專利名稱：涂敷膜形成裝置和涂敷膜形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及ー種對基板涂敷處理液的涂敷膜形成裝置和涂敷膜形成方法。
背景技術(shù)：
例如，在FPD(平板顯示器FLAT PANEL DISPLAY)的制造過程中，利用所謂的光刻エ序形成電路圖案。在該光刻エ序中，在玻璃基板等基板上形成規(guī)定的膜之后，涂敷作為處理液的光致抗蝕劑(以下，稱作抗蝕劑)并形成抗蝕劑膜(感光膜)。然后，與電路圖案相對應地曝光上述抗蝕劑膜，對抗蝕劑膜進行顯影處理，形成圖案。
不過，近年來，在該光刻エ序中的抗蝕劑膜的形成エ序中，出于提高生產(chǎn)率(throughput)的目的,多采用ー種ー邊以大致水平姿勢的狀態(tài)輸送基板ー邊對基板的被處理面涂敷抗蝕劑液的結(jié)構(gòu)。作為輸送基板的結(jié)構(gòu)，為了防止基板支承構(gòu)件轉(zhuǎn)印到抗蝕劑涂敷面上而以大致水平姿勢的狀態(tài)使基板懸浮到規(guī)定的高度并沿基板輸送方向進行輸送的懸浮輸送正受到關(guān)注?；趫D7說明使用了該懸浮輸送的涂敷膜形成裝置。圖7的涂敷膜形成裝置200包括懸浮載置臺201，其用于懸浮輸送作為基板的玻璃基板G ;輸送部件(未圖示)，其用于對懸浮在懸浮載置臺201上的基板G的左右兩端進行保持并沿基板輸送方向(X軸方向)進行輸送。在懸浮載置臺201的上表面上，分別隔開恒定的間隔地交替設有用于朝上方噴射非活性氣體的多個氣體噴射孔(未圖示)和用于進行吸氣的多個吸氣孔(未圖示)。于是，通過使從上述氣體噴射孔噴射的氣體噴射量與來自上述吸氣孔的吸氣量之間的壓カ負荷恒定，使基板G從懸浮載置臺201的表面懸浮到恒定的高度。另外，在懸浮載置臺201的上方，以自由升降移動的方式設有向懸浮輸送的基板G的表面供給抗蝕劑液的抗蝕劑噴嘴203。在抗蝕劑噴嘴203上連接有由抗蝕劑泵等構(gòu)成的抗蝕劑供給源204，在進行涂敷處理吋，從抗蝕劑供給源204向抗蝕劑噴嘴203供給抗蝕劑液。另外，供給到抗蝕劑噴嘴203的抗蝕劑液從形成在噴嘴頂端的、在基板寬度方向上較長的狹縫狀的噴出ロ 203a噴出。另外，在懸浮載置臺201的上方，在噴嘴203的附近設有用于使附著在噴嘴頂端的抗蝕劑液R均勻化(稱作啟動加注處理)的啟動加注處理部206。啟動加注處理部206具有以自由旋轉(zhuǎn)方式收容于殼體207內(nèi)的啟動加注輥205。噴嘴噴出ロ 203a在靠近該啟動加注輥205的狀態(tài)下向該啟動加注輥205噴出規(guī)定量的抗蝕劑液，啟動加注輥205向規(guī)定的方向旋轉(zhuǎn)，從而進行啟動加注處理。另外，在殼體207內(nèi)存儲有用于將附著在啟動加注輥205上的抗蝕劑液去除的清洗液(稀釋液)在進行涂敷處理前利用該啟動加注處理部206進行啟動加注處理，從而能夠防止在進行涂敷處理時產(chǎn)生涂敷不均勻。
在該結(jié)構(gòu)中，在對基板G進行涂敷處理前，啟動加注處理部206靠近噴嘴頂端，向啟動加注輥205上噴出規(guī)定量的抗蝕劑液。然后，啟動加注輥205向規(guī)定方向旋轉(zhuǎn)，從而對附著于噴出ロ 203a的抗蝕劑液的狀態(tài)進行整理(啟動加注處理完成)。在啟動加注處理完成吋，抗蝕劑供給噴嘴203進行下降移動，如圖所示，靠近在涂敷開始位置待機的基板G。然后，基板G沿X軸方向移動，并且從噴出口 203a呈帶狀供給抗蝕劑液，將抗蝕劑液涂敷到基板G上。但是，在上述涂敷膜形成裝置200的結(jié)構(gòu)中，由于在每次針對I張基板G進行涂敷處理時都需要實施啟動加注處理，因此存在各個基板G的涂敷處理的生產(chǎn)節(jié)拍時間變長這樣的問題。為了解決上述問題，在專利文獻I中公開了ー種在ー個基板輸送路徑上配置有兩個獨立的抗蝕劑供給噴嘴的涂敷膜形成裝置。 使用圖8說明專利文獻I所公開的涂敷膜形成裝置的概略結(jié)構(gòu)。圖8所示的涂敷膜形成裝置300具有用于形成基板輸送路徑的懸浮載置臺301，該懸浮載置臺301由基板輸入部301A、涂敷處理部301B和基板輸出部301C構(gòu)成。在基板輸入部301A及基板輸出部301C的上表面形成有多個氣體噴射孔(未圖示)，通過向基板下表面噴射從上述氣體噴射孔噴射的非活性氣體而使基板G懸浮。另ー方面，在涂敷處理部301B的上表面形成有多個氣體噴射孔(未圖示)和多個氣體吸引孔(未圖示)，通過從氣體吸引孔吸引從氣體噴射孔噴射的非活性氣體，在基板上形成氣流，使基板G穩(wěn)定地懸浮。另外，利用基板輸送部件(未圖示)對懸浮于懸浮載置臺301的基板G的左右兩端部進行保持，在載置臺上沿著基板輸送路徑沿X軸方向輸送基板G。另外，在涂敷處理部301B設有以跨在其寬度方向的方式配置的門形的噴嘴臂302。在該噴嘴臂302的頂部，在噴嘴臂302的前后分別設有沿基板寬度方向延伸的第I噴嘴303和第2噴嘴304。上述第I噴嘴303和第2噴嘴304分別是能夠升降移動的獨立的噴嘴，在任意一個噴嘴進行涂敷處理時，該噴嘴進行下降移動，其下端的噴出口接近基板G。另外，在涂敷處理部301B的上方，以沿著基板輸送方向自由移動的方式設有分別與各個噴嘴303、304相對應的第I啟動加注處理部305和第2啟動加注處理部306，該第I啟動加注處理部305和第2啟動加注處理部306能夠接近分別所對應的噴嘴303、304。采用這種結(jié)構(gòu)，在利用第I噴嘴303對基板G進行涂敷處理的期間，利用啟動加注處理部306對第2噴嘴304實施啟動加注處理。另ー方面，在利用第2噴嘴304對基板G進行涂敷處理的期間，利用啟動加注處理部305對第I噴嘴303實施啟動加注處理。S卩，以往，在對噴嘴實施啟動加注處理的期間，能夠?qū)錑進行涂敷處理，能夠縮短對各個基板G進行涂敷處理的生產(chǎn)節(jié)拍時間。專利文獻I :日本特開2007-173368號公報但是，在圖8所示的涂敷膜形成裝置300的結(jié)構(gòu)中，兩個噴嘴303、304對基板G進行涂敷的涂敷位置各不相同，因此存在從懸浮載置臺301輸出的時刻的干燥狀態(tài)參差不齊這樣的問題。另外，在涂敷處理部301B中，由于需要確保利用各個噴嘴303、304分別進行涂覆處理的區(qū)域，因此懸浮載置臺301的全長變長，而且，由于相對于各個噴嘴303、304需要啟動加注處理部305、306、基板檢測傳感器等，因此存在成本上升這樣的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述那樣的現(xiàn)有技術(shù)的問題點而做成的，其提供一種在對基板涂敷處理液的涂敷膜形成裝置中通過使用兩個噴嘴而能夠提高基板的涂敷處理的生產(chǎn)節(jié)拍時間、并且能夠抑制成本的涂敷膜形成裝置和涂敷膜形成方法。為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種涂敷膜形成裝置，其包括具有在基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴出ロ的第I噴嘴和第2噴嘴，從上述第I噴嘴和第2噴嘴中的任意一個噴嘴的噴出ロ向在上述噴嘴的下方沿著基板輸送路徑輸送的上述基板噴出處理液，在上述基板上形成規(guī)定的涂敷膜，其特征在于，該涂敷膜形成裝置包括噴嘴保持部件，其用于對沿著基板輸送方向前后配置的上述第I噴嘴和第2噴嘴進行保持；噴嘴移動部件，其用于使上述噴嘴保持部件沿著基板輸送方向移動；控制部件，其用于進行上述第I噴嘴及上述第2噴嘴的驅(qū)動控制、上述噴嘴移動部件的驅(qū)動控制，上述控制部件控制上述噴嘴移 動部件，以便將上述第I噴嘴和上述第2噴嘴配置在基板輸送路徑上的同一個涂敷位置，上述控制部件進行控制，以便利用上述噴嘴移動部件使上述噴嘴保持部件移動，并利用配置在上述同一個涂敷位置的上述第I噴嘴和第2噴嘴中的任意一個噴嘴向上述基板噴出處理液。通過如此進行構(gòu)成，能夠?qū)蓚€噴嘴的涂敷位置設置在同一個位置，因此能夠消除基板之間的干燥狀態(tài)的偏差。另外，即使具有第I噴嘴和第2噴嘴，由于I噴嘴和第2噴嘴的涂敷位置是同一個位置，因此也不必像以往那樣延長基板輸送路徑的長度。而且，采用上述結(jié)構(gòu)，在利用第I噴嘴(或第2噴嘴)連續(xù)地進行涂敷處理的期間，能夠進行更換向第2噴嘴(或第I噴嘴)供給的處理液的供給源的作業(yè)。因此，例如在以多張基板為單位分別進行種類不同的處理液的涂敷處理的情況下，在利用第I噴嘴(或第2噴嘴)連續(xù)地對多張基板進行了處理之后，能夠立即利用第2噴嘴(或第I噴嘴)連續(xù)地對多張基板進行處理。另外，為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種的涂敷膜形成方法，其用于在涂敷膜形成裝置中在基板上形成規(guī)定的涂敷膜，該涂敷膜形成裝置包括第I噴嘴和第2噴嘴，其具有在基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴出ロ ；啟動加注處理部，其通過使被噴出有從上述第I噴嘴和上述第2噴嘴中的任意ー個噴嘴的噴出口噴出的規(guī)定量的處理液的啟動加注輥旋轉(zhuǎn)，對附著于該噴嘴的噴出口的處理液進行整理，該涂敷膜形成方法用于從上述第I噴嘴和第2噴嘴中的任意一個噴嘴的噴出ロ向在上述噴嘴的下方沿著基板輸送路徑輸送的上述基板噴出處理液，在上述基板上形成規(guī)定的涂敷膜，其特征在于，在該涂敷膜形成方法中進行如下的控制將上述第I噴嘴和上述第2噴嘴中的任意一個噴嘴配置在基板輸送路徑上的同一個涂敷位置，利用配置在上述同一個涂敷位置的上述第I噴嘴和第2噴嘴中的任意一個噴嘴向上述基板噴出處理液；并且使上述啟動加注處理部靠近另ー個噴嘴，進行對附著于該另ー個噴嘴的噴出口的處理液進行整理的啟動加注處理。采用這種方法，由于能夠?qū)蓚€噴嘴的涂敷位置設置在同一個位置，因此能夠消除基板之間的干燥狀態(tài)的偏差。另外，即使具有第I噴嘴和第2噴嘴，由于第I噴嘴和第2噴嘴的涂敷位置是相同的位置，因此不必像以往那樣延長基板輸送路徑的長度，而且，由于能夠共用地使用啟動加注處理部、基板檢測傳感器等，因此能夠抑制成本增加。另外，在第I噴嘴和第2噴嘴中的任意一個噴嘴進行涂敷處理的期間，能夠?qū)嵤┝硪粋€噴嘴的啟動加注處理，因此能夠縮短基板處理的生產(chǎn)節(jié)拍時間。采用本發(fā)明，能夠獲得在對基板涂敷處理液的涂敷膜形成裝置中通過使用兩個噴嘴而能夠提高基板的涂敷處理的生產(chǎn)節(jié)拍時間、并且能夠抑制成本的涂敷膜形成裝置和涂敷膜形成方法。


圖I是表不本發(fā)明的ー實施方式的俯視圖。 圖2是表示本發(fā)明的ー實施方式的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)視3是圖I的A-A向視剖視圖。圖4是表示圖I的抗蝕劑涂敷處理單元的動作的流程的流程圖。圖5(a)、圖5(b)是用于說明圖4的流程中的動作的抗蝕劑涂敷處理單元的側(cè)視圖。圖6 (a)、圖6 (b)是用于說明圖4的流程中的動作的抗蝕劑涂敷處理單元的側(cè)視圖。圖7是用于說明以往的涂敷膜形成裝置的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。圖8是用于說明其他以往的涂敷膜形成裝置的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
具體實施例方式以下，基于

本發(fā)明的涂敷膜形成裝置和涂敷膜形成方法的ー實施方式。另外，在該實施方式中，以將涂敷膜形成裝置應用于ー邊對作為基板的玻璃基板進行懸浮輸送、一邊對上述基板進行作為處理液的抗蝕劑液的涂敷處理的抗蝕劑涂敷處理單元的情況為例進行說明。圖I是表示本發(fā)明的ー實施方式的抗蝕劑涂敷處理單元的俯視圖，圖2是其概略側(cè)視圖。另外，圖3是圖I的A-A向視剖視圖。如圖I、圖2所示，該抗蝕劑涂敷處理單元I具有用于單張地ー張張地懸浮輸送玻璃基板G的懸浮載置臺2 (基板輸送路徑)，以水平的狀態(tài)沿X方向水平地(以下記載為水平輸送)輸送基板G。懸浮載置臺2沿基板輸送方向(X軸方向)依次配置有基板輸入部2A、涂敷處理部2B、基板輸出部2C。如圖I所示，在基板輸入部2A及基板輸出部2C的上表面上，在X方向和Y方向上隔開恒定間隔地設置多個氣體噴出ロ 2a，借助來自氣體噴出ロ 2a的非活性氣體的噴出所產(chǎn)生的壓カ負荷使玻璃基板G懸浮。另外，在涂敷處理部2B的上表面上，在X方向和Y方向上隔開恒定間隔地交替設有多個氣體噴出口 2a和氣體吸氣ロ 2b。而且，在該涂敷處理部2B中，通過使來自氣體噴出ロ 2a的非活性氣體的噴出量與來自氣體吸氣ロ 2b的進氣量之間的壓カ負荷恒定，從而使玻璃基板G以更接近載置臺的狀態(tài)懸浮。另外，在懸浮載置臺2的寬度方向(Y軸方向)上的左右側(cè)方設有在X軸方向上平行延伸的一對導軌5 (第I導軌)。在該ー對導軌5上設有以能夠在基板輸送方向(X軸方向)上移動的方式安裝的滑動件6 (第I滑動件)，在各個滑動件6上分別設有用于從下方吸附保持基板G的寬度方向端部的基板保持部7 (基板保持部件)。另外，由上述一對導軌5、各個滑動件6及各個基板保持部7構(gòu)成了基板輸送部件。另外，如圖所示，在懸浮載置臺2上設有能夠分別向玻璃基板G噴出抗蝕劑液的兩個噴嘴16、17。噴嘴16、17分別形成為在Y方向上例如較長 的大致長方體形狀，形成得比玻璃基板G的Y方向的尺寸長。如圖2、圖3所示，在噴嘴16、17的下端部分別形成有在懸浮載置臺2的寬度方向上較長的狹縫狀的噴出口 16a、17a。如圖2所示，從獨立設置的第I抗蝕劑供給源18和第2抗蝕劑供給源19分別向上述噴嘴16、17供給抗蝕劑液，利用由計算機構(gòu)成的控制部40 (控制部件)來進行噴嘴16、17的噴出的切換。另外，上述第I抗蝕劑供給源18和第2抗蝕劑供給源19分別由抗蝕劑液的存儲罐(未圖示)、從上述存儲罐吸引而補充抗蝕劑液并向噴嘴16、17供給抗蝕劑液的抗蝕劑泵(未圖示)等構(gòu)成。另外，如圖I所示，在噴嘴16、17的左右兩側(cè)設有在X方向上延伸的一對導軌10(第2導軌)。在該導軌10上設有能夠沿著該導軌10滑動移動的一對滑動件11 (第2滑動件)，如圖3所示，在一對滑動件11上以跨越懸浮載置臺2的方式豎立設置有門形的框架12 (噴嘴保持部件)。上述框架12由豎立設置在上述滑動件11上的一對軸部12a和架設在ー對軸部12a的上端部之間的直棒狀的噴嘴臂12b構(gòu)成。在噴嘴臂12b的前后的側(cè)面上分別設有例如由滾珠絲杠機構(gòu)構(gòu)成的升降驅(qū)動機構(gòu)20、21，該升降驅(qū)動機構(gòu)20、21分別懸掛保持噴嘴16、17，并且用于使噴嘴16、17升降移動。在進行涂敷處理時，各個噴嘴16、17為了靠近在下方輸送的基板G而利用該升降驅(qū)動機構(gòu)20、21進行下降移動，在待機吋，噴嘴16、17進行上升移動。如圖2所示，升降驅(qū)動機構(gòu)20、21的驅(qū)動被控制部40控制。在該結(jié)構(gòu)中，噴嘴16、17由于用于支承框架12的滑動件11沿導軌10移動而沿X軸移動，噴嘴16、17在升降驅(qū)動機構(gòu)20、21的驅(qū)動下在涂敷處理部2B上進行升降移動。另外，由上述一對導軌10、各滑動件11及框架12構(gòu)成了噴嘴移動部件。另外，在懸浮載置臺2的上方，沿著基板輸送方向(X軸方向)從上游側(cè)依次設有第I待機部26、啟動加注處理部27和第2待機部28。第I待機部26包括用于將附著在第I噴嘴16的噴出ロ 16a上的多余的抗蝕劑液清洗并去除的噴嘴清洗部26a、用于進行所謂虛擬(dummy)噴出的虛擬分配部26b。另外，第2待機部28包括用于將附著在第2噴嘴17的噴出ロ 17a上的多余的抗蝕劑液清洗并去除的噴嘴清洗部28a、用于進行所謂虛擬噴出的虛擬分配部28b。另外，啟動加注處理部27包括用于對附著于噴嘴16、17的噴出口 16a、17a的抗蝕劑液進行整理的啟動加注輥27a、以自由旋轉(zhuǎn)的方式收容啟動加注輥27a并存儲有清洗液(稀釋液)的殼體27b。
另外，在懸浮載置臺2的左右兩側(cè)且在上述一對導軌10與導軌5之間沿著基板輸送路徑還設有ー對導軌22 (第3導軌)，在該導軌22上從上游側(cè)依次設有能夠在導軌上滑動移動的三對滑動件23、24、25。而且，滑動件23以沿著X軸自由移動的方式支承第I待機部26，滑動件24 (第3滑動件)以沿著X軸自由移動的方式支承啟動加注處理部27，滑動件25以沿著X軸自由移動的方式支承第2待機部28。另外，由上述一對導軌22和各個滑動件24構(gòu)成了啟動加注移動部件。由此，第I待機部26自由進退移動到第I噴嘴16的下方，第2待機部28自由進退移動到第2噴嘴17的下方。另外，啟動加注處理部27能夠移動到進行涂敷處理的噴嘴16,17中的任意一個噴嘴的下方，從而進行啟動加注處理。另外，如圖I所示，在上述導軌5上滑動移動的滑動件6、在上述導軌10上滑動移 動的滑動件11和在上述導軌22上滑動移動的滑動件23、24、25分別被控制部40驅(qū)動控制。接著，使用圖4至圖6說明在如此構(gòu)成的抗蝕劑涂敷處理單元I中對基板G涂敷抗蝕劑液的涂敷處理的一系列的流程。在抗蝕劑涂敷處理單元I中，如圖5的(a)所示，在向懸浮載置臺2的基板輸入部2A新輸入玻璃基板Gl時，基板Gl由形成在載置臺上的非活性氣體的氣流從下方支承，并被基板承載件7 (參照圖I)保持。此時，第I噴嘴16由于控制部40驅(qū)動控制滑動件11而被配置在X軸上的涂敷位置xl，利用啟動加注處理部27實施啟動加注處理。另外，第2噴嘴17被配置在X軸上的待機位置x2，利用第2待機部28的噴嘴清洗部28a實施清洗處理(圖4的步驟SI)。另外，在第I噴嘴16的啟動加注處理完成時，控制部40使位于第2噴嘴17的正下方的第2待機部28退到下游側(cè)，使位于第I噴嘴16的下方的啟動加注處理部27如圖5的(b)所示那樣移動到第2噴嘴17的下方(X軸上的待機位置x2)。另外，如圖5的(b)所示，在將基板Gl從基板輸入部2A輸入到涂敷處理部2B吋，控制部40使第I噴嘴16進行下降移動，使第I噴嘴16的噴出口 16a靠近基板表面。然后，向在下方輸送的基板Gl噴出抗蝕劑液。由此，在基板Gl的上表面涂敷抗蝕劑液。另ー方面，在結(jié)束了噴嘴頂端的清洗處理的第2噴嘴17的下方，如上述那樣配置有啟動加注處理部27，實施對附著于噴出口 17a的抗蝕劑液進行整理的啟動加注處理(圖4的步驟S2)。在涂敷處理部2B中，被實施了涂敷處理的基板Gl如圖6的(a)所示從基板輸出部2C輸出(圖4的步驟S3)，在有需要接著進行涂敷處理的基板的情況下(圖4的步驟S4)，基板G2被輸入到基板輸入部2A。在基板G2被輸入到基板輸入部2A時，結(jié)束了上述涂敷處理的第I噴嘴16由于控制部40驅(qū)動控制滑動件11而從X軸上的涂敷位置xl移動到上游側(cè)的待機位置x3，利用第I待機部26的噴嘴清洗部26a實施噴嘴頂端的清洗處理。另外，在X軸上的待機位置x2實施了啟動加注處理的第2噴嘴17如圖6的(a)所示那樣與啟動加注處理部27 —起移動到X軸上的涂敷位置xl,繼續(xù)實施啟動加注處理(圖4的步驟S5)。另外，在第2噴嘴17的啟動加注處理完成時，控制部40使位于第I噴嘴16正下方的第I待機部26退到上游側(cè)，使位于第2噴嘴17的下方的啟動加注處理部27如圖6的(b)所示那樣移動到第I噴嘴16的下方(X軸上的待機位置x3)。另外，如圖6的(b)所示，在基板G2從基板輸入部2A輸入到涂敷處理部2B吋，控制部40使第2噴嘴17進行下降移動，使第2噴嘴17的噴出ロ 17a靠近基板表面。然后，向在下方輸送的基板G2噴出抗蝕劑液。由此，在基板G2的上表面涂敷抗蝕劑液。另ー方面，在結(jié)束了噴嘴頂端的清洗處理的第I噴嘴16的下方，如上述那樣配置有啟動加注處理部27，實施對附著于噴出口 16a的抗蝕劑液進行整理的啟動加注處理(圖4的步驟S6)。另外，完成了涂敷處理的基板G2從基板輸出部2C輸出(圖4的步驟S7)，在有需要接著進行涂敷處理的基板的情況下(圖4的步驟S8)，返回到步驟SI的處理。
如上上述，采用本發(fā)明的實施方式，在懸浮載置臺2上具有沿著基板輸送方向(X軸)自由移動的第I噴嘴16及第2噴嘴17，在進行涂敷處理時，任意一個噴嘴配置在同一個涂敷位置xl。另外，上述第I噴嘴16和第2噴嘴17利用能夠在懸浮載置臺2上沿著基板輸送方向移動的共用的啟動加注處理部27實施啟動加注處理。因此，在噴嘴16、17中的任意一個噴嘴進行涂敷處理的期間，能夠?qū)嵤┝愆`個噴嘴的啟動加注處理，能夠縮短基板處理的生產(chǎn)節(jié)拍時間。另外，由于兩個噴嘴16、17的涂敷位置是同一個位置(xl)，因此在從懸浮載置臺2輸出的時刻，能夠消除基板之間的干燥狀態(tài)的偏差。另外，即使具有兩個噴嘴16、17，由于涂敷位置是同一個位置，因此不必延長涂敷處理部2B (懸浮載置臺2)在基板輸送方向上的長度，而且，由于能夠共同使用啟動加注處理部27、基板檢測傳感器等，因此能夠抑制成本增カロ。另外，在上述實施方式中，利用第I噴嘴16和第2噴嘴17交替地對連續(xù)輸入的基板G進行涂敷處理，但是采用本發(fā)明的結(jié)構(gòu)，在利用第I噴嘴16 (或第2噴嘴17)連續(xù)地進行多個基板G的處理的期間，能夠進行更換向第2噴嘴17 (或第I噴嘴16)供給的處理液的供給源的作業(yè)。因而，例如在以多張基板為單位分別進行種類不同的處理液的涂敷處理的情況下，在由第I噴嘴16 (或第2噴嘴17)連續(xù)地對多張基板G進行了處理之后，能夠立即由第2噴嘴17 (或第I噴嘴16)連續(xù)地對多張基板G進行處理附圖標記說明I、抗蝕劑涂敷處理單元(涂敷膜形成裝置);10、導軌(噴嘴移動部件);11、滑動件(第2滑動件、噴嘴移動部件)；12、框架(噴嘴保持部件、噴嘴移動部件)；16、第I噴嘴；16a、噴出口 ；17、第2噴嘴；17a、噴出口 ；20、控制部(控制部件)；G、玻璃基板(基板)；R、抗蝕劑液(處理液)。
權(quán)利要求
1.一種涂敷膜形成裝置，其包括具有在基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴出口的第I噴嘴和第2噴嘴，從上述第I噴嘴和第2噴嘴中的任意一個噴嘴的噴出ロ向在上述噴嘴的下方沿著基板輸送路徑輸送的上述基板噴出處理液，在上述基板上形成規(guī)定的涂敷膜，其特征在干， 該涂敷膜形成裝置包括 噴嘴保持部件，其用于對沿著基板輸送方向前后配置的上述第I噴嘴和第2噴嘴進行保持; 噴嘴移動部件，其用于使上述噴嘴保持部件沿著基板輸送方向移動； 控制部件，其用于進行上述第I噴嘴及上述第2噴嘴的驅(qū)動控制、上述噴嘴移動部件的驅(qū)動控制， 上述控制部件控制上述噴嘴移動部件，以便將上述第I噴嘴和上述第2噴嘴配置在基板輸送路徑上的同一個涂敷位置，上述控制部件進行控制，以便利用上述噴嘴移動部件使上述噴嘴保持部件移動，并利用配置在上述同一個涂敷位置的上述第I噴嘴和第2噴嘴中的任意一個噴嘴向上述基板噴出處理液。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的涂敷膜形成裝置，其特征在于，該涂敷膜形成裝置包括 啟動加注處理部，其通過使被噴出有從上述第I噴嘴和上述第2噴嘴中的任意ー個噴嘴的噴出口噴出的規(guī)定量的處理液的啟動加注輥旋轉(zhuǎn)，對附著于該噴嘴的噴出口的處理液進行整理； 啟動加注移動部件，其用于使上述啟動加注處理部沿著基板輸送方向移動， 上述控制部件進行如下的控制 利用配置在上述同一個涂敷位置的上述第I噴嘴和第2噴嘴中的任意一個噴嘴向上述基板噴出處理液； 并且控制啟動加注處理部及上述啟動加注移動部件,利用上述啟動加注移動部件使上述啟動加注處理部靠近另ー個噴嘴，進行對附著于該另ー個噴嘴的噴出口的處理液進行整理的啟動加注處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的涂敷膜形成裝置，其特征在干， 上述控制部件針對在基板輸送路徑上連續(xù)輸送的每個基板控制上述噴嘴移動部件，以便使上述第I噴嘴和上述第2噴嘴交替配置在上述基板輸送路徑上的上述同一個涂敷位置，并進行控制，以便利用該噴嘴移動部件使上述噴嘴保持部件移動。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的涂敷膜形成裝置，其特征在干， 上述噴嘴保持部件是在基板寬度方向上跨在上述基板輸送路徑的門形的框架， 該噴嘴保持部件在上述框架上部的前后具有以能夠分別升降移動的方式保持上述第I噴嘴和第2噴嘴的第I噴嘴升降部件和第2噴嘴升降部件。
5.根據(jù)權(quán)利要求2 4中任一項所述的涂敷膜形成裝置，其特征在干， 該涂敷膜形成裝置包括用于使上述基板沿著基板輸送路徑移動的基板輸送部件， 上述基板輸送部件包括 ー對第I軌道，其沿著該基板輸送路徑鋪設在上述基板輸送路徑的左右兩側(cè)； 基板保持部件，其用于保持上述基板的寬度方向端部； 第I滑動件，其用干支承上述基板保持部件并且能夠沿著上述第I軌道移動，上述噴嘴移動部件包括 ー對第2軌道，其沿著上述基板輸送路徑鋪設在位于上述基板輸送路徑的左右兩側(cè)且位于上述ー對第I軌道的外側(cè)的位置； 第2滑動件，其用干支承上述噴嘴保持部件并且能夠沿著上述第2軌道移動， 上述啟動加注移動部件包括 ー對第3軌道，其沿著上述基板輸送路徑鋪設在位于上述基板輸送路徑的左右兩側(cè)且位于上述ー對第I軌道與上述ー對第2軌道之間的位置； 第3滑動件，其用干支承上述啟動加注處理部并且能夠沿著上述第3軌道移動。
6.一種涂敷膜形成方法，其用于在涂敷膜形成裝置中在基板上形成規(guī)定的涂敷膜，該涂敷膜形成裝置包括第I噴嘴和第2噴嘴，其具有在基板的寬度方向上較長的狹縫狀的噴出ロ ；啟動加注處理部，其通過使被噴出有從上述第I噴嘴和上述第2噴嘴中的任意ー個噴嘴的噴出口噴出的規(guī)定量的處理液的啟動加注輥旋轉(zhuǎn)，對附著于該噴嘴的噴出口的處理液進行整理， 該涂敷膜形成方法用于從上述第I噴嘴和第2噴嘴中的任意一個噴嘴的噴出ロ向在上述噴嘴的下方沿著基板輸送路徑輸送的上述基板噴出處理液，在上述基板上形成規(guī)定的涂敷膜，其特征在干， 在該涂敷膜形成方法中進行如下的控制 將上述第I噴嘴和上述第2噴嘴中的任意一個噴嘴配置在基板輸送路徑上的同一個涂敷位置，利用配置在上述同一個涂敷位置的上述第I噴嘴和第2噴嘴中的任意一個噴嘴向上述基板噴出處理液； 并且使上述啟動加注處理部靠近另ー個噴嘴，進行對附著于該另ー個噴嘴的噴出口的處理液進行整理的啟動加注處理。
全文摘要
本發(fā)明提供涂敷膜形成裝置和涂敷膜形成方法。通過使用兩個噴嘴提高基板的涂敷處理的生產(chǎn)節(jié)拍時間并抑制成本。涂敷膜形成裝置包括噴嘴保持部件(12)，其保持沿基板輸送方向前后配置的第1噴嘴(16)和第2噴嘴(17)；噴嘴移動部件(11)，其使噴嘴保持部件沿基板輸送方向移動；控制部件(40)，其進行第1噴嘴及上述第2噴嘴的驅(qū)動控制、上述噴嘴移動部件的驅(qū)動控制，上述控制部件控制上述噴嘴移動部件以便將上述第1噴嘴和上述第2噴嘴配置在基板輸送路徑上的同一個涂敷位置，并進行控制以便利用該噴嘴移動部件使上述噴嘴保持部件移動，利用配置在上述同一個涂敷位置的上述第1噴嘴和第2噴嘴中的任一個噴嘴向上述基板噴出處理液。
文檔編號B05D1/28GK102693901SQ20121007686
公開日2012年9月26日 申請日期2012年3月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月22日
發(fā)明者元田公男, 大塚慶崇, 宮崎文宏 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社