專利名稱：配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于先進(jìn)制造裝置的控制系統(tǒng)，尤其涉及一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
電氣柜或配電箱在出廠時有一定的防護(hù)等級要求，而防護(hù)等級主要是指對細(xì)小顆粒以及液體的防侵蝕能力，通常人們會在電氣柜或配電箱的結(jié)合部加裝密封圈，而此類密封圈的尺寸都要比電氣柜或配電箱結(jié)合部的尺寸稍小，如此方能使其緊固不易脫落，因此也存在一個問題，即長期處于緊繃狀態(tài)下的密封圈較通常狀態(tài)下壽命更低。故后續(xù)發(fā)展的技術(shù)中，采用液態(tài)狀的材質(zhì)(如聚四氟乙烯)噴到結(jié)合部然后使其冷卻，如此便形成了密封圈并與結(jié)合部牢固相連，然而現(xiàn)有的設(shè)備噴涂過程較為簡單，都是手工控制噴涂軌跡，使得最終形狀以及噴涂量得不到保證，并且效率低下，因此亟需設(shè)計一種高效、高精度的控制系統(tǒng)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決背景技術(shù)中涉及的問題，提供了一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)。本發(fā)明的技術(shù)方案是一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)，包括儲料罐噴頭、工作臺和檢測裝置，所述噴頭位于工作臺的上方，所述噴頭設(shè)置在滑動塊上，所述滑動塊與橫梁活動連接，所述橫梁活動連接設(shè)置在工作臺兩側(cè)的導(dǎo)軌，所述橫梁和導(dǎo)軌互相垂直，所述檢測裝置包括兩個第一光電傳感器和兩個第二光電傳感器，所述的兩個第一光電傳感器的連線與橫梁相平行，所述的兩個第二光電傳感器的連線與導(dǎo)軌相平行，所述第一光電傳感器和第二光電傳感器均連接至輸入模塊，所述輸入模塊連接至主控制模塊，所述主控制模塊輸出控制信號至輸出模塊。本發(fā)明的噴頭用于噴涂液態(tài)材料，并且可以具有兩個方向的運動，因而可以在工作臺平面上實現(xiàn)各種噴涂軌跡，而第一光電傳感器和第二光電傳感器的設(shè)置使得可以實時監(jiān)測待加工物在工作臺面上所處的位置，并將該位置信號通過輸入模塊傳輸至主控制模塊，主控制模塊計算出坐標(biāo)位置然后控制噴頭行走相應(yīng)地軌跡，使得噴涂上去的材料較為均勻不易偏差，提高了加工效率和精度。作為本發(fā)明的一種優(yōu)選，所述儲料罐至少有兩個，所述的每個儲料罐通過管道與混料裝置相連。作為本發(fā)明的一種優(yōu)選，所述的每個儲料罐均設(shè)有抽料泵，所述抽料泵的出料口通過管道與混料裝置相連，所述抽料泵為齒輪泵。作為本發(fā)明的一種優(yōu)選，還包括指令錄入模塊，所述指令錄入模塊連接輸入模塊。作為本發(fā)明的一種優(yōu)選，還包括有回收罐，所述回收罐位于工作臺的一側(cè)。作為本發(fā)明的一種優(yōu)選，所述導(dǎo)軌有兩根分別位于工作臺的兩側(cè)，所述的每一根導(dǎo)軌固連有兩根立柱，所述立柱和導(dǎo)軌之間設(shè)有用于加固地加強(qiáng)板。 作為本發(fā)明的一種優(yōu)選，所述橫梁上設(shè)有一滑槽，所述滑動塊通過滑槽與橫梁活動連接，所述的截面形狀為矩形。作為本發(fā)明的一種優(yōu)選，所述主控制模塊為單片機(jī)或pic。綜上所述，本發(fā)明具有以下優(yōu)點
在本發(fā)明中噴頭可以在工作臺平面了實現(xiàn)任意軌跡的噴涂，適用范圍較廣，而而第一光電傳感器和第二光電傳感器的設(shè)置使得可以實時監(jiān)測待加工物在工作臺面上所處的位置，可以實時控制噴頭行走相應(yīng)地軌跡，使得噴涂上去的材料較為均勻不易偏差，提高了加工效率和精度。


圖1為本發(fā)明的示意 圖2為圖1的主視 圖3為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)框圖。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖以實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。如圖1至3所示，一種配電箱密封系統(tǒng)精密加裝設(shè)備，包括儲料罐1、噴頭2、工作臺3和檢測裝置，所述噴頭2位于工作臺3的上方，所述噴頭2設(shè)置在滑動塊4上，所述滑動塊4與橫梁5活動連接，所述橫梁5活動連接設(shè)置在工作臺3兩側(cè)的導(dǎo)軌6，所述橫梁5和導(dǎo)軌6互相垂直，所述檢測裝置包括兩個第一光電傳感器81和兩個第二光電傳感器82，所述的兩個第一光電傳感器81的連線與橫梁5相平行，所述的兩個第二光電傳感器82的連線與導(dǎo)軌6相平行，所述第一光電傳感器81和第二光電傳感器82均連接至輸入模塊，所述輸入模塊連接至主控制模塊，所述主控制模塊輸出控制信號至輸出模塊。所述工作臺3上設(shè)有滑輪31和定位輪32，所述滑輪31的軸線與橫梁5相平行，所述定位輪32的軸線垂直于滑輪31的軸線。所述儲料罐I至少有兩個，所述的每個儲料罐I通過管道與混料裝置相連。所述的每個儲料罐I均設(shè)有抽料泵11，所述抽料泵11的出料口通過管道與混料裝置相連。所述抽料泵11為齒輪泵。還包括有回收罐7，所述回收罐7位于工作臺3的一側(cè)。所述導(dǎo)軌6有兩根分別位于工作臺3的兩側(cè)，所述的每一根導(dǎo)軌6固連有兩根立柱61，所述立柱61和導(dǎo)軌6之間設(shè)有用于加固地加強(qiáng)板62。所述橫梁5上設(shè)有一滑槽51，所述滑動塊4通過滑槽51與橫梁5活動連接，所述的截面形狀為矩形。所述滑輪31安裝在轉(zhuǎn)軸33上，所述轉(zhuǎn)軸33固定安裝在工作臺3上。還包括指令錄入模塊，所述指令錄入模塊連接輸入模塊。所述主控制模塊為單片機(jī)或Pic。以上說明僅僅是對本發(fā)明的解釋，使得本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能完整的實施本方案，但并不是對本發(fā)明的限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀完本說明書后可以根據(jù)需要對本實施例做出沒有創(chuàng)造性貢獻(xiàn)的修改，這些都是不具有創(chuàng)造性的修改。但只要在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍內(nèi)都受到專利法的保護(hù)。
權(quán)利要求
1.一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)，包括儲料罐(I)、噴頭(2)、工作臺(3)和檢測裝置，其特征在于所述噴頭(2)位于工作臺(3)的上方，所述噴頭(2)設(shè)置在滑動塊(4) 上，所述滑動塊(4)與橫梁(5)活動連接，所述橫梁(5)活動連接設(shè)置在工作臺(3)兩側(cè)的導(dǎo)軌(6)，所述橫梁(5)和導(dǎo)軌(6)互相垂直，所述檢測裝置包括兩個第一光電傳感器(81) 和兩個第二光電傳感器(82)，所述的兩個第一光電傳感器(81)的連線與橫梁(5)相平行， 所述的兩個第二光電傳感器(82)的連線與導(dǎo)軌(6)相平行，所述第一光電傳感器(81)和第二光電傳感器(82)均連接至輸入模塊，所述輸入模塊連接至主控制模塊，所述主控制模塊輸出控制信號至輸出模塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)，其特征在于所述儲料罐(I)至少有兩個，所述的每個儲料罐(I)通過管道與混料裝置相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)，其特征在于 所述的每個儲料罐(I)均設(shè)有抽料泵(11)，所述抽料泵(11)的出料口通過管道與混料裝置相連，所述抽料泵(11)為齒輪泵。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)，其特征在于還包括指令錄入模塊，所述指令錄入模塊連接輸入模塊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)，其特征在于還包括有回收罐(7)，所述回收罐(7)位于工作臺(3)的一側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)，其特征在于所述導(dǎo)軌(6)有兩根分別位于工作臺(3)的兩側(cè)，所述的每一根導(dǎo)軌(6)固連有兩根立柱(61)， 所述立柱(61)和導(dǎo)軌(6)之間設(shè)有用于加固地加強(qiáng)板(62)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)，其特征在于所述橫梁(5)上設(shè)有一滑槽(51)，所述滑動塊(4)通過滑槽(51)與橫梁(5)活動連接，所述的截面形狀為矩形。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)，其特征在于所述主控制模塊為單片機(jī)或pic。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種配電箱密封系統(tǒng)精密制造控制系統(tǒng)，包括儲料罐噴頭、工作臺和檢測裝置，所述噴頭位于工作臺的上方，所述檢測裝置包括兩個第一光電傳感器和兩個第二光電傳感器，所述的兩個第一光電傳感器的連線與橫梁相平行，所述的兩個第二光電傳感器的連線與導(dǎo)軌相平行，所述第一光電傳感器和第二光電傳感器均連接至輸入模塊，所述輸入模塊連接至主控制模塊，所述主控制模塊輸出控制信號至輸出模塊。在本發(fā)明中噴頭可以在工作臺平面了實現(xiàn)任意軌跡的噴涂，適用范圍較廣，并且可以實時控制噴頭行走相應(yīng)地軌跡，使得噴涂上去的材料較為均勻不易偏差，提高了加工效率和精度。
文檔編號B05C11/10GK102989640SQ201210538600
公開日2013年3月27日 申請日期2012年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月14日
發(fā)明者吳秀亮 申請人:浙江天齊電氣有限公司