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薄膜形成方法及薄膜形成裝置制造方法

文檔序號(hào):3782007閱讀:200來源:國(guó)知局
薄膜形成方法及薄膜形成裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種薄膜形成方法及薄膜形成裝置。通過反復(fù)進(jìn)行薄膜材料的液滴向基板的表面中形成薄膜圖案的區(qū)域的邊緣的著落與已著落的薄膜材料的固化,在形成薄膜圖案的區(qū)域的邊緣形成由薄膜材料構(gòu)成的邊緣圖案。以邊緣圖案來使薄膜材料的液滴著落于所劃分出邊緣的內(nèi)部區(qū)域。使著落于內(nèi)部區(qū)域的薄膜材料固化。形成由邊緣圖案和著落于內(nèi)部區(qū)域的薄膜材料構(gòu)成的薄膜圖案。
【專利說明】薄膜形成方法及薄膜形成裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種朝向基板吐出薄膜材料的液滴從而形成薄膜圖案的薄膜形成方法及薄膜形成裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]已知有種從噴嘴頭(噴墨頭)吐出包括薄膜圖案形成用材料的液滴從而在基板的表面形成薄膜圖案的技術(shù)(例如專利文獻(xiàn)I)。
[0003]在這種薄膜形成技術(shù)中,例如作為基板利用印刷配線基板,作為薄膜材料利用阻焊劑。印刷配線基板包括基材及配線,在指定位置焊接電子零件等。阻焊劑使焊接電子零件等的導(dǎo)體部分露出并覆蓋無(wú)需焊接的部分。為了電子零件等的焊接而露出導(dǎo)體部分的區(qū)域稱為焊盤。
[0004]以往技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)1:日本專利第3544543號(hào)專利公報(bào)
[0007]作為薄膜材料利用光固化性(例如紫外線固化性)液狀材料。使薄膜材料的液滴著落于基板,則薄膜材料向面內(nèi)方向擴(kuò)散。為了提高形成于基板的薄膜圖案的分辨率,優(yōu)選在液滴著落之后迅速對(duì)薄膜材料照射光來使其固化。但是,在將薄膜涂布于滿布(beta)的區(qū)域中,若在液滴著落之后,迅速使薄膜材料固化,則對(duì)應(yīng)各個(gè)液滴在薄膜表面殘留凹凸。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明的目的在于提供一種不易在薄膜表面產(chǎn)生凹凸的薄膜形成方法及薄膜形成裝置。
[0009]根據(jù)本發(fā)明的一觀點(diǎn),提供一種薄膜形成方法,其中。具有:
[0010]通過反復(fù)進(jìn)行薄膜材料的液滴向基板的表面中形成薄膜圖案的區(qū)域的邊緣的著落與已著落的薄膜材料的固化,從而在形成所述薄膜圖案的區(qū)域的邊緣形成由薄膜材料構(gòu)成的邊緣圖案的步驟;
[0011]在通過所述邊緣圖案而劃定有邊緣的內(nèi)部區(qū)域內(nèi)著落薄膜材料的液滴的步驟;及
[0012]使著落于所述內(nèi)部區(qū)域的薄膜材料固化的步驟。
[0013]根據(jù)本發(fā)明的另一觀點(diǎn),提供一種薄膜形成方法,其中,具有:
[0014](a)使光固化性薄膜材料附著于基板的第I區(qū)域內(nèi)的應(yīng)形成薄膜的區(qū)域的步驟,其中所述基板的表面被劃分為包括應(yīng)形成的薄膜圖案的邊緣的所述第I區(qū)域及形成滿布薄膜的第2區(qū)域;
[0015](b)所述步驟a之后,對(duì)附著于所述基板的所述第I區(qū)域的所述薄膜材料照射光,來使所述薄膜材料固化的步驟;
[0016](c)使所述薄膜材料附著于所述第2區(qū)域內(nèi)的步驟;及
[0017](d)所述步驟c之后,對(duì)附著于所述第2區(qū)域的所述薄膜材料照射光,來使所述薄膜材料固化的步驟,
[0018]附著于所述第2區(qū)域之后,至所述步驟d中光照射在薄膜材料為止的時(shí)間比附著于所述第I區(qū)域之后至所述步驟b中光照射在薄膜材料為止的時(shí)間長(zhǎng)。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的又一觀點(diǎn),提供一種薄膜形成裝置,其中,具有:
[0020]保持基板的載物臺(tái);
[0021]噴嘴單元,與保持于所述載物臺(tái)的基板相對(duì),且設(shè)置有對(duì)所述基板的表面吐出光固化性薄膜材料的液滴的多個(gè)噴嘴孔,及向附著于所述基板的薄膜材料照射固化用光的光源;
[0022]移動(dòng)機(jī)構(gòu),使所述噴嘴單元與所述載物臺(tái)中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè),且在與所述基板的表面平行的方向移動(dòng);及
[0023]控制裝置,儲(chǔ)存應(yīng)形成于所述基板的薄膜圖案的圖像數(shù)據(jù),
[0024]所述控制裝置是根據(jù)所述圖像數(shù)據(jù),將所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述噴嘴單元及所述光源控制成所述薄膜材料的液滴著落于所 述薄膜圖案的邊緣,且光從所述光源照射到著落于所述邊緣的薄膜材料來形成邊緣圖案之后,使所述薄膜材料的液滴著落于形成所述薄膜圖案的區(qū)域的內(nèi)部,且光從所述光源照射到著落于形成所述薄膜的區(qū)域的內(nèi)部的所述薄膜材料。
[0025]根據(jù)本發(fā)明的又一觀點(diǎn),提供一種薄膜形成裝置,其中,具備:
[0026]保持基板的載物臺(tái);
[0027]噴嘴單元,設(shè)置有多個(gè)噴嘴孔,所述多個(gè)噴嘴孔朝向保持于所述載物臺(tái)的基板,吐出具有光固化性及絕緣性的液狀材料并使該液狀材料附著于所述基板;
[0028]移動(dòng)機(jī)構(gòu),使所述載物臺(tái)及所述噴嘴單元中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè),在與所述基板的表面平行的Y方向移動(dòng);
[0029]第I光源,與所述多個(gè)噴嘴孔在Y方向分開配置,通過向附著于所述基板的液狀材料照射光,來使該液狀材料固化;
[0030]第2光源,與所述多個(gè)噴嘴孔在Y方向分開配置,且比所述第I光源進(jìn)一步分開而配置,,通過向附著于所述基板的液狀材料照射光,來使該液狀材料固化 '及
[0031]控制裝置,儲(chǔ)存定義應(yīng)形成于所述基板的表面的薄膜圖案的圖像數(shù)據(jù),根據(jù)該圖像數(shù)據(jù)控制所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述噴嘴單元、所述第I及第2光源,
[0032]所述控制裝置將所述第I及第2光源控制成所述第I光源對(duì)附著于包括所述薄膜圖案的邊緣的第I區(qū)域的液狀材料進(jìn)行固化,所述第2光源對(duì)附著于薄膜圖案形成于滿布的第2區(qū)域的液狀材料進(jìn)行固化。
[0033]發(fā)明效果
[0034]使著落于薄膜圖案的邊緣的薄膜材料固化之后,使薄膜材料的液滴著落于與薄膜圖案的內(nèi)部對(duì)應(yīng)的區(qū)域時(shí),被固化的薄膜材料阻擋住薄膜材料的面內(nèi)方向的流動(dòng)。因此,無(wú)需立刻使著落于與薄膜圖案的內(nèi)部對(duì)應(yīng)的區(qū)域的薄膜材料固化。薄膜材料變得能夠在向面內(nèi)方向擴(kuò)散之后使其固化。由此,能夠使薄膜圖案的內(nèi)部的表面變得平坦。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0035]【圖1】圖1是實(shí)施例1的薄膜形成裝置的側(cè)視圖。[0036]【圖2】圖2A是實(shí)施例1的薄膜形成裝置中使用的噴嘴單元的立體圖,圖2B是噴嘴單元的仰視圖。
[0037]【圖3】圖3是具有利用實(shí)施例1的薄膜形成方法形成的薄膜圖案的基板及噴嘴單元的俯視圖。
[0038]【圖4-1】圖4A是實(shí)施例1的薄膜形成方法的第1次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖,圖4B是沿圖4A的單點(diǎn)劃線4B-4B的剖視圖,圖4C是實(shí)施例1的薄膜形成方法的第2次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖,圖4D是沿圖4C的單點(diǎn)劃線4D-4D的剖視圖。
[0039]【圖4-2】圖4E是實(shí)施例1的薄膜形成方法的第3次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖,圖4F是沿圖4E的單點(diǎn)劃線4F-4F的剖視圖,圖4G是實(shí)施例1的薄膜形成方法的第4次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖,圖4H是沿圖4G的單點(diǎn)劃線4H-4H的剖視圖。
[0040]【圖4-3】圖41是實(shí)施例1的薄膜形成方法的第5次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖,圖4J是沿圖41的單點(diǎn)劃線4J-4J的剖視圖,圖4K是實(shí)施例1的薄膜形成方法的第6次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖,圖4L是沿圖4K的單點(diǎn)劃線4L-4L的剖視圖。[0041]【圖5】圖5A、圖5B、圖5C分別是沿圖4A的單點(diǎn)劃線5A-5A的剖視圖、沿圖4E的單點(diǎn)劃線5B-5B的剖視圖、沿圖41的單點(diǎn)劃線5C-5C的剖視圖。
[0042]【圖6】圖6A及圖6B分別是利用比較例及實(shí)施例1的方法形成的薄膜圖案的剖視圖。
[0043]【圖7-1】圖7A是實(shí)施例2的薄膜形成方法的第2次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖,圖7B是實(shí)施例2的薄膜形成方法的第3次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖。
[0044]【圖7-2】圖7C是實(shí)施例2的薄膜形成方法的第4次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖,圖7D是實(shí)施例2的薄膜形成方法的第5次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖。
[0045]【圖7-3】圖7E是實(shí)施例2的薄膜形成方法的第6次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖。
[0046]【圖8-1】圖8A是實(shí)施例3的薄膜形成方法的第1次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖,圖8B是實(shí)施例3的薄膜形成方法的第2次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖。
[0047]【圖8-2】圖8C是實(shí)施例3的薄膜形成方法的第3次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖,圖8D是實(shí)施例3的薄膜形成方法的第4次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖。
[0048]【圖9】圖9是實(shí)施例4的薄膜形成裝置的噴嘴單元的俯視圖。
[0049]【圖10-1】圖1OA是實(shí)施例4的薄膜形成方法的第1次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖。
[0050]【圖10-2】圖1OB是實(shí)施例4的薄膜形成方法的第2次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖。
[0051]【圖10-3】圖1OC是實(shí)施例4的薄膜形成方法的第3次掃描前后的基板及噴嘴單元的俯視圖。
[0052]【圖11】圖11是實(shí)施例5的評(píng)估試驗(yàn)中使用的噴嘴單元的仰視圖。
[0053]【圖12】圖12是實(shí)施例5的薄膜形成裝置的局部側(cè)視圖。[0054]【圖13】圖13A是形成于基板的薄膜圖案及噴嘴單元的俯視圖,圖13B及圖13C是沿圖13A的單點(diǎn)劃線13-13的剖視圖。
[0055]【圖14】圖14是實(shí)施例5的噴嘴單元的仰視圖。
[0056]【圖15】圖15A及圖15B是利用實(shí)施例5的方法形成薄膜圖案時(shí)的噴嘴單元及基板的側(cè)視圖。
[0057]【圖16】圖16A是利用實(shí)施例5的方法形成于基板的薄膜圖案及噴嘴單元的俯視圖,圖16B是沿圖16A的單點(diǎn)劃線16B-16B的剖視圖。
[0058]【圖17】圖17A及圖17B是實(shí)施例5的變形例的噴嘴單元及基板的俯視圖。
[0059]【圖18】圖18A及圖18B是利用實(shí)施例6的方法形成薄膜圖案時(shí)的噴嘴單元及基板的側(cè)視圖,圖18C是利用實(shí)施例6的變形例的方法形成薄膜圖案時(shí)的噴嘴單元及基板的側(cè)視圖。
[0060]【圖19】圖19A是利用實(shí)施例6的方法形成于基板的薄膜圖案及噴嘴單元的俯視圖,圖19B是沿圖19A的單點(diǎn)劃線19B-19B的剖視圖。
[0061]【圖20】圖20是利用實(shí)施例6的變形例的方法形成的薄膜圖案及噴嘴單元的俯視圖。
[0062]【圖21】圖21A~圖21D是利用實(shí)施例7的方法制作的半導(dǎo)體裝置的制造途中階段的剖視圖。
[0063]【圖22】圖22A及圖22B分別是表示實(shí)施例8及其變形例的薄膜形成裝置的噴嘴頭的配置的仰視圖。`
[0064]【圖23】圖23是表示實(shí)施例9的薄膜形成裝置的噴嘴頭的配置的仰視圖。
[0065]【圖24】圖24A、圖24B、圖24C、圖24D分別是表示利用實(shí)施例9的薄膜形成裝置形成薄邊緣圖案時(shí)的第1次、第2次、第3次、第4次掃描結(jié)束后的邊緣圖案中著落有薄膜材料的像素的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0066][實(shí)施例1]
[0067]圖1中表示實(shí)施例1的薄膜形成裝置的概要圖。在平臺(tái)20上通過移動(dòng)機(jī)構(gòu)21支承有載物臺(tái)22。在載物臺(tái)22的上面(保持面),保持印刷配線板等基板50。將與載物臺(tái)22的保持面平行的方向設(shè)為X方向及Y方向且將保持面的法線方向設(shè)為Z方向從而定義XYZ直角座標(biāo)系。移動(dòng)機(jī)構(gòu)21使載物臺(tái)22在X方向及Y方向移動(dòng)。
[0068]梁32通過支柱31被支承在平臺(tái)20的上方。在梁32上安裝有噴嘴單元支承機(jī)構(gòu)29及攝像裝置30。噴嘴單元支承機(jī)構(gòu)29上支承有噴嘴單元23。攝像裝置30及噴嘴單元23與保持于載物臺(tái)22的基板50相對(duì)。攝像裝置30拍攝形成于基板50的表面的配線圖案、對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記、形成于基板50的薄膜圖案等。拍攝所得到的圖像數(shù)據(jù)輸入至控制裝置40。噴嘴單元23從多個(gè)噴嘴孔,朝向基板50吐出光固化型(例如紫外線固化型)薄膜材料的液滴,例如吐出阻焊劑等的液滴。所吐出的薄膜材料附著于基板50的表面。
[0069]可將噴嘴單元23固定于平臺(tái)20,以移動(dòng)載物臺(tái)22來代替相對(duì)于載物臺(tái)22及平臺(tái)20移動(dòng)噴嘴單元23。
[0070]控制裝置40控制移動(dòng)機(jī)構(gòu)21、噴嘴單元23及攝像裝置30??刂蒲b置40中,儲(chǔ)存有定義應(yīng)形成于基板50的薄膜圖案的光柵格式的圖像數(shù)據(jù)等。操作員通過輸入裝置41向控制裝置40輸入各種指令(命令)或控制所需的數(shù)值數(shù)據(jù)。輸入裝置41例如利用鍵盤、觸控面板、指標(biāo)裝置等。控制裝置40從輸出裝置42向操作員輸出各種信息。作為輸出裝置42利用液晶顯示器等。
[0071]圖2A中表示噴嘴單元23的立體圖。噴嘴座26上安裝有多個(gè)(例如4個(gè))噴嘴頭24。各個(gè)噴嘴頭24上形成有多個(gè)噴嘴孔24a。噴嘴孔24a在X方向排列,4個(gè)噴嘴頭24在Y方向排列且固定于噴嘴座26。
[0072]噴嘴頭24之間及比兩端的噴嘴頭24更靠外側(cè)處,分別配置有紫外光源25。紫外光源25向基板50 (圖1)照射紫外線。另外,作為薄膜材料利用通過紫外線的波長(zhǎng)區(qū)域以外的光的成分固化的材料時(shí),使用放射包括能夠使薄膜材料固化的波長(zhǎng)成分的光的光源,以此代替紫外光源25。
[0073]圖2B中表示噴嘴頭24及紫外光源25的仰視圖。在噴嘴頭24的各個(gè)底面(與基板50相對(duì)的表面)配置有2列的噴嘴列24b。各個(gè)噴嘴列24b由在X方向上以間距(周期)8P排列的多個(gè)噴嘴孔24a構(gòu)成。其中一列噴嘴列24b相對(duì)于另一列噴嘴列24b在Y方向偏離,而且在X方向僅偏離間距4P。也就是說,當(dāng)著眼于I個(gè)噴嘴頭24,則噴嘴孔24a變成相對(duì)于在X方向上以間距4P等間隔分布。間距4P例如相當(dāng)于300dpi的分辨率。
[0074]4個(gè)噴嘴頭24在Y方向排列,且相互在X方向偏離而安裝于噴嘴座26(圖2A)。圖2B中,當(dāng)以最左側(cè)的噴嘴頭24為基準(zhǔn)時(shí),則第2、第3、第4個(gè)噴嘴頭24分別向X軸的負(fù)方向僅偏離2P、P及3P。因此,當(dāng)著眼于4個(gè)噴嘴頭24 (作為噴嘴頭整體),則噴嘴孔24a在X方向以間距P (相當(dāng)于1200dpi的間距)等間隔排列。
[0075]噴嘴頭24之間及相對(duì)于在Y方向上比最外側(cè)的噴嘴頭24更靠外側(cè)處,分別配置有紫外光源25。紫外光源25使附著于基板50 (圖1)的液狀薄膜材料固化。
[0076]通過使基板50 (圖1)在Y方向移動(dòng)的同時(shí)使薄膜材料的液滴從噴嘴單元23的各噴嘴孔24a吐出,因此能夠相對(duì)于在X方向上以1200dpi的分辨率形成薄膜圖案。通過在X方向僅偏離P/2來進(jìn)行2次掃描,因此能夠?qū)方向的分辨率提高至2倍到達(dá)2400dpi。2次掃描能夠通過使第I次掃描與第2次掃描的方向反轉(zhuǎn)的來回掃描來實(shí)現(xiàn)。Y方向的分辨率由基板50的移動(dòng)速度和來自噴嘴孔24a的液滴的吐出周期決定。
[0077]圖3中表示形成有薄膜圖案的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。在基板50的表面上,形成有薄膜圖案55。基板50是在其面內(nèi)配置有多個(gè)印刷配線板的拼接基板。作為一例,在基板50的面內(nèi)以4行2列的行列狀配置有印刷配線板。對(duì)應(yīng)于印刷配線板來定義薄膜圖案55。薄膜圖案55例如由阻焊劑形成。
[0078]基板50在Y方向移動(dòng)的同時(shí),使薄膜材料的液滴從噴嘴單元23吐出的動(dòng)作稱為“掃描”。能夠通過I次掃描使薄膜材料的液滴著落的區(qū)域稱為單位掃描區(qū)域56。以W表示單位掃描區(qū)域56的X方向的尺寸(寬度)。作為一例,單位掃描區(qū)域56的寬度W為基板50的X方向的尺寸的1/4。
[0079]參考圖4A?圖4L及圖5A?圖5C,對(duì)實(shí)施例1的薄膜形成方法進(jìn)行說明。圖4A?圖4L中以圖3中表示的基板50為代表且僅表示與I張印刷配線板對(duì)應(yīng)的區(qū)域。并且,為了便于說明,因而在薄膜圖案內(nèi)配置了 2個(gè)正方形和4個(gè)圓形的開口部,但實(shí)際上配置有更微細(xì)的大量的開口部。[0080]圖4A中表示第I次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。圖4B中表示在圖4A的單點(diǎn)劃線4B-4B的剖視圖。圖5A中表示在圖4A的單點(diǎn)劃線5A-5A的剖視圖。
[0081]如圖4A所示,向Y軸的負(fù)方向掃描基板50。此時(shí),使來自噴嘴頭24 (圖5A)的薄膜材料的液滴,著落于薄膜圖案55的最外圍的邊緣及開口部的邊緣。掃描期間,事先從紫外光源25 (圖5A)向基板50照射紫外線。因此,薄膜材料的液滴著落于基板50之后,薄膜材料的表層部立即固化。從紫外光源25放射的紫外線在基板表面的光能密度并不充分,因此薄膜材料的內(nèi)部為未固化狀態(tài)。將僅有薄膜材料的表層部固化的反應(yīng)稱為“臨時(shí)固化”,將固化至內(nèi)部的反應(yīng)稱為“正式固化”。通過第I次掃描,在I個(gè)單位掃描區(qū)域56 (圖3)內(nèi)的薄膜圖案的最外圍的邊緣及開口部的邊緣形成由臨時(shí)固化的薄膜材料構(gòu)成的線狀的邊緣圖案60。
[0082]圖4C中表示第2次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。圖4D中表示在圖4C的單點(diǎn)劃線4D-4D的剖視圖。如圖4C所示,使基板50向X軸的負(fù)方向,僅移動(dòng)與單位掃描區(qū)域56的寬度W相等的距離。之后,通過使基板50向Y軸的正方向移動(dòng),來進(jìn)行第2次掃描。在第2次掃描中,也使薄膜材料的液滴從噴嘴單元23著落于薄膜圖案55的最外圍的邊緣及開口部的邊緣,著落之后立即使薄膜材料臨時(shí)固化。
[0083]在與經(jīng)由第I次掃描形成邊緣圖案60的單位掃描區(qū)域56鄰接的單位掃描區(qū)域56內(nèi)的薄膜圖案55的最外圍的邊緣及開口部的邊緣形成臨時(shí)固化的邊緣圖案61。
[0084]圖4E中表示第3次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。圖4F中表示在圖4E的單點(diǎn)劃線4F-4F的剖視圖,圖5B中表示在圖4E的單點(diǎn)劃線5B-5B的剖視圖。第2次掃描結(jié)束之后,通過使基板50向Y軸的負(fù)方向移動(dòng)來進(jìn)行第3次掃描。第3次掃描中使薄膜材料的液滴從噴嘴頭24 (圖5B)著落于形成薄膜圖案55 (圖3)的區(qū)域的內(nèi)部(滿布的區(qū)域)。形成以在第2次掃描中形成的邊緣圖案61作為邊緣的面狀圖案62。第3次掃描中紫外光源25 (圖5B)為關(guān)閉狀態(tài)。因此,面狀圖案62仍保持未固化狀態(tài)。
[0085]雖然面狀圖案62為未固化狀態(tài),但在相當(dāng)于薄膜圖案55的邊緣的區(qū)域內(nèi)形成的邊緣圖案61阻擋了薄膜材料的面內(nèi)方向的擴(kuò)散。因此,未固化的薄膜材料不會(huì)浸入至開口部的內(nèi)側(cè)。單位掃描區(qū)域56 (圖3)的分界線63上,未形成有阻擋未固化薄膜材料的邊緣圖案。因此,在單位掃描區(qū)域56的分界線63上薄膜材料根據(jù)與基板的濕潤(rùn)性擴(kuò)散至達(dá)到平衡狀態(tài)。
[0086]圖4G中表示第4次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。圖4H中表示在圖4G的單點(diǎn)劃線4H-4H的剖視圖。第3次掃描之后,使基板50向X軸的正方向僅移動(dòng)與單位掃描區(qū)域56 (圖3)的寬度W相等的距離。通過在該狀態(tài)下使基板50向Y軸的正方向移動(dòng)來進(jìn)行第4次掃描。第4次掃描中與第3次掃描相同,使薄膜材料的液滴著落于形成薄膜圖案55 (圖3)的區(qū)域的內(nèi)部。形成以在第I次掃描中形成的邊緣圖案60為邊緣的面狀圖案64。第4次掃描中紫外光源25 (圖5B)也為關(guān)閉狀態(tài)。因此面狀圖案64仍保持未固化狀態(tài)。
[0087]因?yàn)樵诘?次掃描中形成的面狀圖案62和在第4次掃描中形成的面狀圖案64均為未固化狀態(tài),因此薄膜材料在這兩者的分界線附近相互混合。因此,單位掃描區(qū)域56的分界線63,變成幾乎無(wú)法辨認(rèn)的狀態(tài)。
[0088]圖41中表示第5次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。圖4J中表示在圖41的單點(diǎn)劃線4J-4J的剖視圖。圖5C中表示在圖41的單點(diǎn)劃線5C-5C的剖視圖。第4次掃描之后,通過使基板50向Y軸的負(fù)方向移動(dòng),來進(jìn)行第5次掃描。第5次掃描中,并不從噴嘴頭24 (圖5C)吐出薄膜材料的液滴,僅經(jīng)由紫外光源25進(jìn)行紫外線的照射。未固化狀態(tài)的面狀圖案64通過紫外線照射臨時(shí)固化。圖41中,對(duì)臨時(shí)固化的區(qū)域加上稠密的陰影線,對(duì)未固化區(qū)域加上稀疏的陰影線。在之后表示的其他附圖中也相同。
[0089]圖4K中表示第6次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。圖4L中表示在圖4K的單點(diǎn)劃線4L-4L的剖視圖。第5次掃描之后,使基板50向X軸的負(fù)方向僅移動(dòng)與單位掃描區(qū)域56 (圖3)的寬度W相等的距離。通過在該狀態(tài)下使基板50向Y軸的正方向移動(dòng)來進(jìn)行第6次掃描。第6次掃描中也不從噴嘴頭24 (圖5C)吐出薄膜材料的液滴,僅經(jīng)由紫外光源25進(jìn)行紫外線的照射。未固化狀態(tài)的面狀圖案62通過紫外線照射進(jìn)行臨時(shí)固化。
[0090]參考圖6A及圖6B對(duì)實(shí)施例1的薄膜形成方法的效果進(jìn)行說明。圖6A及圖6B中,分別表示利用比較例及實(shí)施例1的方法形成的薄膜圖案的剖視圖。
[0091]圖6A中表示的比較例中,不區(qū)分薄膜圖案55 (圖3)的邊緣和內(nèi)部而形成薄膜圖案。在掃描基板50時(shí),事先打開紫外光源25 (圖2A、圖2B),薄膜材料著落之后立即使薄膜材料臨時(shí)固化。如圖2A及圖2B所示,紫外光源25配置于噴嘴頭24之間。因此,從I個(gè)噴嘴頭24吐出的薄膜材料的液滴著落于基板50之后,在從下一個(gè)噴嘴頭24吐出的薄膜材料的液滴著落于基板50之前,先著落的薄膜材料臨時(shí)固化。
[0092]因此,從噴嘴孔24a (圖2A、圖2B)吐出的薄膜材料的液滴55a之間以能夠區(qū)分的狀態(tài)相互重疊。在薄膜圖案55的表面與各個(gè)液滴55a對(duì)應(yīng)地形成凹凸。該凹凸可視為在Y方向延伸的帶狀圖案。
[0093]如圖6B所示,實(shí)施例1的方法中,在薄膜圖案55的邊緣形成邊緣圖案60、61,且在薄膜圖案55的內(nèi)部形成面狀圖案62、64。構(gòu)成邊緣圖案60、61的薄膜材料與圖6A的情況相同,液滴55a以能夠區(qū)分的狀態(tài)相互重疊。也就是說,在著落于基板50且已臨時(shí)固化的薄膜材料上,以部分重疊的方式著落其他液滴,且形成臨時(shí)固化。因此,可得到高于通過I個(gè)液滴臨時(shí)固化而形成的薄膜材料的高度的邊緣圖案60、61。但是,面狀圖案62、64為薄膜材料的多個(gè)液滴向基板面內(nèi)方向擴(kuò)散且成為大致均勻的厚度的膜(圖4G)之后,臨時(shí)固化(圖41、圖4K)而形成。因此,面狀圖案62、64的表面變得大致平坦。
[0094]為了使面狀圖案62、64的表面平坦,優(yōu)選在圖4E的步驟中,著落于基板的薄膜材料向基板面內(nèi)方向擴(kuò)散,且著落于多個(gè)著落點(diǎn)的薄膜材料連續(xù),變得無(wú)法區(qū)分相互鄰接的著落點(diǎn)之后,在圖4K的步驟中,使面狀圖案62的薄膜材料固化。
[0095]實(shí)施例1中,如圖4A、圖4B所示,通過I次單程掃描,在相當(dāng)于I個(gè)單位掃描區(qū)域56 (圖3)內(nèi)的薄膜圖案55的邊緣的區(qū)域形成邊緣圖案60、61。在X方向僅偏離相當(dāng)于間距P (圖2B)的1/2的距離,且通過來回掃描,能夠?qū)方向上的分辨率提高至2倍。
[0096]在形成圖4E中表示的面狀圖案62的步驟,及形成圖4G中表示的面狀圖案64的步驟中,無(wú)需使薄膜材料的液滴著落于定義薄膜圖案55的光柵格式的圖像數(shù)據(jù)的滿布區(qū)域內(nèi)的所有像素。作為一例,像素的排列間距約為10 μ m,通過著落于I個(gè)像素的液滴形成直徑約為50μπι的圓形圖案。因此,可間隔滿布區(qū)域內(nèi)的像素來提取著落點(diǎn)。也就是說,可使形成面狀圖案62、64時(shí)的著落點(diǎn)的分布密度低于形成邊緣圖案60、61時(shí)的著落點(diǎn)的分布密度。另外,也可進(jìn)一步降低形成面狀圖案62、64時(shí)的著落點(diǎn)的分布密度,且也可加大每I次吐出自噴嘴孔24a (圖2A)的液滴體積。通過加大液滴體積,即使降低著落點(diǎn)的分布密度也能夠?qū)⒚鏍顖D案62、64設(shè)為所希望的厚度。
[0097][實(shí)施例2]
[0098]接著,參考圖7A?圖7E,對(duì)實(shí)施例2的薄膜形成方法進(jìn)行說明。以下,對(duì)與實(shí)施例1的不同點(diǎn)進(jìn)行說明,對(duì)相同結(jié)構(gòu)將省略說明。通過第I次掃描,形成實(shí)施例1的圖4A中表示的邊緣圖案60。
[0099]圖7A中表示第2次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。第I次掃描之后,通過使基板50向Y軸的正方向移動(dòng),來進(jìn)行第2次掃描。第2次掃描中,在與形成有邊緣圖案60的單位掃描區(qū)域56 (圖3)相同的單位掃描區(qū)域56內(nèi),形成未固化的面狀圖案64。
[0100]圖7B中表示第3次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。第2次掃描之后,通過使基板50不向X方向偏離而向Y軸的負(fù)方向移動(dòng),來進(jìn)行第3次掃描。第3次掃描中,不從噴嘴單元23吐出薄膜材料的液滴,僅進(jìn)行來自紫外光源25 (圖2A、圖2B)的紫外線的照射。由此,面狀圖案64被臨時(shí)固化。
[0101]圖7C中表示第4次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。第3次掃描之后,使基板50向X軸的負(fù)方向僅偏離與單位掃描區(qū)域56 (圖3)的寬度W相等的距離。之后,通過使基板50向Y軸的正方向移動(dòng)來進(jìn)行第4次掃描。第4次掃描中,在與第I次至第3次掃描中形成有邊緣圖案60、面狀圖案64的單位掃描區(qū)域56 (圖3)鄰接的單位掃描區(qū)域56內(nèi),形成與薄膜圖案55的邊緣對(duì)應(yīng)的邊緣圖案61。邊緣圖案61在第4次掃描期間臨時(shí)固化。
[0102]如圖7D所示,通過進(jìn)行第5次掃描,形成未固化的面狀圖案62。如圖7E所示,通過進(jìn)行第6次掃描使面狀圖案62臨時(shí)固化。圖7D及圖7E的步驟與圖7A及圖7B中表示的形成面狀圖案64的步驟相同。
[0103]實(shí)施例1中,在相當(dāng)于薄膜圖案55 (圖3)的邊緣的部分形成邊緣圖案60、61之后(圖4A?圖4D),形成面狀圖案62、64 (圖4E?圖4L)。實(shí)施例2中,在形成I個(gè)單位掃描區(qū)域56 (圖3)內(nèi)的邊緣圖案及面狀圖案之后,形成旁側(cè)的單位掃描區(qū)域56內(nèi)的邊緣圖案及面狀圖案。實(shí)施例2中也與實(shí)施例1的情況相同,面狀圖案62、64的表面變得平坦。
[0104]實(shí)施例2中,使面狀圖案64 (圖7B)臨時(shí)固化之后,形成旁側(cè)的單位掃描區(qū)域56內(nèi)的面狀圖案62 (圖7D)。因此,與實(shí)施例1相比,變得易觀察單位掃描區(qū)域56的分界線63 (圖7E)。但是,并不能觀察到與噴嘴孔24a的個(gè)數(shù)對(duì)應(yīng)的大量的帶狀圖案。
[0105][實(shí)施例3]
[0106]參考圖8A?圖8D,對(duì)實(shí)施例3的薄膜形成方法進(jìn)行說明。以下,對(duì)與實(shí)施例2的不同點(diǎn)進(jìn)行說明,對(duì)相同結(jié)構(gòu)將省略說明。實(shí)施例2中使用的薄膜形成裝置的噴嘴單元23(圖2A)包括4個(gè)噴嘴頭24。實(shí)施例3中使用的薄膜形成裝置的噴嘴單元23,包括8個(gè)噴嘴頭24。
[0107]圖8A中表示第I次掃描前后的基板50的俯視圖及噴嘴單元23。噴嘴單元23由2個(gè)子單元23A、23B構(gòu)成。子單元23A、23B各自的結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1的噴嘴單元23 (圖2A)的結(jié)構(gòu)相同。子單元23A、23B在Y方向相互隔開一定間隔而配置。子單元23A配置于比子單元23B更靠Y軸正側(cè)。
[0108]通過使基板50向Y軸的負(fù)方向移動(dòng)來進(jìn)行第I次掃描。第I次掃描中,利用子單元23A形成邊緣圖案60。事先打開子單元23A的紫外光源25。因此,所形成的邊緣圖案60變成臨時(shí)固化狀態(tài)。
[0109]在第I次掃描期間,進(jìn)一步利用子單元23B來形成面狀圖案64。事先關(guān)閉子單元23B的紫外光源25。因此,所形成的面狀圖案64為未固化狀態(tài)。在邊緣圖案60臨時(shí)固化之后,從子單元23B吐出用于形成面狀圖案64的薄膜材料。由于邊緣圖案60阻擋從子單元23B吐出的薄膜材料,因此薄膜材料不會(huì)浸入開口部?jī)?nèi)。
[0110]圖8B中表示第2次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。第I次掃描之后,通過使基板50不在X方向偏離而向Y軸的正方向移動(dòng),來進(jìn)行第2次掃描。第2次掃描中,事先打開子單元23A、23B中的至少其中一個(gè)的紫外光源25。由此,面狀圖案64被臨時(shí)固化。
[0111]如圖8C所示,第2次掃描之后,使基板50向X軸的負(fù)方向僅移動(dòng)與單位掃描區(qū)域56 (圖3)的寬度W相等的距離。通過在該狀態(tài)下進(jìn)行第3次掃描,來形成已臨時(shí)固化的邊緣圖案61及未固化的面狀圖案62。第3次掃描與圖8A中表示的第I次掃描相同。
[0112]如圖8D所示,與圖8B中表示的第2次掃描相同地進(jìn)行第4次掃描。通過第4次掃描,面狀圖案62被臨時(shí)固化。
[0113]實(shí)施例2中,通過3次掃描在I個(gè)單位掃描區(qū)域56 (圖3)內(nèi)形成薄膜圖案。實(shí)施例3中,通過2次掃描,能夠在I個(gè)單位掃描區(qū)域56 (圖3)內(nèi)形成薄膜圖案。
[0114][實(shí)施例4]
[0115]參考圖9及圖1OA?圖10C,對(duì)實(shí)施例4的薄膜形成方法進(jìn)行說明。以下,對(duì)與實(shí)施例3的不同點(diǎn)進(jìn)行說明,對(duì)相同結(jié)構(gòu)將省略說明。
[0116]圖9中表示實(shí)施例4的薄膜形成裝置的噴嘴單元23的俯視圖。噴嘴單元23包括2個(gè)子單元23A、23B。各個(gè)子單元23A、23B安裝于相同的噴嘴座26,具有與實(shí)施例1的噴嘴單元23 (圖2A、圖2B)相同的結(jié)構(gòu)。也就是說,各個(gè)子單元23A、23B包括4個(gè)噴嘴頭24和5個(gè)紫外光源25。2個(gè)子單元23A、23B在X方向上配置于相同位置。子單元23A配置于比子單元23B更靠Y軸正側(cè)。
[0117]而且,實(shí)施例4的噴嘴單元23具有2個(gè)滿布區(qū)域用紫外光源70。各個(gè)滿布區(qū)域用紫外光源70在X方向上具有較長(zhǎng)的形狀,相對(duì)于子單元23A、23B固定于向X軸的負(fù)方向僅偏離與單位掃描區(qū)域56 (圖3)的寬度W的1/2相等的距離的位置。在Y方向上,2個(gè)滿布區(qū)域用紫外光源70以隔著2個(gè)子單元23A、23B的方式而配置。
[0118]圖1OA中表示第I次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。子單元23A、23B在X方向上配置在對(duì)應(yīng)于最負(fù)側(cè)的單位掃描區(qū)域56的位置。通過使基板50向Y軸的負(fù)方向移動(dòng)來進(jìn)行第I次掃描。
[0119]在第I次掃描中,使子單元23A的噴嘴頭24及紫外光源25動(dòng)作來形成邊緣圖案60。同時(shí),使子單元23B的噴嘴頭24動(dòng)作,來形成面狀圖案64。而且,通過打開在Y軸的負(fù)側(cè)上配置的滿布區(qū)域用紫外光源70來使面狀圖案64中X方向負(fù)側(cè)的一半?yún)^(qū)域臨時(shí)固化。從子單元23B的噴嘴頭24吐出的薄膜材料的液滴,通過滿布區(qū)域用紫外光源70被臨時(shí)固化為止的時(shí)間,比附著于基板的薄膜材料的液滴向面內(nèi)方向擴(kuò)散且面狀圖案64成為均勻的膜厚所需的時(shí)間長(zhǎng)。因此,面狀圖案64中已臨時(shí)固化的部分的表面變得大致平坦。從薄膜材料的附著至臨時(shí)固化為止的時(shí)間,能夠通過調(diào)節(jié)子單元23B與Y方向負(fù)側(cè)的滿布區(qū)域用紫外光源70的間隔來進(jìn)行控制。
[0120]圖1OB中表示第2次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。第I次掃描之后,使基板50向X軸的負(fù)方向,僅移動(dòng)與單位掃描區(qū)域56的寬度W相等的距離。通過在該狀態(tài)下使基板50向Y軸的正方向移動(dòng)來進(jìn)行第2次掃描。第2次掃描中,使子單元23B的噴嘴頭24及紫外光源25動(dòng)作來形成邊緣圖案61。使子單元23A的噴嘴頭24動(dòng)作來形成面狀圖案62。而且,通過打開配置于Y方向正側(cè)的滿布區(qū)域用紫外光源70,使面狀圖案64的未固化部分及面狀圖案62的X方向負(fù)側(cè)的一部分臨時(shí)固化。
[0121]圖1OC中表示第3次掃描前后的基板50及噴嘴單元23的俯視圖。第2次掃描之后,使基板50向X軸的負(fù)方向,僅移動(dòng)與單位掃描區(qū)域56的寬度W相等的距離。通過在該狀態(tài)下使基板50向Y軸的負(fù)方向移動(dòng),來進(jìn)行第3次掃描。第3次掃描以與第I次掃描相同的順序進(jìn)行。由此,相對(duì)于第2次掃描中形成薄膜圖案的單位掃描區(qū)域56,在X方向正側(cè)鄰接的單位掃描區(qū)域56內(nèi),形成邊緣圖案65及面狀圖案66。此時(shí),通過來自滿布區(qū)域用紫外光源70的紫外線,使面狀圖案62的未固化部分臨時(shí)固化,并且使面狀圖案66的X方向負(fù)側(cè)的一部分臨時(shí)固化。通過反復(fù)進(jìn)行相同的掃描,能夠在基板50的整個(gè)區(qū)域形成薄膜圖案。
[0122]實(shí)施例4中,以I次掃描進(jìn)行邊緣圖案的形成、面狀圖案的形成及面狀圖案的一部分的臨時(shí)固化。因此,與實(shí)施例3相比,能夠以較少的掃描次數(shù)形成薄膜圖案。
[0123]實(shí)施例4中,當(dāng)僅著眼于薄膜圖案55 (圖3)的內(nèi)部區(qū)域(滿布區(qū)域)時(shí),則依次執(zhí)行如下步驟。
[0124]首先,使基板50在Y方向移動(dòng)的同時(shí),使薄膜材料的液滴在X方向上,著落于第I寬度W的第I單位掃描區(qū)域56內(nèi)(圖10A)。由此,在第I單位掃描區(qū)域56內(nèi)形成面狀圖案64。該掃描期間,使附著于第I單位掃描區(qū)域56內(nèi)的X方向負(fù)側(cè)的一部分的薄膜材料臨時(shí)固化。
[0125]之后,使基板50在Y方向移動(dòng)的同時(shí),使薄膜材料的液滴著落于與第I單位掃描區(qū)域的X方向正側(cè)鄰接的第2單位掃描區(qū)域56內(nèi)(圖10B)。由此,在第2單位掃描區(qū)域56內(nèi)形成面狀圖案62。該掃描期間,使附著于第I單位掃描區(qū)域56內(nèi)的X方向正側(cè)的未固化部分及第2單位掃描區(qū)域56內(nèi)的X方向負(fù)側(cè)的一部分的薄膜材料臨時(shí)固化。
[0126]如上所述,在I次掃描中,僅使面狀圖案64、62的一部分臨時(shí)固化。通過同一掃描,使薄膜材料附著成已臨時(shí)固化的區(qū)域和未固化狀態(tài)殘留的區(qū)域,因此能夠使這兩者的分界線不明顯。另外,圖1OB中,在用于形成面狀圖案62的薄膜材料附著于基板50的階段中,不使面狀圖案64的X方向正側(cè)的區(qū)域臨時(shí)固化。因此,在面狀圖案64與面狀圖案62的分界線附近,薄膜材料相互混合。因此,能夠使面狀圖案62與面狀圖案64的分界線不明顯。
[0127][實(shí)施例5]
[0128]參考圖11?圖17B,對(duì)實(shí)施例5的薄膜形成方法進(jìn)行說明。以下,對(duì)與實(shí)施例1的不同點(diǎn)進(jìn)行說明,對(duì)相同結(jié)構(gòu)省略說明。在對(duì)實(shí)施例5進(jìn)行說明之前,對(duì)評(píng)估試驗(yàn)進(jìn)行說明。
[0129]圖11中表示評(píng)估試驗(yàn)中使用的噴嘴單元的仰視圖。該噴嘴單元23R包括噴嘴頭24、光源25及支承噴嘴頭和光源的噴嘴座(支承機(jī)構(gòu))26。噴嘴頭24上設(shè)置有排列規(guī)則且吐出阻焊劑的多個(gè)噴嘴孔24a。各個(gè)噴嘴孔24a例如包括壓電元件而構(gòu)成,根據(jù)電壓脈沖的施加吐出阻焊劑。來自噴嘴孔24a的阻焊劑的吐出是通過控制裝置40控制。光源25沿噴嘴孔24a的排列方向配置于其兩側(cè)。以L表示光源25與噴嘴孔24a的間隔。光源25對(duì)從噴嘴孔24a吐出而附著于基板的阻焊劑進(jìn)行光固化。光源25中具備使射出的光成為平行光的光學(xué)系統(tǒng)。另外,相對(duì)于噴嘴頭24配置于Y軸的正側(cè)的光源25,基板在向Y軸正方向掃描時(shí),對(duì)附著于基板50 (圖1)的阻焊劑進(jìn)行光固化。相對(duì)噴嘴頭24配置于Y軸的負(fù)側(cè)的光源25,基板50在向Y軸的負(fù)方向掃描時(shí),對(duì)附著于基板的阻焊劑進(jìn)行光固化。因此,光源25可根據(jù)基板的掃描方法,僅配置于噴嘴孔24a的排列的單側(cè)。
[0130]圖12中表示掃描基板50時(shí)的側(cè)視圖??刂蒲b置40 (圖1)相對(duì)于噴嘴單元23R例如向Y軸的負(fù)方向以恒定的輸送速度移動(dòng)基板50。而且,控制裝置40根據(jù)預(yù)先儲(chǔ)存的圖像數(shù)據(jù)以預(yù)定周期對(duì)噴嘴孔24a施加電壓脈沖,使阻焊劑從噴嘴孔24a吐出。噴嘴孔24a通過在時(shí)刻Tl開始的電壓脈沖的施加朝向噴嘴孔24a的垂直下方的基板50的表面吐出阻焊齊U。從噴嘴孔24a吐出的阻焊劑的液滴,在著落于基板50之后,逐漸向基板50的面內(nèi)方向擴(kuò)散。附著于基板50并向面內(nèi)方向擴(kuò)散的阻焊劑,伴隨基板50的移動(dòng)向Y軸的負(fù)方向移動(dòng)。在移動(dòng)至與噴嘴孔24a僅遠(yuǎn)離間隔L的光源25的垂直下方的時(shí)刻T2,阻焊劑通過來自光源25的光照射固化。反復(fù)進(jìn)行該吐出及固化的步驟,在基板50的表面形成由阻焊劑構(gòu)成的薄膜圖案。
[0131]圖13A中表不應(yīng)形成于基板50的薄膜圖案的俯視圖。應(yīng)形成于基板50的薄膜圖案,包括成膜阻焊劑的絕緣區(qū)域51及不成膜阻焊劑的焊盤區(qū)域52。并且,包括焊盤區(qū)域52密集的微細(xì)區(qū)域50a及絕緣區(qū)域51覆蓋整面的滿布區(qū)域50b。另外,圖中,在絕緣區(qū)域51附加有陰影線??刂蒲b置40 (圖1)根據(jù)薄膜圖案的圖像數(shù)據(jù),使基板50相對(duì)于噴嘴單元23R移動(dòng)的同時(shí),使阻焊劑從噴嘴孔24a吐出。使附著于基板50的阻焊劑,通過來自光源25的光照射固化,形成由阻焊劑構(gòu)成的薄膜圖案。從噴嘴孔24a吐出的阻焊劑的液滴在著落于基板50之后,逐漸向基板50的面內(nèi)方向擴(kuò)散。通過來自光源25的光照射,使阻焊劑固化來保持其形狀。
[0132]圖13B及圖13C中表示在圖13A的箭頭線13-13的剖視圖。當(dāng)噴嘴單元23R的噴嘴孔24a與光源25的間隔L (圖11)較小時(shí),著落于基板50的阻焊劑在相對(duì)較早的時(shí)間點(diǎn)光固化。著落于基板50的阻焊劑在大幅擴(kuò)散之前固化,因此如圖13B的微細(xì)區(qū)域50a所示,能夠?qū)?yīng)微細(xì)的薄膜圖案的形成。另一方面,稍微殘留液滴的形狀,如圖13B的滿布區(qū)域50b所示,所形成的薄膜圖案的膜厚變得不均勻(表面出現(xiàn)凹凸)。另外,當(dāng)噴嘴孔24a與光源25的間隔L較大時(shí),著落于基板50的阻焊劑在相對(duì)于較晚的時(shí)間點(diǎn)固化。著落于基板50的阻焊劑在大幅擴(kuò)散之后固化,因此如圖13C的微細(xì)區(qū)域50a所示,焊盤區(qū)域52被阻焊劑覆蓋,無(wú)法對(duì)應(yīng)微細(xì)的薄膜圖案的形成。另一方面,如圖13C的滿布區(qū)域50b所示,所形成的薄膜圖案的膜厚變得均勻(表面變得平坦)。
[0133]在微細(xì)區(qū)域50a形成薄膜圖案時(shí),優(yōu)選使著落于基板50的阻焊劑在相對(duì)較早的時(shí)間點(diǎn)固化,來提高薄膜圖案的位置精確度。在滿布區(qū)域50b形成薄膜圖案時(shí),優(yōu)選在外觀角度來看,使著落于基板50的阻焊劑在相對(duì)較晚的時(shí)間點(diǎn)固化,來使薄膜圖案的膜厚變得均勻。[0134]圖14中表示實(shí)施例5的噴嘴單元的仰視圖。實(shí)施例5的噴嘴單元23包括噴嘴頭
24、光源25a、25b及支承噴嘴頭及光源的噴嘴座(支承機(jī)構(gòu))26。噴嘴頭24上設(shè)置有排列規(guī)則的多個(gè)噴嘴孔24a。例如,噴嘴孔24a的開口直徑約為30 μ m,各噴嘴孔24a的間距約為SOym0光源25a及25b沿噴嘴孔24a的排列配置于其兩側(cè)。以LI表示光源25a與噴嘴孔24a的間隔。光源25b與噴嘴孔24a的間隔L2大于間隔LI。例如,噴嘴孔24a與光源25a的間隔LI約為0.3mm,噴嘴孔24a與光源25b的間隔L2約為1.0mm。光源25a、25b中具備使射出的光成為平行光的光學(xué)系統(tǒng)。來自噴嘴孔24a的阻焊劑的吐出及光源25a、25b的開/關(guān)是通過控制裝置40來控制。另外,相對(duì)噴嘴頭24配置于Y軸的正側(cè)的光源25a、25b在基板50 (圖1)向Y軸的正方向移動(dòng)時(shí),使附著于基板50的阻焊劑固化。相對(duì)噴嘴頭24配置于Y軸的正側(cè)的光源25a、25b在基板50向Y軸的負(fù)方向移動(dòng)時(shí),使附著于基板50的阻焊劑固化。因此,光源25a、25b可根據(jù)基板50的掃描方法僅配置于噴嘴孔24a的排列的單側(cè)。
[0135]圖15A及圖15B中表示利用實(shí)施例5的方法形成薄膜圖案時(shí)的噴嘴單元23及基板50的側(cè)視圖??刂蒲b置40 (圖1)相對(duì)噴嘴單元23例如向Y軸的負(fù)方向以恒定輸送速度移動(dòng)基板50??刂蒲b置40根據(jù)薄膜圖案的圖像數(shù)據(jù)以預(yù)定周期對(duì)噴嘴孔24a施加電壓脈沖,使阻焊劑從噴嘴孔24a吐出。例如,基板50的輸送速度約為300mm/s,噴嘴頭24吐出阻焊劑的頻率約為30kHz。另外,從基板50至噴嘴頭24的高度為0.5mm?Imm左右,至光源25a、25b的高度為20mm?30mm左右。當(dāng)阻焊劑著落的區(qū)域?yàn)槲⒓?xì)區(qū)域50a(圖13A)時(shí),如圖15A所示控制裝置40通過來自配置于距噴嘴孔24a相對(duì)較近的位置的光源25a的光照射固化阻焊劑。例如,著落于微細(xì)區(qū)域50a的阻焊劑,在著落于基板50之后約經(jīng)過0.1s之后固化。當(dāng)阻焊劑著落的區(qū)域?yàn)闈M布區(qū)域50b (圖13A)時(shí),如圖15B所示,通過來自配置于距噴嘴孔24a相對(duì)較遠(yuǎn)的位置的光源25b的光照射,固化阻焊劑。例如,著落于滿布區(qū)域50b的阻焊劑,在著落于基板50之后約經(jīng)過0.3s之后固化。
[0136]圖16A中表示形成于基板50的薄膜圖案的俯視圖,圖16B中表示在圖16A的箭頭線16B-16B的剖視圖。應(yīng)描繪于基板50的薄膜圖案包括焊盤區(qū)域52密集的微細(xì)區(qū)域50a及絕緣區(qū)域51覆蓋整面的滿布區(qū)域50b。圖16A中,在絕緣區(qū)域51附加有陰影線。實(shí)施例5中,控制裝置40 (圖1)中預(yù)先儲(chǔ)存有應(yīng)形成的薄膜圖案的微細(xì)區(qū)域50a及滿布區(qū)域50b的區(qū)劃信息。例如,微細(xì)區(qū)域50a與實(shí)際安裝具有BGA(Ball Grid Array)等封裝的集成電路元件(IC、LSI)的區(qū)域?qū)?yīng)。另外,滿布區(qū)域50b與實(shí)際安裝離散元件的區(qū)域或整面被阻焊劑的薄膜圖案覆蓋的區(qū)域?qū)?yīng)??刂蒲b置40(圖1)根據(jù)薄膜圖案的圖像數(shù)據(jù),使基板50相對(duì)噴嘴單元23移動(dòng)的同時(shí),使阻焊劑從噴嘴孔24a吐出。而且,根據(jù)微細(xì)區(qū)域50a及滿布區(qū)域50b的區(qū)劃信息,附著于微細(xì)區(qū)域50a的阻焊劑,通過來自光源25a的光照射固化,附著于滿布區(qū)域50b的阻焊劑,通過來自光源25b的光照射固化。如圖16B所示,通過這種薄膜圖案形成操作,能夠在基板50的微細(xì)區(qū)域50a提高薄膜圖案的邊緣的位置精確度,并在滿布區(qū)域50b使所形成的薄膜圖案的膜厚變得均勻。另外,可使控制裝置40根據(jù)薄膜圖案的圖像數(shù)據(jù),基于絕緣區(qū)域51及焊盤區(qū)域52的尺寸及它們的密集度,自動(dòng)設(shè)定微細(xì)區(qū)域50a及滿布區(qū)域50b。
[0137]圖17A及圖17B中表示實(shí)施例5的變形例的噴嘴單元及基板的俯視圖。如圖17A所示,設(shè)置于噴嘴單元23的光源不限于2個(gè),也可以是3個(gè)以上,也可具備能夠改變配置位置的機(jī)構(gòu)。另外,可由沿著噴嘴孔的排列而排列的多個(gè)發(fā)光二級(jí)管(LED)構(gòu)成光源。多個(gè)LED能夠通過控制裝置分別獨(dú)立的進(jìn)行開/關(guān)控制。通過這種結(jié)構(gòu),將被I個(gè)LED照射的區(qū)域作為單位區(qū)域,能夠在X軸方向上更精密地配置微細(xì)區(qū)域50a和滿布區(qū)域50b。另外,光源可與噴嘴單元23分離而例如安裝于薄膜形成裝置的框架。安裝于框架的光源可具備有能夠改變配置位置的機(jī)構(gòu)。
[0138]而且,如圖17B所示,設(shè)置于噴嘴單元23的噴嘴頭24可以是噴嘴孔24a配置成穿插狀(曲折形)的結(jié)構(gòu)。多個(gè)噴嘴孔24a例如構(gòu)成在Y軸方向隔開的2列噴嘴列241、24J。構(gòu)成各噴嘴列241、24J的噴嘴孔24a在X軸方向上以間距8P配置。構(gòu)成其中一列噴嘴列241的噴嘴孔24a相對(duì)構(gòu)成另一列噴嘴列24J的噴嘴孔24a,在X軸方向上僅偏離4P而配置。通過將噴嘴頭24設(shè)為這種結(jié)構(gòu),能夠不受到對(duì)噴嘴孔24a供給阻焊劑的供給機(jī)構(gòu)或壓電元件的尺寸或配置等的限制,而輕易提高X軸方向的分辨率。
[0139][實(shí)施例6]
[0140]參考圖18A?圖20B,對(duì)實(shí)施例6的薄膜形成方法進(jìn)行說明。以下對(duì)與實(shí)施例5的不同點(diǎn)進(jìn)行說明,對(duì)相同結(jié)構(gòu)省略說明。
[0141]圖18A?圖18C中表示實(shí)施例6的薄膜形成裝置的噴嘴單元23及基板50的側(cè)視圖。實(shí)施例6的薄膜形成裝置的噴嘴單元23包括噴嘴頭24、光源25及能夠使光源25在與X軸方向平行的旋轉(zhuǎn)軸的周圍旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)27。旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)27能夠通過旋轉(zhuǎn)光源25,在Y軸方向移動(dòng)從光源25射出的光在基板50的表面的照射位置。光源25基于旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)27的旋轉(zhuǎn)通過控制裝置40控制。
[0142]控制裝置40相對(duì)噴嘴單元23例如向Y軸負(fù)方向以恒定輸送速度移動(dòng)基板50。控制裝置40根據(jù)所儲(chǔ)存的圖像數(shù)據(jù)以預(yù)定周期對(duì)噴嘴孔24a施加電壓脈沖,使阻焊劑從噴嘴孔24a吐出。例如,基板50的輸送速度約為300mm/s,噴嘴頭24吐出阻焊劑的頻率約為30kHz。另外,從基板50至噴嘴頭24的高度為0.5mm?Imm左右,至光源25的高度為20mm?30mm左右。
[0143]如圖18A所示,當(dāng)阻焊劑著落的區(qū)域?yàn)槲⒓?xì)區(qū)域50a (圖16A)時(shí),控制裝置40控制旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)27從而達(dá)到例如在比光源25的垂直下方位置更靠近噴嘴孔24a的位置使附著于基板50的阻焊劑光固化。例如,著落于微細(xì)區(qū)域50a的阻焊劑在著落于基板50之后,約經(jīng)過0.1s之后固化。另外,如圖18B所示,當(dāng)阻焊劑著落的區(qū)域?yàn)闈M布區(qū)域50b (圖16A)時(shí),控制旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)27從而達(dá)到例如在比光源25的垂直下方位置更遠(yuǎn)離噴嘴孔24a的位置以使附著于基板50的阻焊劑固化。例如,著落于滿布區(qū)域50b的阻焊劑在著落于基板50之后約經(jīng)過0.3s之后固化。
[0144]另外,使從光源25射出光線的向基板的照射位置移動(dòng)的機(jī)構(gòu)不限于旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。如圖18C所示,也可通過光學(xué)系統(tǒng)28移動(dòng)從光源25射出光線的向基板的照射位置。
[0145]圖19A中表示形成有薄膜圖案的基板50的俯視圖及噴嘴單元23。圖19B中表示在圖19A的箭頭線19B-19B的剖視圖。應(yīng)形成于基板50的薄膜圖案與實(shí)施例5相同,包括焊盤區(qū)域52密集的微細(xì)區(qū)域50a及以絕緣區(qū)域51覆蓋整面的滿布區(qū)域50b。圖19A中,在絕緣區(qū)域51附加有陰影線。
[0146]控制裝置40 (圖18A?圖18C)根據(jù)薄膜圖案的圖像數(shù)據(jù)使基板50相對(duì)噴嘴單元23移動(dòng)的同時(shí),使阻焊劑從噴嘴孔24a吐出??刂蒲b置40根據(jù)微細(xì)區(qū)域50a與滿布區(qū)域50b的區(qū)劃信息,控制旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)27。著落于微細(xì)區(qū)域50a的阻焊劑固化在相對(duì)靠近噴嘴孔24a的位置(圖18A)。著落于滿布區(qū)域50b的阻焊劑,固化在相對(duì)遠(yuǎn)離噴嘴孔24a的位置(圖 18B)。
[0147]如圖19B所示,通過這種薄膜形成操作,能夠在基板50的微細(xì)區(qū)域50a提高薄膜圖案的邊緣的位置精確度,并能夠在滿布區(qū)域50b使所形成的阻焊劑的薄膜圖案的膜厚變得均勻。
[0148]圖20中表示實(shí)施例6的變形例的噴嘴單元。如圖20所示,能夠使設(shè)置于噴嘴單元的光源25a至25c及從光源25a至25c射出的光線的對(duì)基板的照射位置移動(dòng)的照射位置移動(dòng)機(jī)構(gòu)不限于I個(gè),可以是2個(gè)以上,也可具備有能夠改變配置位置的機(jī)構(gòu)。例如,光源25a至25c由沿著噴嘴孔24a的排列而排列的多個(gè)發(fā)光二極管(LED)構(gòu)成。可包括能夠使從這些各個(gè)LED射出光線的向基板的照射位置移動(dòng)的多個(gè)照射位置移動(dòng)機(jī)構(gòu)。多個(gè)照射位置移動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠通過控制裝置40 (圖18A?圖18C)分別獨(dú)立地進(jìn)行控制。通過設(shè)為這種結(jié)構(gòu),將被I個(gè)LED照射的區(qū)域設(shè)為單位區(qū)域,能夠在X軸方向上更精密地配置微細(xì)區(qū)域50a和滿布區(qū)域50b。另外,光源25a至25c及照射位置移動(dòng)機(jī)構(gòu)可與噴嘴單元23分離而例如安裝于薄膜形成裝置的框架。另外,這些光源25a至25c及照射位置移動(dòng)機(jī)構(gòu)可具備有能夠改變其配置位置的機(jī)構(gòu)。
[0149][實(shí)施例7]
[0150]接著,參考圖21A?圖21D,對(duì)實(shí)施例7的薄膜形成方法進(jìn)行說明。以下,對(duì)與實(shí)施例I的不同點(diǎn)進(jìn)行說明,對(duì)相同結(jié)構(gòu)省略說明。
[0151]實(shí)施例1至實(shí)施例6中,在印刷配線板的表面形成了阻焊劑的薄膜圖案。實(shí)施例7中,形成增層基板的內(nèi)層的絕緣膜。
[0152]如圖21A所示,在核心基板80的表面形成由銅等構(gòu)成的第I配線圖案81。第I配線圖案81例如通過將由電鍍法成膜的導(dǎo)電膜形成圖案而形成。
[0153]如圖21B所示,在核心基板80及第I配線圖案81上形成絕緣膜(薄膜圖案)82。絕緣膜82的形成能夠應(yīng)用實(shí)施例1至實(shí)施例6的薄膜形成方法。絕緣膜82例如利用環(huán)氧樹脂。能夠通過從噴嘴單元23 (圖1等)吐出環(huán)氧樹脂的液滴來形成由環(huán)氧樹脂構(gòu)成的絕緣膜82。絕緣膜82上設(shè)置有多個(gè)通孔83。通孔83內(nèi)露出第I配線圖案81的一部分。通過應(yīng)用實(shí)施例1至實(shí)施例6的薄膜形成方法,不進(jìn)行微影術(shù)或蝕刻等處理就能夠在絕緣膜82形成通孔83。
[0154]如圖21C所示,在絕緣膜82上形成由銅等構(gòu)成的第2配線圖案84。第2配線圖案84的形成例如能夠應(yīng)用半加成法。第2配線圖案84經(jīng)由通孔83連接于第I配線圖案81。絕緣膜82的形成應(yīng)用實(shí)施例1至實(shí)施例6的薄膜形成方法,因此能夠使絕緣膜82的表面平坦。由于形成第2配線圖案84的底層表面平坦,因此第2配線圖案84的形成能夠應(yīng)用與以往相同的半加成法等。
[0155]如圖21D所示,在絕緣膜82及第2配線圖案84上形成絕緣膜85。絕緣膜85的形成能夠應(yīng)用實(shí)施例1至實(shí)施例6的薄膜形成方法。第2配線圖案84為最上層的配線圖案時(shí),絕緣膜85利用阻焊劑。當(dāng)在絕緣膜85上進(jìn)一步形成配線圖案時(shí),絕緣膜85利用環(huán)氧樹脂等。
[0156][實(shí)施例8][0157]圖22k中表示實(shí)施例8的薄膜形成裝置的噴嘴單元23的仰視圖。以下,對(duì)與實(shí)施例I的不同點(diǎn)進(jìn)行說明,對(duì)相同結(jié)構(gòu)省略說明。
[0158]實(shí)施例1中,多個(gè)噴嘴頭24在Y軸方向,也就是說基板50 (圖1)的掃描方向排列。實(shí)施例8中,多個(gè)(例如3個(gè))的噴嘴頭24在X軸方向,也就是說與掃描方向垂直的方向排列。噴嘴孔24a的排列方向與實(shí)施例1的情況相同,與X軸平行。在各個(gè)噴嘴頭24的兩側(cè)(Y軸的正側(cè)及負(fù)側(cè))分別配置有紫外光源25。
[0159]噴嘴頭24的間隔與單位掃描區(qū)域56 (圖3)的寬度W相等。通過在Y軸方向掃描I次基板50 (圖1),能夠使薄膜材料的液滴著落于在X方向隔開寬度W而配置的3個(gè)單位掃描區(qū)域56 (圖3)內(nèi)。通過在X軸方向上僅偏離寬度W并進(jìn)一步進(jìn)行Y軸方向的掃描,來使薄膜材料的液滴能夠著落于在X軸方向連續(xù)的6個(gè)單位掃描區(qū)域56內(nèi)。通過相對(duì)I個(gè)單位掃描區(qū)域56增加Y軸方向的掃描次數(shù),能夠提高X軸方向上的薄膜圖案的分辨率。
[0160]如圖22B所示,可在X軸方向及Y軸方向以行列狀配置噴嘴頭24。在Y軸方向排列的多個(gè)(例如4個(gè))噴嘴頭24與圖2A及圖2B中表示的實(shí)施例1的噴嘴頭24的配置相同。通過以行列狀配置噴嘴頭24,能夠減少形成薄膜圖案所需的掃描次數(shù)。
[0161][實(shí)施例9]
[0162]圖23中表示實(shí)施例9的薄膜形成裝置的噴嘴單元23的仰視圖。以下,對(duì)與實(shí)施例I的不同點(diǎn)進(jìn)行說明,對(duì)相同結(jié)構(gòu)省略說明。
[0163]實(shí)施例1中,雖然多個(gè)噴嘴頭24在Y軸方向排列,但是實(shí)施例9中多個(gè)(例如4個(gè))噴嘴頭24在X軸方向排列。4個(gè)噴嘴頭24作為整體,噴嘴孔24a在X軸方向以等間隔(圖2B中表示的間距4P)排列。在X軸方向上相互鄰接的噴嘴頭24之間也調(diào)整噴嘴頭24的X方向的相對(duì)位置,以便噴嘴孔的間距與噴嘴頭24內(nèi)的噴嘴孔的間距相等。為了該調(diào)整,在X軸方向上鄰接的噴嘴頭24彼此在Y軸方向上相互偏離配置。通過4個(gè)噴嘴頭24,能夠通過I次掃描,使薄膜材料的液滴著落于寬度4W的區(qū)域。
[0164]參考圖24A?圖24D,對(duì)形成邊緣圖案60的順序進(jìn)行說明。邊緣圖案60例如由以間距P排列的多個(gè)像素構(gòu)成。圖24A?圖24D中分別表示第I次至第4次掃描結(jié)束之后的邊緣圖案60。在圖24A?圖24D中,以黑圈記號(hào)表示著落有薄膜材料的像素,以空心圈記號(hào)表示未著落有薄膜材料的像素。
[0165]通過第I次掃描,在X軸方向上薄膜材料著落于每隔3個(gè)的像素。結(jié)束第I次掃描之后,將基板50 (圖1)相對(duì)噴嘴單元23在X軸方向僅偏離與間距P相等的距離,來進(jìn)行第2次掃描。相同地,通過進(jìn)行第3次及第4次掃描,能夠使薄膜材料著落于構(gòu)成邊緣圖案60的所有像素。形成邊緣圖案60之后,與實(shí)施例1相同地形成面狀圖案62、64 (圖4G?圖 4L)。
[0166]如實(shí)施例9所示,當(dāng)使多個(gè)噴嘴頭24在X軸方向(與掃描方向垂直的方向)排列時(shí),則能夠通過I次掃描著落薄膜材料的X軸方向的范圍,使其變寬。
[0167]以上,雖然根據(jù)以上實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了說明,但是本發(fā)明不限制于此。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)可理解能夠進(jìn)行例如各種變更、改良、組合等。
[0168]符號(hào)說明
[0169]20-平臺(tái),21-移動(dòng)機(jī)構(gòu),22-載物臺(tái),23、23R-噴嘴單元,24-噴嘴頭,24a-噴嘴孔,24U24J-噴嘴列,25、25a、25b-紫外光源,26-噴嘴座,27-旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),28-光學(xué)系統(tǒng),29-噴嘴單元支承機(jī)構(gòu),30-攝像裝置,31-支柱,32-梁,40-控制裝置,41-輸入裝置,42-輸出裝置,50-基板,50a-微細(xì)區(qū)域,50b-滿布區(qū)域,51-絕緣區(qū)域,52-焊盤區(qū)域,55-薄膜圖案,55a-液滴,56-單位掃描區(qū)域,60、61_邊緣圖案,62-面狀圖案,63-單位掃描區(qū)域的分界線,64-面狀圖案,65-邊緣圖案,66-面狀圖案,70-滿布區(qū)域用紫外光源,80-核心基板,81-第I配線圖案,82-絕緣膜,83-通孔,84-第2配線圖案,85-絕緣膜。
【權(quán)利要求】
1.一種薄膜形成方法,其中,具有: 通過反復(fù)進(jìn)行薄膜材料的液滴向基板的表面中形成薄膜圖案的區(qū)域的邊緣的著落與已著落的薄膜材料的固化,由此在形成所述薄膜圖案的區(qū)域的邊緣形成由薄膜材料構(gòu)成的邊緣圖案的步驟; 在通過所述邊緣圖案而劃定有邊緣的內(nèi)部區(qū)域著落薄膜材料的液滴的步驟;及 使著落于所述內(nèi)部區(qū)域的薄膜材料固化的步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜形成方法,其中, 在形成所述邊緣圖案的步驟中,使形成有吐出薄膜材料的多個(gè)噴嘴孔的噴嘴單元與所述基板中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè)移動(dòng)的同時(shí),通過使薄膜材料從所述噴嘴孔吐出,使薄膜材料的液滴著落于形成所述薄膜圖案的區(qū)域的邊緣。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜形成方法,其中, 所述薄膜材料是通過光照射固化的光固化性材料,在形成所述邊緣圖案的步驟中,通過將放射用于固化薄膜材料的光的光源與所述基板中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè)移動(dòng)來固化著落于所述基板的薄膜材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄膜形成方法,其中, 將使所述噴嘴單元與所述基板中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè)朝向一方向移動(dòng)的同時(shí),使薄膜材料從所述噴嘴孔吐出的處理設(shè)為I次掃描,在形成所述邊緣圖案的步驟中,對(duì)所述基板的I個(gè)區(qū)域進(jìn)行多次掃描。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的薄膜形成方法,其中, 所述多次掃描通過來回掃描來實(shí)現(xiàn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中任一項(xiàng)所述的薄膜形成方法,其中, 在形成所述邊緣圖案的步驟中,在所述掃描期間從所述光源向著落于所述基板的薄膜材料照射光, 使薄膜材料著落于所述內(nèi)部區(qū)域的步驟中,在掃描期間不照射光, 使薄膜材料著落于所述內(nèi)部區(qū)域的步驟的掃描結(jié)束之后,使所述光源與所述基板中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè)移動(dòng)的同時(shí),向著落于所述內(nèi)部區(qū)域的薄膜材料照射光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的薄膜形成方法,其中, 在形成所述邊緣圖案的步驟中,通過使薄膜材料的其他液滴以與著落于形成所述薄膜圖案的區(qū)域的邊緣且被固化的薄膜材料部分重疊的方式著落并固化,使所述邊緣圖案高于通過薄膜材料的I個(gè)液滴固化而形成的薄膜材料的高度。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的薄膜形成方法,其中, 在形成所述邊緣圖案的步驟中,通過使著落于所述基板的薄膜材料的表層部固化,而內(nèi)部為未固化狀態(tài),來形成所述邊緣圖案。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的薄膜形成方法,其中, 使薄膜材料著落于所述內(nèi)部區(qū)域時(shí)的著落點(diǎn)的分布密度低于形成所述邊緣圖案時(shí)使薄膜材料著落時(shí)的著落點(diǎn)的分布密度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的薄膜形成方法,其中, 使薄膜材料著落于所述內(nèi)部區(qū)域時(shí)的液滴體積大于形成所述邊緣圖案時(shí)的液滴體積。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的薄膜形成方法,其中,薄膜材料著落于所述內(nèi)部區(qū)域之后至該薄膜材料固化為止的時(shí)間比薄膜材料著落于形成所述薄膜圖案的區(qū)域的邊緣之后至該薄膜材料固化為止的時(shí)間長(zhǎng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的薄膜形成方法,其中, 通過與形成所述薄膜圖案的區(qū)域的邊緣交叉的假想分界線將所述基板的表面劃分為至少2個(gè)區(qū)域時(shí), 將形成所述邊緣圖案的步驟、使薄膜材料的液滴著落于所述內(nèi)部區(qū)域的步驟及使著落于所述內(nèi)部區(qū)域的薄膜材料固化的步驟,對(duì)所述假想分界線的一側(cè)的區(qū)域執(zhí)行之后,對(duì)所述假想分界線的另一側(cè)的區(qū)域執(zhí)行。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的薄膜形成方法,其中, 著落于所述內(nèi)部區(qū)域的薄膜材料向基板面內(nèi)方向擴(kuò)散,且著落于多個(gè)著落點(diǎn)的薄膜材料連續(xù),而變得無(wú)法區(qū)分相互鄰接的著落點(diǎn)之后,使著落于所述內(nèi)部區(qū)域的薄膜材料固化。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的薄膜形成方法,其中, 所述薄膜材料是光固化性材料, 使薄膜材料的液滴著落于所述內(nèi)部區(qū)域的步驟中,使薄膜材料的液滴著落于所述內(nèi)部區(qū)域中假想分界線中的一側(cè)之后,使薄膜材料的液滴著落于另一側(cè), 在使著落于所述內(nèi)部區(qū)域的薄膜材料固化的步驟中,沿著所述假想分界線移動(dòng)被光照射的區(qū)域的同時(shí),使所 述假想分界線兩側(cè)的薄膜材料固化。
15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的薄膜形成方法,其中, 在所述基板的表面形成有第I配線圖案, 在形成所述邊緣圖案的步驟、使薄膜材料的液滴著落于所述內(nèi)部區(qū)域的步驟,及使著落于所述內(nèi)部區(qū)域的薄膜材料固化的步驟中所形成的所述薄膜圖案覆蓋所述基板及所述第I配線圖案,并且包括露出所述第I配線圖案的一部分的多個(gè)通孔, 使著落于所述內(nèi)部區(qū)域的薄膜材料固化的步驟之后,進(jìn)一步具有在所述薄膜圖案上,形成透過所述通孔連接于所述第I配線圖案的第2配線圖案的步驟。
16.—種薄膜形成方法,其中,具有: Ca)使光固化性薄膜材料附著于基板的第I區(qū)域內(nèi)的應(yīng)形成薄膜的區(qū)域的步驟,其中所述基板的表面被劃分為包括應(yīng)形成的薄膜圖案的邊緣的所述第I區(qū)域及形成滿布薄膜的第2區(qū)域; (b)所述步驟a之后,對(duì)附著于所述基板的所述第I區(qū)域的所述薄膜材料照射光,來使所述薄膜材料固化的步驟; (c)使所述薄膜材料附著于所述第2區(qū)域內(nèi)的步驟;及 (d)所述步驟c之后,對(duì)附著于所述第2區(qū)域的所述薄膜材料照射光來使所述薄膜材料固化的步驟, 附著于所述第2區(qū)域之后至所述步驟d中光照射在薄膜材料為止的時(shí)間比附著于所述第I區(qū)域之后至所述步驟b中光照射在薄膜材料為止的時(shí)間長(zhǎng)。
17.一種薄膜形成裝置,其中,具有: 保持基板的載物臺(tái); 噴嘴單元,與保持于所述載物臺(tái)的基板相對(duì),且設(shè)置有對(duì)所述基板的表面吐出光固化性薄膜材料的液滴的多個(gè)噴嘴孔、及向附著于所述基板的薄膜材料照射固化用光的光源;移動(dòng)機(jī)構(gòu),使所述噴嘴單元與所述載物臺(tái)中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè),朝向與所述基板的表面平行的方向移動(dòng);及 控制裝置,儲(chǔ)存應(yīng)形成于所述基板的薄膜圖案的圖像數(shù)據(jù), 所述控制裝置根據(jù)所述圖像數(shù)據(jù)來控制所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述噴嘴單元及所述光源,使所述薄膜材料的液滴著落于所述薄膜圖案的邊緣,且來自所述光源的光照射到著落于所述邊緣的薄膜材料來形成邊緣圖案之后,使所述薄膜材料的液滴著落于形成所述薄膜圖案的區(qū)域的內(nèi)部,且來自所述光源的光照射到著落于形成所述薄膜的區(qū)域的內(nèi)部的所述薄膜材料。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的薄膜形成裝置,其中, 所述控制裝置使所述噴嘴單元與所述載物臺(tái)中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè)朝向第I方向移動(dòng)的同時(shí)使薄膜材料的液滴從所述噴嘴孔吐出, 所述光源向從由所述噴嘴孔吐出的所述薄膜材料的著落點(diǎn)沿所述第I方向偏離的位置照射光。
19.根據(jù)權(quán)利要求17或18所述的薄膜形成裝置,其中, 通過所述光源照射于所述薄膜材料的光的強(qiáng)度的大小是使著落于所述基板的薄膜材料至少表層部固化的大小。
20.根據(jù)權(quán)利要求17至19中任一項(xiàng)所述的薄膜形成裝置,其中, 所述控制裝置將使所述噴嘴單元與所述基板中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè)朝向一方向移動(dòng)的同時(shí),使薄膜材料從所述噴嘴孔吐出的處理作為I次掃描,通過對(duì)所述基板的I個(gè)區(qū)域進(jìn)行多次掃描,來形成所述邊緣圖案。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的薄膜形成裝置,其中, 所述控制裝置通過來回掃描實(shí)現(xiàn)多次掃描。
22.根據(jù)權(quán)利要求17至21中任一項(xiàng)所述的薄膜形成裝置,其中, 所述控制裝置以如下方式控制所述噴嘴單元,即,薄膜材料著落于所述內(nèi)部區(qū)域時(shí)的著落點(diǎn)的分布密度低于形成所述邊緣圖案時(shí)使薄膜材料著落時(shí)的著落點(diǎn)的分布密度。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的薄膜形成裝置,其中, 所述控制裝置以如下方式控制所述噴嘴單元,即,薄膜材料著落于所述內(nèi)部區(qū)域時(shí)的液滴體積大于形成所述邊緣圖案時(shí)的液滴體積。
24.根據(jù)權(quán)利要求18所述的薄膜形成裝置,其中, 所述噴嘴單元包括在所述第I方向排列的多個(gè)噴嘴頭,且各個(gè)所述噴嘴頭上設(shè)置有多個(gè)所述噴嘴孔,作為所述多個(gè)噴嘴頭整體,所述噴嘴孔在與所述第I方向垂直的方向上以等間隔排列, 所述光源分別配置在所述噴嘴頭之間以及配置在比配置于最外側(cè)的所述噴嘴頭更靠外側(cè)處。
25.根據(jù)權(quán)利要求17所述的薄膜形成裝置,其中, 在保持于所述載物臺(tái)的基板表面,定義XY直角座標(biāo)系時(shí), 所述噴嘴單元包括由在X方向排列的多個(gè)噴嘴孔構(gòu)成的噴嘴列, 所述光源包括邊緣固化用光源及滿布區(qū)域固化用光源, 所述邊緣固化用光源配置于所述噴嘴列的側(cè)邊,在X方向上,向附著有從所述噴嘴列吐出的液滴的區(qū)域照射光, 所述滿布區(qū)域固化用光源在X方向上向比被所述邊緣固化用光源照射的區(qū)域更靠X方向負(fù)側(cè)偏離的區(qū)域照射光。
26.一種薄膜形成裝置,其中,具備: 保持基板的載物臺(tái); 噴嘴單元,設(shè)置有多個(gè)噴嘴孔,所述多個(gè)噴嘴孔朝向保持于所述載物臺(tái)的基板,且吐出具有光固化性及絕緣性的液狀材料,并使該液狀材料附著于所述基板; 移動(dòng)機(jī)構(gòu),使所述載物臺(tái)及所述噴嘴單元中的一個(gè)相對(duì)于另一個(gè)朝向與所述基板的表面平行的Y方向移動(dòng); 第I光源,與所述多個(gè)噴嘴孔在Y方向分開配置,通過向附著于所述基板的液狀材料照射光,來使該液狀材料固化; 第2光源,從所述多個(gè)噴嘴孔在Y方向比所述第I光源更加遠(yuǎn)離配置,通過向附著于所述基板的液狀材料照射光,來使該液狀材料固化;及 控制裝置,儲(chǔ)存定義應(yīng)形成于所述基板的表面的薄膜圖案的圖像數(shù)據(jù),根據(jù)該圖像數(shù)據(jù),控制所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述噴嘴單元、所述第I及第2光源, 所述控制裝置以如下方式控制所述第I及第2光源,即,所述第I光源對(duì)附著于包括所述薄膜圖案的邊緣的第I區(qū)域的液狀材料進(jìn)行固化,所述第2光源對(duì)附著于滿布形成薄膜圖案的第2區(qū)域的液狀材料進(jìn)行固化。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的薄膜形成裝置,其中, 所述控制裝置儲(chǔ)存將所述薄膜圖案區(qū)劃為所述第I區(qū)域與第2區(qū)域的信息。
28.根據(jù)權(quán)利要求26或27所述的薄膜形成裝置,其中, 所述第I及第2光源是通過沿著所述多個(gè)噴嘴的排列而排列的多個(gè)發(fā)光二極管所構(gòu)成,該多個(gè)發(fā)光二極管各自能夠獨(dú)立地進(jìn)行開關(guān)控制。
【文檔編號(hào)】B05D3/06GK103688603SQ201280035149
【公開日】2014年3月26日 申請(qǐng)日期:2012年6月12日 優(yōu)先權(quán)日:2011年7月15日
【發(fā)明者】磯圭二, 岡本裕司, 市川英志 申請(qǐng)人:住友重機(jī)械工業(yè)株式會(huì)社
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