一種基材表面自泳涂裝的方法以及電子產(chǎn)品外殼的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種可在多種基材表面實(shí)現(xiàn)自泳涂裝的方法及電子產(chǎn)品外殼，可以解決自泳漆對基材選擇的局限性問題。通過采用PVD方法對基材進(jìn)行預(yù)鍍膜處理，使其表面包覆一層含鐵鍍層，再將經(jīng)過預(yù)鍍膜處理的基材放入自泳漆中進(jìn)行涂裝獲得自泳面漆層。經(jīng)PVD處理得到的含鐵鍍層具有優(yōu)良的附著力和耐磨耐腐蝕性能，使膜層整體性能提高。同時制備工藝清潔無污染，易于工業(yè)化。
【專利說明】一種基材表面自泳涂裝的方法以及電子產(chǎn)品外殼

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于基材表面裝飾及防護(hù)領(lǐng)域，具體涉及一種在基材表面實(shí)現(xiàn)自泳涂裝的 方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 在表面裝飾和防護(hù)領(lǐng)域中，目前主要使用的處理技術(shù)有電泳、噴涂、陽極氧化等， 這些工藝方法雖然有各自的用途與優(yōu)勢，但也在一定程度上存在缺陷：電泳涂裝設(shè)備投入 大，管理要求嚴(yán)格且生產(chǎn)后清理工作量大；噴涂的附著力、耐磨性相對較差，且對環(huán)境污染 大；陽極氧化在復(fù)雜結(jié)構(gòu)如拐角、窄縫處進(jìn)行陽極氧化易出現(xiàn)藏酸現(xiàn)象，影響后繼著色、良 率低。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明為了尋求一種綠色環(huán)保、工藝過程簡單的涂裝方法，并使涂層與基材之間 具有較好的附著力。經(jīng)過本發(fā)明人大量的實(shí)驗研究發(fā)現(xiàn)，自泳漆可以與基材產(chǎn)生較好的附 著力，同時又具有綠色環(huán)保，使用簡單、方便、快捷、操作成本低的特性。但是，由于自泳漆的 應(yīng)用范圍狹窄，使其獨(dú)特優(yōu)勢不能得以發(fā)揮。因此本發(fā)明進(jìn)一步需要解決現(xiàn)有自泳漆對基 材材料選擇的局限性問題，提供了一種可在多種基材表面實(shí)現(xiàn)自泳涂裝的方法，實(shí)現(xiàn)了自 泳涂裝的應(yīng)用推廣。
[0004] 其實(shí)現(xiàn)方式如下： 1) 采用物理氣相沉積法（PVD)對基材進(jìn)行預(yù)鍍膜處理，使其表面包覆一層含鐵預(yù)鍍 層； 2) 再將步驟1)中預(yù)鍍膜處理后的基材放入自泳漆中進(jìn)行涂裝，獲得最外覆蓋層。
[0005] 自泳涂裝是一種利用鐵質(zhì)待涂裝基材表面存在的聞價電解質(zhì)，與帶電樹脂顏料粒 子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使之快速聚沉在基材表面實(shí)現(xiàn)涂裝成膜的工藝方法。自泳漆的主要組分 為：合成樹脂乳液、金屬活化劑、氟利昂、過氧化氫等氧化劑和顏料的水分散物。自泳涂層具 有涂覆均勻，無邊緣效應(yīng)，涂層硬度高、涂層柔韌性高、涂層更耐摩擦、內(nèi)腔也能上漆、涂層 附著力好等特點(diǎn)。其工藝過程無重金屬的參與，近年來不含有機(jī)揮發(fā)性溶劑的自泳漆已經(jīng) 廣泛存在于市場上，大大減少了涂裝對環(huán)境的污染。
[0006] 自泳涂裝工作原理為： 工件在強(qiáng)酸槽液環(huán)境下，金屬基材表面溶出金屬離子Fe2+，它立即與氧化劑反應(yīng)生成高 價離子Fe3+，于是在基材表面與槽液界面處形成高濃度的高價離子場，使界面處的乳液穩(wěn)定 性受到破壞，造成乳液中聚合物快速沉在基材表面。由于聚沉物中裹有大量水份，槽液中強(qiáng) 酸透過濕膜繼續(xù)溶出金屬離子，并重復(fù)上述反應(yīng)，使?jié)衲硬粩嘣龊瘛?br> [0007]氧化還原：Fe+2HF - Fe2++2F>H2 個 Fe+ 2 FeF3 - 3 Fe2++6F_ 2Fe2++H202+2HF - 2 Fe3++ 2Η20+2Γ 涂料沉積：Fe2++樹脂顏料粒子^ - Fe樹脂顏料粒子I 反應(yīng)終止：Fe3++3r - Fe F3 由以上原理可以看出，自泳漆的涂裝需要Fe2+參與反應(yīng)，因此自泳涂裝只能應(yīng)用于鐵 質(zhì)基材上。
[0008] 本發(fā)明通過在基材上用物理氣相沉積方法獲得一層含鐵鍍層，使基材獲得所需的 表面屬性，進(jìn)而使自泳涂裝可以在多種基材上實(shí)現(xiàn)，使其應(yīng)用不局限于鐵質(zhì)工件上。本發(fā)明 所述方法可以應(yīng)用于所有能適用PVD處理的各種基材，如鋁合金、鎂合金、鈦合金等金屬基 材以及塑膠基材、陶瓷基材等，或為上述多種基材的組合。最終使自泳涂裝的應(yīng)用范圍得到 擴(kuò)展。
[0009] 優(yōu)選情況下，所述含鐵鍍層的厚度為2(T40Mffl。
[0010] 優(yōu)選情況下，所述基材為鋁合金、鎂合金、鈦合金、塑料或陶瓷中的一種或幾種的 組合。
[0011] 優(yōu)選情況下，在步驟1)之前還包括對所述基材進(jìn)行前處理的步驟，所述預(yù)處理為 噴砂后進(jìn)行超聲波清洗，再進(jìn)行氬離子轟擊。
[0012] 優(yōu)選情況下，所述的物理氣相沉積具體為磁控濺射離子鍍，所述的磁控濺射離子 鍍采用的靶材為不銹鋼。
[0013] 優(yōu)選情況下，所述磁控濺射離子鍍采用對靶結(jié)構(gòu)，對靶數(shù)量為1-6對。
[0014] 優(yōu)選情況下，所述的磁控濺射離子鍍采用間歇鍍膜的方式，維持間歇時間為 5_60min〇
[0015] 本發(fā)明還可以提供一種電子產(chǎn)品外殼，所述電子產(chǎn)品外殼包括基材以及依次形成 在基材表面的含鐵鍍層和面漆層，所述含鐵鍍層通過物理氣相沉積的方法形成，所述面漆 層為在含鐵鍍層上使用自泳涂裝方式形成。其中經(jīng)PVD處理得到的含鐵鍍層，具有優(yōu)良的 附著力和耐磨耐腐蝕性能，并且制備工藝清潔無污染，易于工業(yè)化。
[0016] 優(yōu)選情況下，所述電子產(chǎn)品外殼的基材為鋁合金、鎂合金、鈦合金、塑料或陶瓷中 的一種或幾種的組合。
[0017] 優(yōu)選情況下，所述含鐵鍍層為通過磁控濺射離子鍍的方法制得，所述磁控濺射離 子鍍采用的靶材為不銹鋼。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018] 圖1為本發(fā)明實(shí)施例1的剖視圖。
[0019] 其中1為基材；2為含鐵鍍層；3為面漆層。

【具體實(shí)施方式】
[0020] 本發(fā)明的技術(shù)方案如下：一種可在基材表面實(shí)現(xiàn)自泳涂裝的方法，包括，在基材上 形成含鐵鍍層，在所述含鐵鍍層上形成自泳面漆層。
[0021] 所述基材可以為：鋁合金、鎂合金、鈦合金等金屬基材以及塑膠基材、陶瓷基材等， 或為上述多種基材的組合。以上為舉例說明基材材質(zhì)，本發(fā)明中可選用的基材為本領(lǐng)域技 術(shù)人員公知的可以適用于PVD鍍膜的材料。所述多種基材組合的情況與一種相似，實(shí)現(xiàn)方 法為本領(lǐng)域內(nèi)人員公知的技術(shù)手段。
[0022] 優(yōu)選情況下，所述含鐵鍍層厚度不小于25Mffl。
[0023] 具體實(shí)施步驟如下。
[0024] ( 1)前處理： 為使得含鐵鍍層與自泳涂層的綜合性能更好，在進(jìn)行涂裝處理之前可以對基材表面進(jìn) 行前處理，該前處理方法是本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的，如對基材進(jìn)行機(jī)械拋光、噴砂或拉絲處 理，再對基材進(jìn)行清洗，可以為超聲波清洗，或根據(jù)實(shí)際需要使用本領(lǐng)域內(nèi)常用的其他清洗 方法。
[0025] 在做完超聲波清洗后，對基材進(jìn)行氬離子轟擊處理，所述氬離子轟擊處理為本領(lǐng) 域技術(shù)人員公知的技術(shù)手段。對基材進(jìn)行氬離子轟擊處理有助于提高形成的含鐵鍍層在基 材表面的附著力。
[0026] (2)前處理后的基材進(jìn)行磁控濺射離子鍍獲得含一層鐵預(yù)鍍膜層： 使用磁控濺射離子鍍設(shè)備，當(dāng)爐內(nèi)真空度為5. OXKT3-L 2 X l(T2pa時，通入氬氣，真 空度為I. OX 1〇4-2. Opa，優(yōu)選為2. OX KT1-L Opa環(huán)境中進(jìn)行?？刂破珘簽?0-500V，優(yōu) 選為100-300V ;占空比為15%-80%，優(yōu)選為20-70% ;鍍膜實(shí)際時間為30-180min，優(yōu)選為 60-120min。所述鍍膜實(shí)際時間為靶電源、偏壓電源為開啟狀態(tài)下的鍍膜時間，不包含間歇 時間，間歇次數(shù)可依據(jù)鍍膜實(shí)際時間設(shè)置為一次或多次。采用該鍍膜方式可以及時釋放含 鐵鍍層的內(nèi)應(yīng)力，避免出現(xiàn)爆膜現(xiàn)象，提高膜層附著力。
[0027] 所述磁控濺射離子鍍的工作氣體氬氣流量為20-200標(biāo)準(zhǔn)毫升/分鐘（seem)，優(yōu)選 為 50_150sccm。
[0028] 所述磁控濺射離子鍍的電源可以使現(xiàn)有的各種用于磁控濺射離子鍍的電源，優(yōu)選 為中頻電源，中頻電源頻率為10-150KHz，優(yōu)選為ΙΟ-ΙΟΟΚΗζ。
[0029] 所述磁控濺射離子鍍的靶材為不銹鋼，本領(lǐng)域內(nèi)常用的不銹鋼靶材有：304、316、 316L、321、403、430,優(yōu)選牌號為316L的不銹鋼靶材。
[0030] 所述磁控濺射離子鍍采用對靶結(jié)構(gòu)，每對磁控靶由一個電源控制，兩個磁控靶各 自與電源的一個電極相連，并與真空室保持絕緣。本發(fā)明中采用1-6對靶，優(yōu)選為3-4對靶 結(jié)構(gòu)。每對磁控靶的兩個靶之間的距離為10-25cm，優(yōu)選為14-22cm。工件架可以圍繞真空 室的中心軸順時針或逆時針轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)速控制在0. 5-10rad/min，優(yōu)選為2_6rad/min。
[0031] 所述磁控濺射離子鍍采用間歇鍍膜的方式，即鍍膜一定時間后，關(guān)閉靶電源、偏壓 電源，保持爐門為關(guān)閉狀態(tài)，維持間歇時間5-60min，優(yōu)選為10-30min。之后，重新按照上述 條件開啟靶電源、偏壓電源，繼續(xù)鍍膜，如此反復(fù)幾次。
[0032] 上述工藝可以采用恒功率模式，所述中頻電源的功率為1-50KW范圍內(nèi)的恒定值， 優(yōu)選為5-35KW范圍內(nèi)的恒定值，更優(yōu)選為10-25KW范圍內(nèi)的恒定值。
[0033] 所述形成含鐵鍍層可以采用但不限于本領(lǐng)域常用的中頻磁控濺射離子鍍設(shè)備(深 圳振恒昌實(shí)業(yè)有限公司生產(chǎn))進(jìn)行，也可采用多弧鍍、蒸發(fā)鍍等其他PVD設(shè)備進(jìn)行，得到的含 鐵鍍層結(jié)構(gòu)致密，內(nèi)部成分分布均勻。
[0034] (3 )將步驟（2 )中已覆蓋有含鐵鍍層的基材進(jìn)行自泳涂裝，所述形成自泳面漆層的 方法包括以下工藝步驟。
[0035] 噴淋水洗： 將表面已鍍含鐵鍍層的基材放入帶有噴淋裝置的槽內(nèi)，使用自來水噴淋水洗30-180S， 優(yōu)選為60-120S，去除轉(zhuǎn)料過程中基材表面附著的臟污雜質(zhì)。
[0036] 去離子水浸洗： 將噴淋水洗后的基材放入電導(dǎo)率為20-50us/cm的去離子水中浸洗30-180S，優(yōu)選為 60-120S，以去除基材表面上水份中的一些離子鈣、磷等微量元素。
[0037] 自泳漆涂裝： 將經(jīng)過去離子水浸洗后的基材放入自泳漆(漢高（中國）股份有限公司生產(chǎn)，Aquence 866型自泳漆）內(nèi)進(jìn)行涂裝，控制涂裝時間為l-3min，涂裝溫度為18-25°C，優(yōu)選為 20-22 °C，使基材表面形成自泳涂層。
[0038] 水洗： 將涂裝后的基材放入流動清水中清洗30-180S，優(yōu)選為60-120S，去除表面殘液。
[0039] 反應(yīng)水洗： 將水洗后的基材放入電導(dǎo)率為1000-4000uS/cm，pH為7-9的封閉劑中清洗30-180S， 優(yōu)選為60-120S，中和基材表面酸性物并洗去表面吸附物。
[0040] 烘烤固化： 將經(jīng)過反應(yīng)水洗后的基材放入溫度為100-220°C，優(yōu)選為110-200°C的烘箱內(nèi)烘烤 20-45min，待基材表面涂層完全固化。
[0041] 通過上述處理即可實(shí)現(xiàn)本發(fā)明公開的在多種基材表面進(jìn)行自泳涂裝。下面通過實(shí) 施例對本發(fā)明做進(jìn)一步的說明。
[0042] 實(shí)施例1 : 選用牌號為6463的鋁合金作為基材。
[0043] L前處理包括以下步驟。
[0044] ( 1)噴砂處理 用噴砂機(jī)在2. 5kg力作用下將320目石英砂噴射到基材表面進(jìn)行噴砂處理。
[0045] (2)超聲波清洗 對上述噴砂處理后的基材依次浸泡在90°C除蠟水、除油水溶液及70°C去離子水中進(jìn) 行超聲波清洗，清洗時間依次為5min、5min、IOmin,各步之間用清水洗漆。
[0046] (3)氬離子轟擊預(yù)處理 此處使用中頻磁控濺射離子鍍設(shè)備對基材進(jìn)行氬離子轟擊處理。將超聲波清洗后的基 材放入設(shè)備中，當(dāng)爐內(nèi)氣壓為I. OXKT2Pa時通入氬氣，進(jìn)行氬離子轟擊預(yù)處理，氬離子轟 擊處理條件為：保持氣壓為2. Opa，偏壓為1000V，占空比為50%，時間為15min。完成后停止 氬氣通入并關(guān)閉偏壓電源，繼續(xù)爐內(nèi)抽空。
[0047] 得到前處理后的基材All。
[0048] 2.形成含鐵鍍層的步驟為： 將進(jìn)行前處理后的基材All放入中頻磁控濺射離子鍍設(shè)備(深圳振恒昌實(shí)業(yè)有限公 司）。當(dāng)爐內(nèi)真空度為6. OX KT3Pa時，通入工作氣體氬氣，保持真空度為5. OX KT1Pa,開啟 不銹鋼靶電源，電源功率為20KW，偏壓為150V，占空比為30%，鍍膜實(shí)際時間為80min，間歇 時間為20min,間歇次數(shù)為1次,厚度為27Mm的含鐵鍍層。
[0049] 關(guān)閉不銹鋼靶電源，關(guān)閉偏壓電源，冷卻15min出爐，得到表面已形成含鐵鍍層的 基材Al2。
[0050] 3.形成自泳涂層的步驟為： 將上述基材A12依次通過噴淋水洗、去離子水浸洗，清洗時間依次為90s、90s。
[0051] 之后，將上述基材放入溫度為20°C的自泳漆中，浸涂2min，進(jìn)行涂裝，使基材表面 形成自泳面漆層。
[0052] 之后，將上述基材放入清水中浸洗120s，去除涂層表面殘液。
[0053] 之后，將上述基材放入電導(dǎo)率為1800us/cm、pH為8的封閉劑中，清洗90s。
[0054] 最后，將上述基材放入溫度為IKTC的烘箱中，烘烤30min，經(jīng)過烘烤固化后，基材 表面形成2〇Mm后的自泳涂層。
[0055] 最終得到自泳涂裝產(chǎn)品Al。
[0056] 以上所述自泳漆是由 Autophoretic 866 型樹脂、Autophoretic 300 Sarter 型樹 月旨、去離子水，按照Autophoretic 866型樹脂：Autophoretic 300 Sarter型樹脂：去離 子水=113:50:837的比例而制成；所述封閉劑是ACC3414型封閉劑。
[0057] 實(shí)施例2 : 選用PPS塑膠板作為基材。
[0058] 1.前處理 (1)噴砂處理 用噴砂機(jī)在2. 5kg力作用下將320目石英砂噴射到基材表面進(jìn)行噴砂處理。
[0059] (2)超聲波清洗 將基材依次浸泡在常溫除油水溶液及70°C去離子水中進(jìn)行超聲波清洗，清洗時間依次 為5min、10min，各步之間用清水洗漆。
[0060] (3)氬離子轟擊預(yù)處理 此處使用中頻磁控濺射離子鍍設(shè)備對基材進(jìn)行氬離子轟擊處理。將超聲波清洗后的基 材放入設(shè)備中，當(dāng)爐內(nèi)氣壓為I. OXKT2Pa時通入氬氣，進(jìn)行氬離子轟擊預(yù)處理，氬離子轟 擊處理條件為：保持氣壓為2. Opa，偏壓為1000V，占空比為50%，時間為15min。完成后停止 氬氣通入并關(guān)閉偏壓電源，繼續(xù)爐內(nèi)抽空。
[0061] 得到前處理后的基材A21。
[0062] (1)形成含鐵鍍層 將進(jìn)行前處理后的基材A21放入中頻磁控濺射離子鍍設(shè)備(深圳振恒昌實(shí)業(yè)有限公 司）。通入工作氣體氬氣，保持真空度為5. OX KT1Pa,開啟不銹鋼靶電源，電源功率為10KW， 偏壓為100V，占空比為20%，鍍膜實(shí)際時間為120min，間歇時間為15min，間歇次數(shù)為2次， 得到厚度為22Mm的含鐵鍍層。
[0063] 關(guān)閉不銹鋼靶電源，關(guān)閉偏壓電源，冷卻15min出爐，得到表面已形成含鐵鍍層的 基材A22。
[0064] (2)形成自泳面漆層 將上述基材A22進(jìn)行自泳處理。自泳過程及參數(shù)與實(shí)施例1中的相同，不同之處為：烘 烤時間為40min，基材表面形成17Mm的自泳涂層。
[0065] 最終得到自泳涂裝產(chǎn)品A2。
[0066] 實(shí)施例3 : 選用牌號為TAl鈦合金作為基材。
[0067] I、前處理：同實(shí)施例1。
[0068] 得到前處理后的基材A31。
[0069] 2、形成含鐵鍍層： 將進(jìn)行前處理后的基材A31放入中頻磁控濺射離子鍍設(shè)備(深圳振恒昌實(shí)業(yè)有限公 司）。通入工作氣體氬氣，保持真空度為5. OX KT1Pa,開啟不銹鋼靶電源，電源功率為25KW， 偏壓為250V，占空比為70%，鍍膜實(shí)際時間為lOOmin，間歇時間為25min，間歇次數(shù)為2次， 得到厚度為35um的含鐵鍍層。
[0070] 關(guān)閉不銹鋼靶電源，關(guān)閉偏壓電源，冷卻15min出爐，得到表面已形成含鐵鍍層的 基材A3 2。
[0071] 形成自泳面漆層 將上述基材A32進(jìn)行自泳處理。自泳過程及參數(shù)與實(shí)施例1中的相同，不同之處為： 最后將上述基材放入溫度為150°C的烘箱中，烘烤20min，經(jīng)過烘烤固化后，基材表面形成 28um厚的自泳面漆層。
[0072] 最終得到自泳涂裝產(chǎn)品A3。
[0073] 對比例1 : 選用錯合金(牌號為6463)作為基材。
[0074] 1、前處理。
[0075] ( 1)噴砂處理 用噴砂機(jī)在2. 5kg力作用下將320目石英砂噴射到基材表面進(jìn)行噴砂處理。
[0076] (2)超聲波清洗 對上述噴砂處理后的基材依次浸泡在90°C除蠟水、除油水溶液及70°C去離子水中進(jìn) 行超聲波清洗，清洗時間依次為5min、5min、IOmin,各步之間用清水洗漆。
[0077] 2、得到前處理后的基材DO。
[0078] 形成電泳涂層： 將上述基材DO作為陰極放入電泳漆中，在陰極電泳漆pH為4. 5，溫度為23°C，電壓為 35V的條件下，電泳40s，表面形成電泳涂層。
[0079] 之后，將上述基材放入清水中浸洗120s，去除涂層表面殘液。
[0080] 最后，將上述基材放入溫度為175°C的烘箱中，烘烤50min，經(jīng)過烘烤固化后，基材 表面形成IOMm后的電泳涂層。
[0081] 最終得到電泳涂裝產(chǎn)品Dl。
[0082] 上述電泳漆采用日本清水株式會社的CM陰極電泳漆與藍(lán)色色漿（日本清水株式 會社，牌號為Blue)混合而制成。
[0083] 對比例2 : 選用錯合金(牌號為6463)作為基材。
[0084] 1、前處理。
[0085] ( 1)噴砂處理 用噴砂機(jī)在2. 5kg力作用下將320目石英砂噴射到基材表面進(jìn)行噴砂處理。
[0086] (2)噴涂前處理 對上述噴砂處理后的基材依次進(jìn)行脫脂處理(酸濃度70g/L) 8min、二聯(lián)水洗4min、鉻 化處理(鉻化劑濃度30g/L) 3min、二聯(lián)水洗4min，各步均在室溫下進(jìn)行。
[0087] 最后在70°C下烘烤50min，得到前處理后的基材D21。
[0088] 2、形成粉末噴涂涂層。
[0089] 將上述基材D21放入噴粉房（瓦格納爾噴涂設(shè)備有限公司生產(chǎn)的ID標(biāo)準(zhǔn)型手動靜 電粉末噴涂系統(tǒng))中，控制噴槍電壓l〇〇kV，電流120uA，總氣量3. 5m3/h，粉量40%，對基材表 面進(jìn)行噴粉處理。
[0090] 之后,放入溫度為200°C的烘箱中烘烤固化20min。
[0091] 最終得到粉末噴涂涂裝產(chǎn)品D2。
[0092] 上述粉末噴涂涂料采用阿克蘇諾貝爾長誠涂料有限公司生產(chǎn)的Interpon D1000 系列粉末涂料，涂料型號為Black GN402Z。
[0093] 對比例3 : 選用錯合金(牌號為6463)作為基材。
[0094] 對比例3與實(shí)施例1的前處理、形成含鐵鍍層兩步工藝相同，所不同之處在于最后 一步，對比例3采用電泳涂裝，形成電泳涂層，具體工藝與對比例1相同。
[0095] 最終得到電泳涂裝產(chǎn)品D3。
[0096] 按照下述測試方法對實(shí)施例和對比例測試結(jié)果進(jìn)行測試分析。
[0097] 硬度測試： 儀器：鉛筆硬度計F130027 檢驗方法：ASTM D3363,負(fù)荷：750g，鉛筆：三菱UNI。
[0098] 結(jié)合力測試： 用百格刀在涂層表面劃100個ImmX Imm的正方形格，用美國3M公司生產(chǎn)的型號為600 的透明膠帶平整粘結(jié)在方格上，不留一絲空隙，然后快速垂直揭起膠帶，觀察劃痕邊緣處的 膜層有無脫落。如脫膜量在0-5面積％之間為5B，在5-10面積％之間為4B，在10-20面 積％之間為3B，在20-30面積％之間為2B，在30-50面積％之間為1B，在50面積％以上為 OB0
[0099] 中性鹽霧（NSS)測試： 將工件以25°的傾斜角放置在溫度為35°C、濕度彡85%RH的試驗箱（HOLINK H-SST-90 鹽水噴霧試驗機(jī)）內(nèi)，用pH=6. 8的溶液(溶液成分：50g/l的NaCl溶液）分別連續(xù)噴霧48h、 144h和168h后取出；用常溫清水沖洗5min并用吹風(fēng)機(jī)吹干，在室溫下放置lh，觀察工件外 觀是否有異常(腐蝕點(diǎn)或腐蝕線)。
[0100] 通過上述方法測試所得的測試結(jié)果如表1所示。
[0101] 表1:

【權(quán)利要求】
1. 一種在基材表面自泳涂裝的方法，其特征在于，包括以下步驟： 1) 用物理氣相沉積在基材上預(yù)鍍一層含鐵鍍層； 2) 經(jīng)過步驟1)處理后的基材進(jìn)行自泳涂裝，在含鐵鍍層上形成面漆層。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的在基材表面自泳涂裝的方法，其特征在于，所述含鐵鍍層的 厚度為2(T40Mm。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的在基材表面自泳涂裝的方法，其特征在于，所述基材為鋁合 金、鎂合金、鈦合金、塑料或陶瓷中的一種或幾種的組合。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的在基材表面自泳涂裝的方法，其特征在于，步驟1之前還包括 對所述基材進(jìn)行前處理的步驟，所述前處理包含氬離子轟擊。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的在基材表面自泳涂裝的方法，其特征在于，所述的物理氣相 沉積具體為磁控濺射離子鍍，所述的磁控濺射離子鍍采用的靶材為不銹鋼。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的在基材表面自泳涂裝的方法，其特征在于，所述磁控濺射離 子鍍采用對靶結(jié)構(gòu)，對靶數(shù)量為1-6對。
7. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的在基材表面自泳涂裝的方法，其特征在于，所述的磁控濺射 尚子鍛米用間歇鍛I旲的方式，維持間歇時間為5-60min。
8. -種電子產(chǎn)品外殼，所述電子產(chǎn)品外殼包括基材以及依次形成在基材表面的含鐵鍍 層和面漆層，所述含鐵鍍層通過物理氣相沉積的方法形成，所述面漆層為在含鐵鍍層上由 自泳涂裝方式形成。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種電子產(chǎn)品外殼，其特征在于，所述電子產(chǎn)品外殼的基材 為鋁合金、鎂合金、鈦合金、塑料或陶瓷中的一種或幾種的組合。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種電子產(chǎn)品外殼，其特征在于，所述含鐵鍍層為通過磁控 濺射離子鍍的方法制得，所述磁控濺射離子鍍采用的靶材為不銹鋼。
【文檔編號】B05D3/00GK104338668SQ201310324175
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2013年7月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月30日
【發(fā)明者】劉晨岑, 郭麗芬 申請人:比亞迪股份有限公司