θ軸旋轉(zhuǎn)工作臺7，對玻璃基板8的Θ軸方向的傾斜進(jìn)行校正。若步驟400的玻璃基板8的定位結(jié)束，則接著進(jìn)行膏劑的涂覆動作(步驟500)。說明涂覆動作的細(xì)節(jié)。首先，確認(rèn)玻璃基板8上是否存在未涂覆圖案，S卩、確認(rèn)是否存在雖然必須涂覆，但仍未涂覆描繪的圖案。由于在涂覆開始的時刻應(yīng)涂覆的全部的圖案為未涂覆，所以，使涂覆頭5A 向下一個涂覆開始點(diǎn)移動。確認(rèn)作為描繪對象的圖案(這里是四個圖案)為相同形狀的情況，若為相同圖案，則確認(rèn)是能夠同時涂覆的圖案的情況。接著，進(jìn)行在涂覆開始位置各自的噴嘴22是否在相互干涉范圍的確認(rèn)，進(jìn)行向涂覆開始點(diǎn)的移動的處理。在干渉的情況下停止，進(jìn)行等待的待機(jī)動作。若向涂覆開始點(diǎn)的移動結(jié)束，則進(jìn)行涂覆頭5A 的噴嘴22的縫隙設(shè)定處理。該縫隙是從玻璃基板8的膏劑涂覆面開始的噴嘴22的前端的高度，該エ序是在涂覆頭5A Μ，驅(qū)動其Z軸伺服馬達(dá)15 (圖2)，使Z軸工作臺17(圖2)在Z軸方向移動，將各自的噴嘴22的前端的膏劑排出ロ的位置(從玻璃基板8的上面開始的距離)設(shè)定在涂覆的膏劑圖案PTa PTd (圖6)的涂覆高度的エ序。為此，首先針對各涂覆頭5A 5D，根據(jù)預(yù)先設(shè)定的有關(guān)這些噴嘴22的初期移動距離數(shù)據(jù)，使這些噴嘴22下降該初期移動距離的量，由分別設(shè)置的距離計(即、光學(xué)式距離計19 (圖3))計量從玻璃基板8的表面開始的高度。接著，按照每個涂覆頭5A 確認(rèn)各噴嘴22的前端是否被設(shè)定在描繪膏劑圖案的高度，在各自的噴嘴22的前端被設(shè)定在描繪膏劑圖案的高度的情況下，該縫隙設(shè)定的エ序結(jié)束。另外，在噴嘴22的前端未被設(shè)定在描繪膏劑 圖案的高度的情況下，使該噴嘴下降微小距離，由光學(xué)式距離計19計量到玻璃基板8的膏劑涂覆面為止的距離，反復(fù)進(jìn)行該距離計量和噴嘴22的微小距離下降，反復(fù)進(jìn)行該處理，直至所有的噴嘴22的前端被設(shè)定在描繪膏劑圖案的高度。若上述的縫隙設(shè)定的處理結(jié)束，則下面進(jìn)行膏劑涂覆移動處理。在各涂覆頭5A 5D的噴嘴22的前端的膏劑排出ロ與玻璃基板8相向的狀態(tài)下，與該膏劑圖案數(shù)據(jù)相應(yīng)地使涂覆頭5A 在X、Y軸方向移動，且對涂覆頭5Α 的子膏劑收納筒24 (圖3、圖4)施加微小的氣壓，開始從各噴嘴22的前端的膏劑排出ロ排出膏劑。以此，進(jìn)行膏劑涂覆エ序(步驟500)。若膏劑涂覆エ序(步驟500)結(jié)束，則接著從基板保持盤6 (圖I)將完成了膏劑涂覆的玻璃基板6釋放，將該玻璃基板8向裝置外排出(步驟600)。在能夠在多張玻璃基板6上以相同的圖案形成膏劑圖案的情況下(步驟700的“ No”)，針對新涂覆描繪膏劑圖案的基板6，再次執(zhí)行從步驟300開始的上述的動作，此后，若針對所有的玻璃基板6結(jié)束該一系列的膏劑圖案描繪處理(步驟700的“Yes” )，則作業(yè)結(jié)束(步驟800)。如上所述，在該實(shí)施方式中，由于通過設(shè)置子膏劑收納筒24 (圖3、圖4)，相對于該子膏劑收納筒24內(nèi)的膏劑的涂覆壓始終穩(wěn)定，所以，在涂覆了的膏劑圖案PTa PTd的涂覆開始位置Sa Sd、各結(jié)束端、還有角部，能夠成為與直線部同樣穩(wěn)定的涂覆量。這里，在多張玻璃基板6上以相同的圖案形成膏劑圖案(步驟300 700的反復(fù))的處理中，每次結(jié)束玻璃基板6的膏劑圖案的描繪動作，就進(jìn)行玻璃基板6的運(yùn)出運(yùn)入動作，但是，也可以靈活應(yīng)用不進(jìn)行該涂覆動作的時間帶，根據(jù)需要進(jìn)行從上述的母膏劑收納筒24側(cè)向子膏劑收納筒24的膏劑的充填處理、臨時描繪處理。這樣ー來，每運(yùn)入 運(yùn)出一張玻璃基板8，就能夠執(zhí)行膏劑向子膏劑收納筒24的補(bǔ)充(充填)。圖8是表示基于本發(fā)明的涂覆頭的其它實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖，36是超聲波傳感器，對與圖4對應(yīng)的部分標(biāo)注相同的符號，省略重復(fù)的說明。該圖中，該實(shí)施方式是作為檢查涂覆頭5的子膏劑收納筒24內(nèi)的膏劑的液面水平的構(gòu)件，替代圖4的光纖傳感器32，使用超聲波傳感器36的實(shí)施方式。僅僅在通過檢查從放出超聲波到接收超聲波的時間來檢查到膏劑液面為止的距離這點(diǎn)與圖4所示的結(jié)構(gòu)的涂覆頭5不同，其它的結(jié)構(gòu)以及動作與圖4所示的涂覆頭5相同。作為該液面水平的檢查構(gòu)件，是以檢測子膏劑收納筒24內(nèi)的膏劑的量為目的的部件，因此，除像這樣使用超聲波以外，置換為在子膏劑收納筒24的外壁面設(shè)置光學(xué)式透過傳感器的方式、使用質(zhì)量計進(jìn)行監(jiān)視的方式等也完全沒有問題。
如上所述，在該實(shí)施方式中，通過不受母膏劑收納筒23內(nèi)的膏劑的殘存容量的影響，能夠維持基于當(dāng)初的設(shè)定條件的涂覆壓的設(shè)定值，進(jìn)行始終穩(wěn)定地描繪。另外，能夠不會大幅降低處理制程地進(jìn)行清洗等維護(hù)，還能夠降低異物的混入風(fēng)險。另外，還有，由于不僅對于通常的涂覆，還能夠降低基于回吸的涂覆壓管理時間，所以，能夠使起點(diǎn)、終點(diǎn)的端部的描繪穩(wěn)定化。符號說明I :架臺;2A、2B :框架;3A、3B :固定部;4A 4D :可動部;5A 5D :涂覆頭；6 :基板保持盤 Θ軸旋轉(zhuǎn)工作臺；8 :玻璃基板；13 :基臺；14 :檢測部；15 Z軸伺服馬達(dá)；16 Z軸導(dǎo)向器；17 :Z軸工作臺；18 :圖像識別照相機(jī)；19 :光學(xué)式距離計；20 :膏劑收納/排出部；21 :噴嘴支撐件；22 :噴嘴；23 :母膏劑收納筒(母注射筒)；24 :子膏劑收納筒(子注射 筒)；23a、24a :膏劑收納筒安裝部；25 :分隔閥用缸；26 :流路塊;27、27a :膏劑充填流路；28 :膏劑排出流路;29 :閥室；29a :前壁面；30 :分隔閥；31 :涂覆壓附加用管道；32 :光纖傳感器；33 :空氣配管管道；34 :吸入ロ ；35 :排出ロ ；36 :超聲波傳感器。
權(quán)利要求
1.一種膏劑涂覆頭，其特征在于，收納涂覆材的涂覆材收納筒由預(yù)先收納所充填的該涂覆材的母膏劑收納筒和臨時保存該涂覆材的子膏劑收納筒構(gòu)成， 在該母膏劑收納筒和該子膏劑收納筒上具備施加氣壓的氣壓施加構(gòu)件， 從將該涂覆材從該母膏劑收納筒取出的取出口開始的該涂覆材的流路與分隔閥相連，從該分隔閥開始的該涂覆材的流路與該子膏劑收納筒相連， 從該子膏劑收納筒開始的該涂覆材的流路與將該涂覆材向基板排出的噴嘴相連， 再有，在該子膏劑收納筒的上部具備檢測該涂覆材的保存量的涂覆材保存量檢測構(gòu)件。
2.如權(quán)利要求I所述的膏劑涂覆頭， 其特征在于， 上述母膏劑收納筒的上述氣壓施加構(gòu)件在從上述母膏劑收納筒向上述子膏劑收納筒補(bǔ)給上述涂覆材時，使上述分隔閥打開，并向上述母膏劑收納筒內(nèi)施加氣壓， 上述子膏劑收納筒的上述氣壓施加構(gòu)件在從上述噴嘴排出上述涂覆材時，使上述分隔閥關(guān)閉，并向上述子膏劑收納筒內(nèi)施加氣壓。
3.如權(quán)利要求I或2所述的膏劑涂覆頭，其特征在于， 上述子膏劑收納筒的上述涂覆材保存量檢測構(gòu)件是接收上述涂覆材的液面上的光學(xué)的反射光，檢測上述涂覆材的保存量的傳感器。
4.如權(quán)利要求1、2或3所述的膏劑涂覆頭，其特征在于， 上述子膏劑收納筒的容積與上述母膏劑收納筒的容積相比足夠小。
5.一種膏劑涂覆裝置，所述涂覆裝置在一或多臺架臺上設(shè)置機(jī)械手，該機(jī)械手可移動地設(shè)有具備充填了涂覆材的涂覆材收納筒和將來自該涂覆材收納筒的涂覆材料排出的噴嘴排出口的一或多個涂覆頭，該機(jī)械手相對于被搭載在該架臺上所設(shè)置的基板載置工作臺上的基板移動，該涂覆頭相對于該機(jī)械手移動，據(jù)此，該涂覆頭相對于該基板移動，使該涂覆材從該噴嘴排出口向該基板上排出，其特征在于， 收納該涂覆頭的涂覆材的該涂覆材收納筒由預(yù)先收納所充填的該涂覆材的母膏劑收納筒和臨時保存該涂覆材的子膏劑收納筒構(gòu)成， 該母膏劑收納筒和該子膏劑收納筒具備施加氣壓的構(gòu)件， 從將該涂覆材從該母膏劑收納筒取出的取出口開始的該涂覆材的流路與分隔閥相連，從該分隔閥開始的該涂覆材的流路與該子膏劑收納筒相連， 從該子膏劑收納筒開始的該涂覆材的流路與將該涂覆材向基板排出的噴嘴相連， 再有，在該子膏劑收納筒的上部具備檢測該涂覆材的保存量的涂覆材保存量檢測構(gòu)件。
6.如權(quán)利要求5所述的膏劑涂覆裝置， 其特征在于， 上述母膏劑收納筒的上述氣壓施加構(gòu)件在從上述母膏劑收納筒向上述子膏劑收納筒補(bǔ)給上述涂覆材時，使上述分隔閥打開，并向上述母膏劑收納筒內(nèi)施加氣壓， 上述子膏劑收納筒的上述氣壓施加構(gòu)件在從上述噴嘴排出上述涂覆材時，使上述分隔閥關(guān)閉，并向上述子膏劑收納筒內(nèi)施加氣壓。
7.如權(quán)利要求5或6所述的膏劑涂覆裝置，其特征在于，上述子膏劑收納筒的上述涂覆材保存量檢測構(gòu)件是接收上述涂覆材的液面上的光學(xué)的反射光，檢測上述涂覆材的保存量的傳感器。
8.如權(quán)利要求5、6或7所述的膏劑涂覆裝置，其特征在于， 上述子膏劑收納筒的容積與上述母膏劑收納筒的容積相比足夠小。
9.一種膏劑涂覆方法，所述涂覆方法在一或多臺架臺上設(shè)置機(jī)械手，該機(jī)械手可移動地設(shè)有具備充填了涂覆材的涂覆材收納筒和將來自該涂覆材收納筒的涂覆材料排出的噴嘴排出口的一或多個涂覆頭，該機(jī)械手相對于被搭載在該架臺上所設(shè)置的基板載置工作臺上的基板移動，該涂覆頭相對于該機(jī)械手移動，據(jù)此，該涂覆頭相對于該基板移動，使該涂覆材從該噴嘴排出口向該基板上排出，其特征在于， 收納該涂覆頭的涂覆材的該涂覆材收納筒由預(yù)先收納所充填的該涂覆材的母膏劑收納筒和臨時保存該涂覆材的子膏劑收納筒構(gòu)成， 該母膏劑收納筒和該子膏劑收納筒能夠施加氣壓， 從將該涂覆材從該母膏劑收納筒取出的取出口開始的該涂覆材的流路與分隔閥相連，從該分隔閥開始的該涂覆材的流路與該子膏劑收納筒相連， 從該子膏劑收納筒開始的該涂覆材的流路與將該涂覆材向基板排出的噴嘴相連， 再有，在該子膏劑收納筒的上部檢測該涂覆材的保存量，一面與該子膏劑收納筒內(nèi)的該涂覆材的減少相應(yīng)地從該母膏劑收納筒定期地補(bǔ)充該涂覆材，一面向該基板上涂覆該涂覆材。
10.如權(quán)利要求9所述的膏劑涂覆方法， 其特征在于， 在從上述母膏劑收納筒向上述子膏劑收納筒補(bǔ)給上述涂覆材時，使上述分隔閥打開，并向上述母膏劑收納筒內(nèi)施加氣壓， 在從上述噴嘴排出上述涂覆材時，使上述分隔閥關(guān)閉，并向上述子膏劑收納筒內(nèi)施加氣壓。
11.如權(quán)利要求9或10所述的膏劑涂覆方法，其特征在于， 上述子膏劑收納筒內(nèi)的上述涂覆材保存量通過接收上述子膏劑收納筒內(nèi)的上述涂覆材的液面上的光學(xué)的反射光來檢測。
12.如權(quán)利要求9、10或11所述的膏劑涂覆方法，其特征在于， 上述子膏劑收納筒的容積與上述母膏劑收納筒的容積相比足夠小。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種膏劑涂覆頭、膏劑涂覆裝置以及膏劑涂覆方法。本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是，能夠以高精細(xì)的圖案向大型玻璃基板高精度地涂覆密封材。本發(fā)明中，在膏劑涂覆頭中，設(shè)置大容量的母膏劑收納筒(23)和小容量的子膏劑收納筒(24)，在該母膏劑收納筒(23)收納大量的膏劑。在子膏劑收納筒(24)中，在向玻璃基板描繪膏劑圖案時，將被收納在這里的膏劑從噴嘴(22)排出。若子膏劑收納筒(24)內(nèi)的膏劑的收納量變少，則將分隔閥(30)開放，使母膏劑收納筒(23)和子膏劑收納筒(24)經(jīng)膏劑充填流路(27)連通，將母膏劑收納筒(23)內(nèi)的膏劑向子膏劑收納筒(24)補(bǔ)充。
文檔編號B05C5/02GK102671823SQ20121007000
公開日2012年9月19日 申請日期2012年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月18日
發(fā)明者圓山勇, 張曉東, 渡邊健, 渡邊正賢, 石田茂 申請人:株式會社日立工業(yè)設(shè)備技術(shù)