一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，按重量份數(shù)，包括以下原料制成：聚氨酯丙烯酸酯10～60份、UV稀釋單體1～50份、光引發(fā)劑0.4～40份、有機硅流平劑0.01～15份、有機硅耐磨劑0.03～15份、底材附著力促進劑0.02～6份、溶劑0～90份。本發(fā)明不但可以消除硬化薄膜表面的彩虹紋現(xiàn)象，而且可以使薄膜表面的硬化層達到3～9H,耐磨可以經(jīng)受0000#鋼絲棉，采用2kg的壓力，來回摩擦50次以上，在抗刮層表面沒有劃痕。因此該無彩虹紋保護膜的防刮耐磨效果極為優(yōu)異。
【專利說明】一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜及其制備方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于保護膜【技術領域】，具體涉及一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜及其制備方法。
【背景技術】
[0002]所謂的“彩虹紋現(xiàn)象”是因為基材在進行硬化處理的時候需要過一次高溫，而在高溫處理中，基材表面分子結構不均勻產(chǎn)生散射情況。越高強度的硬化處理，彩虹紋越難控制。彩虹紋的存在會影響透光度以及視覺效果。彩虹紋多出現(xiàn)在手機保護膜上，例如是高透、高清的手機保護膜，彩虹紋造成屏幕不美觀，而且會影響人地視力。優(yōu)質的保護膜材料在貼膜以后很難用肉眼看出彩虹紋。
[0003]所以彩虹紋 其實是硬化處理的產(chǎn)物，越高強度的硬化處理，就意味著保護膜材料的彩虹紋越厲害，也就是說彩虹紋與硬化處理成正比的。在不影響視覺效果的前提下，達到最佳的硬化處理效果一般只會到3.5H至3.8H之間。超過這個值的，要么是虛報耐磨度、硬度、要么就是彩虹紋突出。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]發(fā)明目的:針對現(xiàn)有技術的不足，本發(fā)明的第一個目的是提供一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜。本發(fā)明的第二個目的是提供上述保護膜的制備方法。
[0005]技術方案:為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明通過下述技術方案實現(xiàn):一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，按重量份數(shù)，包括以下原料制成:聚氨酯丙烯酸酯10~60份、UV稀釋單體I~50份、光引發(fā)劑0.4~40份、有機硅流平劑0.01~15份、有機硅耐磨劑0.03~15份、底材附著力促進劑0.02~6份、溶劑O~90份。
[0006]其中，上述保護膜還包括納米氧化鋯、納米氧化鋅、納米氧化鈦或納米氧化硅中的一種或幾種。
[0007]其中，上述納米氧化錯為0.1~3.5份、納米氧化鋅為0.1~1.5份、納米氧化鈦0.01~2份、納米氧化娃0.1~3.5份。
[0008]其中，上述納米氧化硅粒徑在30~200納米之間。
[0009]其中，上述聚氨酯丙烯酸酯的折射率大于1.6。
[0010]其中，上述UV稀釋單體為ACMO、TMPTA, TPGDA或HDDA中的一種。
[0011]其中，上述光引發(fā)劑為光引發(fā)劑184、光引發(fā)劑1173、光引發(fā)劑ΤΡ0、光引發(fā)劑907中的一種或幾種。
[0012]其中，上述有機硅流平劑為Silok?8144、Silok?5100、Silok?5400> Silok?8244、Silol<?8035, Silok?350、TEGOK Glide410、BYK-306、BYK-332、BYK-333、BYK-378 或BZ-624中的一種或幾種。
[0013]其中，上述有機硅耐磨劑包括:Silok?8520> Silok?8586N、Silok?8530、Silok?8546、Silol<?82、Silok?35l 中的一種或幾種。
[0014] 本發(fā)明的底材附著力促進劑為3M出品的非離子含氟表面活性劑FC-430 ;硅烷偶聯(lián)劑VAS (乙烯基三乙酰氧基硅烷)；Degussa出品的LTH樹脂；Silok?8000; Bayer出品的
含有異氰酸酯基團(NCO)的聚氨酯丙烯酸酯低聚物與含羥基的聚酯丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、PP-603等。
[0015]一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜的制備方法，包括以下步驟:
[0016]I)按照上述質量份數(shù)，將原料先后加入恒溫密封高速攪拌缸中攪拌得到膠液，分散速度1500~2000轉/min，溫度控制在45~65°C之間；攪拌12~72小時，使膠液的分散粒徑在Ium以下,膠液粘度控制在I~50mpa.s之間；
[0017]2)在PET薄膜表面預先涂布一層0.1~5 μ m的膠液得到微結構樹脂涂層，再次在微結構樹脂涂層表面涂布一層0.1~5 μ m的膠液即可得到高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜。
[0018]有益效果:與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的優(yōu)點如下:本發(fā)明不但可以消除硬化薄膜表面的彩虹紋現(xiàn)象，而且可以使薄膜表面的硬化層達到3~9H，耐磨可以經(jīng)受0000#鋼絲棉，采用2kg的壓力，來回摩擦50次以上，在抗刮層表面沒有劃痕。因此該無彩虹紋保護膜的防刮耐磨效果極為優(yōu)異。
【具體實施方式】
[0019]下述非限制性實施例可以使本領域的普通技術人員更全面地理解本發(fā)明，但不以任何方式限制本發(fā)明。
[0020]本發(fā)明所采用的在PET薄膜等材料都是市面上購買。
[0021]實施例1
[0022]聚氨酯丙烯酸酯10份、UV稀釋單體TMPTAl份、納米氧化鋯(折射率2.4)0.1份、納米氧化鋅(折射率2.0)0.1份、納米氧化鈦(折射率2.7)0.01份、光引發(fā)劑1840.1份、光引發(fā)劑 11730.1 份、光引發(fā)劑 ΤΡ00.1 份、光引發(fā)劑 9070.1 份、Silok?8144 0.01 份、Silok?85200.03 份、FC-4300.02 份、溶劑 40 份。
[0023]按照上述質量份數(shù)，將原料先后加入恒溫密封高速攪拌缸中攪拌得到膠液，分散速度1500轉/min，溫度控制在45°C之間；攪拌12小時，使膠液的分散粒徑在I μ m以下，膠液粘度控制在I~50mpa.s之間；在PET薄膜表面預先涂布一層0.1 μ m的膠液得到微結構樹脂涂層，再次在微結構樹脂涂層表面涂布一層0.1 μ m的膠液即可得到高硬度、
[0024]超耐磨無彩虹紋的保護膜。
[0025]實施例2
[0026]聚氨酯丙烯酸酯60份、UV稀釋單體ACM050份、納米氧化鋯(折射率2.4) 3.5份、光引發(fā)劑18410份、光引發(fā)劑11735份、光引發(fā)劑TP03份、光引發(fā)劑9073份、Silok?51001份、Silol<?54001 份、Silo!<?8244 1份、Siloki? 8586N2.5 份、Silok? 8530,2.5 份、底材附著力促進劑PP-6036份、溶劑80。
[0027]按照上述質量份數(shù)，將原料先后加入恒溫密封高速攪拌缸中攪拌得到膠液，分散速度2000轉/min，溫度控制在65°C之間；攪拌72小時，使膠液的分散粒徑在I μ m以下，膠液粘度控制在50mpa.s ;在PET薄膜表面預先涂布一層5 μ m的膠液得到微結構樹脂涂層，再次在微結構樹脂涂層表面涂布一層5 μ m的膠液即可得到高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜。
[0028]實施例3
[0029]聚氨酯丙烯酸酯35份、UV稀釋單體TPGDA25份、納米氧化硅1份、光引發(fā)劑1845份、光引發(fā)劑11732.5份、光引發(fā)劑TP01.5份、光引發(fā)劑9071.5份、Silok?8035 0.5份、Silok?350 0.5 份、TEGO? Glide4100.5 份、Silok?8546 2.5 份、乙烯基三乙酰氧基硅烷 I份、Si丨ol<?8000 2份、溶劑50份。
[0030]按照上述質量份數(shù)，將原料先后加入恒溫密封高速攪拌缸中攪拌得到膠液，分散速度1750轉/min，溫度控制在55°C之間；攪拌42小時，使膠液的分散粒徑在I μ m以下，膠液粘度控制在25mpa.s ;在PET薄膜表面預先涂布一層2.5 μ m的膠液得到微結構樹脂涂層，再次在微結構樹脂涂層表面涂布一層2.5μπι的膠液即可得到高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜。
[0031]實施例4
[0032]聚氨酯丙烯酸酯30份、UV稀釋單體HDDA30份、光引發(fā)劑1840.4、光引發(fā)劑11735份、光引發(fā)劑TPO15份、光引發(fā)劑90715份、ΒΥΚ-3061份、ΒΥΚ-3321份、ΒΥΚ-3331份、ΒΥΚ-3781 份、ΒΖ-6241 份、Silok?82 7 份、Silok?351 8 份、LTH 樹脂 4 份。
[0033]按照上述質量份數(shù)，將原料先后加入恒溫密封高速攪拌缸中攪拌得到膠液，分散速度1800轉/min，溫度控制在50°C之間；攪拌50小時，使膠液的分散粒徑在I μ m以下，膠液粘度控制在lmpa.s ;在PET薄膜表面預先涂布一層0.2 μ m的膠液得到微結構樹脂涂層，再次在微結構樹脂涂層表面涂布一層0.2 μ m的膠液即可得到高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜。
[0034]對實施例1~4進行彩虹紋的檢測:在陽光或是D65燈源的照射下，把該膜貼在不透明的黑板上，膜表面沒有呈現(xiàn)出光的各 種顏色的干涉斑紋，俗稱彩虹紋。而且可以使薄膜表面的硬化層達到3~9H,耐磨可以經(jīng)受0000#鋼絲棉，采用2kg的壓力，來回摩擦50次以上，在抗刮層表面沒有劃痕。
【權利要求】
1.一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，其特征在于，按重量份數(shù)，包括以下原料制成:聚氨酯丙烯酸酯10~60份、UV稀釋單體I~50份、光引發(fā)劑0.4~40份、有機硅流平劑0.01~15份、有機硅耐磨劑0.03~15份、底材附著力促進劑0.02~6份、溶劑O~90份。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，其特征在于，所述保護膜還包括納米氧化鋯、納米氧化鋅、納米氧化鈦或納米氧化硅中的一種或幾種。
3.根據(jù)權利要求2所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，其特征在于，所述納米氧化錯為0.1~3.5份、納米氧化鋅為0.1~1.5份、納米氧化鈦0.01~2份、納米氧化娃0.1~3.5份。
4.根據(jù)權利要求2所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，其特征在于，所述納米氧化娃粒徑在30~200納米之間。
5.根據(jù)權利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，其特征在于，所述聚氨酯丙烯酸酯的折射率大于1.6。
6.根據(jù)權利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，其特征在于，所述UV稀釋單體為ACMO、TMPTA, TPGDA或HDDA中的一種。
7.根據(jù)權利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，其特征在于，所述光引發(fā)劑為光引發(fā)劑184、光引發(fā)劑1173、光引發(fā)劑TPO、光引發(fā)劑907中的一種或幾種。
8.根據(jù)權利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，其特征在于，所述有機硅流平劑為 Silok?8144、Silok?5100、Silok?5400、Silol<?8244、Silok?8035、Sik)k?350、TEGO? Glide410、BYK-306、BYK-332、BYK-333、BYK-378 或 BZ-624 中的一種或幾種。
9.根據(jù)權利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，其特征在于，所述有機硅耐磨劑包括:Silok?8520、Silok?8586N、Silok?8530、Silol<?8546、Silol<?82'Silok?351中的一種或幾種。
10.權利要求1-9任一項所述的高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟: 1)按照上述質量份數(shù)，將原料先后加入恒溫密封高速攪拌缸中攪拌得到膠液，分散速度1500~2000轉/min，溫度控制在45~65°C之間；攪拌12~72小時，使膠液的分散粒徑在Ium以下,膠液粘度控制在I~50mpa.s之間； 2)在PET薄膜表面預先涂布一層0.1~5 μ m的膠液得到微結構樹脂涂層，再次在微結構樹脂涂層表面涂布一層0.1~5 μ m的膠液即可得到高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜。
【文檔編號】C09D175/14GK103911067SQ201410102390
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2014年3月19日 優(yōu)先權日:2014年3月19日
【發(fā)明者】金國華, 朱霆, 許修安 申請人:蘇州襲麟光電科技產(chǎn)業(yè)有限公司