成膜裝置以及成膜方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及成膜裝置以及成膜方法。實施方式的成膜裝置為，從移動的噴嘴向旋轉(zhuǎn)的基板的表面供給處理液，在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液，通過上述基板的旋轉(zhuǎn)由所涂布的上述處理液形成膜。該成膜裝置具備保持上述基板的保持部、使上述保持部旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動部、向上述保持部所保持的上述基板的表面供給上述處理液的處理液供給部以及至少控制上述驅(qū)動部的控制部。而且，上述控制部使上述保持部以比涂布上述處理液時的第一轉(zhuǎn)速慢的第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，而由所涂布的上述處理液形成膜。
【專利說明】成膜裝置以及成膜方法
[0001]關(guān)聯(lián)文獻的引用:本申請以2013年5月31日申請的在先日本專利申請2013-115277號的優(yōu)先權(quán)利益為基礎(chǔ)且要求該優(yōu)先權(quán)利益，并通過引用將上述專利申請的內(nèi)容全部包含于本申請。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]后述的實施方式總體上涉及成膜裝置以及成膜方法。

【背景技術(shù)】
[0003]以往，存在如下的技術(shù):在使噴嘴從基板的中心側(cè)朝向外周端側(cè)移動的同時，從該噴嘴向旋轉(zhuǎn)的基板的表面供給處理液，在基板的表面上螺旋狀地涂布處理液，然后，使基板以比涂布處理液時的轉(zhuǎn)速快的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，而由所涂布的處理液形成膜。
[0004]如果采用這種技術(shù)，則能夠?qū)崿F(xiàn)膜厚的均勻化。
[0005]然而，在處理液的涂布結(jié)束后，當使基板以比涂布處理液時的轉(zhuǎn)速快的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)時，處于基板表面的處理液的一部分飛散，處理液的利用效率變差。
[0006]因此，希望開發(fā)出能夠?qū)崿F(xiàn)處理液的利用效率提高以及膜厚的均勻化的技術(shù)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的在于提供能夠?qū)崿F(xiàn)處理液的利用效率提高以及膜厚的均勻化的成膜裝置以及成膜方法。
[0008]實施方式的成膜裝置為，從移動的噴嘴向旋轉(zhuǎn)的基板的表面供給處理液，在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液，通過上述基板的旋轉(zhuǎn)而由所涂布的上述處理液形成膜。
[0009]該成膜裝置具備:保持上述基板的保持部；使上述保持部旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動部；向上述保持部所保持的上述基板的表面供給上述處理液的處理液供給部；以及至少控制上述驅(qū)動部的控制部。
[0010]而且，上述控制部使上述保持部以比涂布上述處理液時的第一轉(zhuǎn)速慢的第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，由所涂布的上述處理液形成膜。
[0011]本發(fā)明能夠提供能夠?qū)崿F(xiàn)處理液的利用效率提高以及膜厚的均勻化的成膜裝置以及成膜方法。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1是用于例示本實施方式的成膜裝置I的模式截面圖。
[0013]圖2是用于例示本實施方式的成膜裝置I的模式平面圖。
[0014]圖3是用于例示處理液110的供給和基板100的表面上的處理液110的涂布方式的模式圖。
[0015]圖4是用于例示比較例的膜120的形成的模式圖。
[0016]圖5是用于例示比較例的膜120的形成的模式圖。
[0017]圖6是用于例示成膜裝置I的作用以及成膜方法的流程圖。

【具體實施方式】
[0018]以下，參照附圖來例示實施方式。另外，在各附圖中，對于相同的構(gòu)成要素賦予相同的符號，并適當省略詳細說明。
[0019]圖1是用于例示本實施方式的成膜裝置I的模式截面圖。
[0020]圖2是用于例示本實施方式的成膜裝置I的模式平面圖。
[0021]此外，圖2是圖1的A-A線向視圖。
[0022]圖3是用于例示處理液110的供給和基板100的表面上的處理液110的涂布方式的模式圖。
[0023]如圖1和圖2所示，在成膜裝置I中設(shè)置有保持部2、驅(qū)動部3、罩4、處理液供給部
5、第一流動性控制部6、第二流動性控制部7以及控制部8。
[0024]保持部2用于載放基板100并且保持所載放的基板100。
[0025]保持部2設(shè)置在罩4的內(nèi)部。保持部2具有載放部2a和軸部2b。
[0026]載放部2a呈圓板狀,一個面成為載放基板100的載放面2aI。另外,載放部2a對載放面2al上所載放的基板100進行保持。例如，能夠通過使用了未圖示的真空泵等的吸附來進行基板100的保持。
[0027]軸部2b的一個端部設(shè)置在載放部2a的與載放面2al相反側(cè)的面上。另外，軸部2b的另一個端部與驅(qū)動部3連接。
[0028]驅(qū)動部3使保持部2旋轉(zhuǎn)。
[0029]驅(qū)動部3設(shè)置在罩4的內(nèi)部。驅(qū)動部3例如能夠具備能夠使轉(zhuǎn)速變化的伺服馬達等控制馬達。
[0030]罩4被設(shè)置為至少包圍保持部2的周圍。
[0031]罩4抑制被涂布到基板100的表面上的處理液110向成膜裝置I的外部飛散。
[0032]罩4在中央部具有設(shè)置保持部2的空間4a。在空間4a的外側(cè)，設(shè)置有朝向罩4的底部傾斜的空間4b?？臻g4a以及空間4b的上方開口。另外，罩4的上面4e處于比載放部2a所載放的基板100的表面(上面)高的位置。
[0033]另外，在罩4的底部設(shè)置有排出口 4c。在排出口 4c連接有未圖示的回收部。從基板100排出的處理液110經(jīng)由空間4b被導(dǎo)向到罩4的底部，并經(jīng)由排出口 4c由未圖示的回收部回收。
[0034]處理液供給部5向由保持部2保持并旋轉(zhuǎn)的基板100的表面供給處理液110。
[0035]在該情況下，如圖3所示，在使噴嘴5a從基板100的中心側(cè)朝向外周端側(cè)移動的同時，從噴嘴5a向旋轉(zhuǎn)的基板100的表面供給處理液110。
[0036]于是，在基板100的表面上螺旋狀地涂布處理液110。
[0037]處理液供給部5具有噴嘴5a、收容部5b、供給部5c以及移動部5d。
[0038]在噴嘴5a的一端設(shè)置有吐出口 5al，在另一端設(shè)置有供給口 5a2。
[0039]收容部5b收容處理液110。
[0040]處理液110例如能夠為光致抗蝕劑(photo resist)液等。
[0041]供給部5c經(jīng)由噴嘴5a將收容部5b所收容的處理液110向基板100的表面供給。供給部5c例如能夠具有泵、流量調(diào)節(jié)閥等。
[0042]移動部5d具有保持部5dl、軸部5d2、支持部5d3以及驅(qū)動部5d4。
[0043]保持部5dl設(shè)置在軸部5d2上，并沿著軸部5d2移動。另外，保持部5dl使吐出口5al側(cè)朝向載放部2a地保持噴嘴5a。
[0044]軸部5d2被設(shè)置為橫跨載放面2al的上方。
[0045]支持部5d3分別設(shè)置在軸部5d2的兩端。支持部5d3能夠設(shè)置在罩4的上面4e
坐μ~y|-~ 1.0
[0046]驅(qū)動部5d4與軸部5d2的一個端部連接。
[0047]移動部5d使保持部5dl所保持的噴嘴5a的位置變化。
[0048]例如，能夠使保持部5dl為螺母，使軸部5d2為滾珠絲杠，使驅(qū)動部5d4為伺服馬達等控制馬達。
[0049]第一流動性控制部6進行控制，以使由所涂布的處理液110形成的膜120的處于基板100的外周端附近的區(qū)域的流動性提高。
[0050]第二流動性控制部7進行控制，以使由所涂布的處理液110形成的膜120的流動性降低。
[0051]此外，與第一流動性控制部6以及第二流動性控制部7相關(guān)的詳細內(nèi)容將后述。
[0052]控制部8對成膜裝置I中所設(shè)置的各要素的動作進行控制。
[0053]控制部8例如進行如下的控制:基于載放部2a的基板100的保持控制；基于驅(qū)動部3的保持部2的轉(zhuǎn)速控制(基板100的轉(zhuǎn)速控制)；基于供給部5c的處理液110的供給控制；基于驅(qū)動部5d4的噴嘴5a的位置控制；基于供給部6c的溶劑的供給控制；基于干燥單元7a的溶劑的蒸發(fā)控制；以及基于驅(qū)動部5d4的干燥單元7a的位置控制等。
[0054]在此，對于比較例的由處理液110形成的膜120的狀態(tài)進行例示。
[0055]圖4和圖5是用于例示比較例的膜120的狀態(tài)的模式圖。
[0056]在基板100的表面上形成膜120時，首先，如在圖3中例示的那樣，在使噴嘴5a從基板100的中心側(cè)朝向外周端側(cè)移動的同時，從噴嘴5a向旋轉(zhuǎn)的基板100的表面供給處理液 110。
[0057]于是，在基板100的表面上螺旋狀地涂布處理液110。
[0058]接下來，使基板100以比涂布處理液110時的轉(zhuǎn)速快的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。
[0059]如此，基板100的表面上螺旋狀地涂布的處理液110朝向基板100的外側(cè)擴展，能夠形成由處理液110形成的膜厚均勻的膜120。
[0060]然而，當使基板100以比涂布處理液110時的轉(zhuǎn)速快的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)時，如圖4所示，處于基板100的表面的處理液110的一部分飛散，處理液110的利用效率變差。
[0061]在該情況下，在處理液110的涂布后，即使維持涂布處理液110時的基板100的轉(zhuǎn)速，也能夠形成膜120。
[0062]如此，能夠減少飛散的處理液110的數(shù)量，因此能夠提高處理液110的利用效率。
[0063]然而，由于完全硬化前的膜120具有流動性，因此通過基板100的旋轉(zhuǎn)，處理液100容易集中在基板100的外周端附近。
[0064]因此，如圖5所示，在基板100的外周端附近的上方，容易形成膜120的隆起部分120a。
[0065]S卩，在處理液110的涂布后，如果還維持涂布處理液110時的基板100的轉(zhuǎn)速，則能夠提高處理液I1的利用效率，但難以實現(xiàn)膜120的膜厚均勻化。
[0066]在該情況下，膜120的流動性越高，則越容易形成隆起部分120a，因此更難以實現(xiàn)膜120的膜厚均勻化。
[0067]例如，在處理液110為光致抗蝕劑液等的情況下，膜120的流動性變高，因此非常難以實現(xiàn)膜120的膜厚均勻化。
[0068]因此，在本實施方式的成膜裝置I中，通過適宜地轉(zhuǎn)換基板100的轉(zhuǎn)速，來實現(xiàn)處理液I1的利用效率提高以及膜120的膜厚均勻化。
[0069]例如，控制部8使保持部2以比涂布處理液110時的第一轉(zhuǎn)速慢的第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，而由所涂布的處理液110形成膜120。
[0070]如此，通過基板100的旋轉(zhuǎn)，能夠使集中在基板100的外周端附近的處理液100的一部分向基板100的中心側(cè)移動。即，通過使集中在基板100的外周端附近的處理液110的一部分向基板100的中心側(cè)移動，由此能夠抑制在圖5中例示的隆起部分120a的形成。
[0071]另外,通過使轉(zhuǎn)速比涂布處理液110時的基板100的第一轉(zhuǎn)速降低，能夠使飛散的處理液100的量進一步減少。
[0072]因此，能夠?qū)崿F(xiàn)處理液110的利用效率提高以及膜120的膜厚均勻化。
[0073]此外，在供給處理液110時，存在使基板100的轉(zhuǎn)速變化的情況。
[0074]例如，存在如下情況:隨著噴嘴5a的位置從基板100的中心側(cè)朝向基板100的外周端側(cè)而提高基板100的轉(zhuǎn)速，或者與此相反，隨著噴嘴5a的位置從基板100的外周端側(cè)朝向基板100的中心側(cè)而降低基板100的轉(zhuǎn)速。
[0075]在這種情況下，使基板100以比供給處理液110時的最高轉(zhuǎn)速慢的第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)即可。
[0076]另外，控制部8還能夠在使保持部2以第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)之后，使保持部2以比第二轉(zhuǎn)速快的第三轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。
[0077]如此，能夠使集中在基板100的外周端附近的處理液110的一部分向基板100的中心側(cè)移動，然后，使移動到基板100的中心側(cè)的處理液110的一部分向基板100的外周端側(cè)移動。
[0078]因此，能夠使處理液110移動而均勻，所以能夠進一步實現(xiàn)膜120的膜厚均勻化。
[0079]另外，第三轉(zhuǎn)速與第一轉(zhuǎn)速可以相同、也可以不同。
[0080]另外，控制部8還能夠在使保持部2以第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)之后，依次轉(zhuǎn)換到比第二轉(zhuǎn)速快的第三轉(zhuǎn)速、比第三轉(zhuǎn)速慢的第四轉(zhuǎn)速而使保持部2旋轉(zhuǎn)。
[0081]如此，能夠使處理液110的一部分在基板100的外周端側(cè)與基板100的中心側(cè)之間反復(fù)移動。
[0082]因此，能夠進一步實現(xiàn)膜120的膜厚均勻化。
[0083]另外，第四轉(zhuǎn)速與第二轉(zhuǎn)速可以相同、也可以不同。
[0084]另外，在第三轉(zhuǎn)速和第四轉(zhuǎn)速的轉(zhuǎn)換進行多次的情況下，每次轉(zhuǎn)換時的第三轉(zhuǎn)速可以分別相同、也可以分別不同。另外，每次轉(zhuǎn)換時的第四轉(zhuǎn)速可以分別相同、也可以分別不同。
[0085]此處，處理液110的移動狀態(tài)會受到處理液110的粘度、處理液110的硬化性、處理液I1的量、基板100的大小、溫度等環(huán)境條件等的影響。
[0086]然而，基板100的轉(zhuǎn)速、轉(zhuǎn)速的維持時間、轉(zhuǎn)速的轉(zhuǎn)換次數(shù)等的適當值能夠預(yù)先通過進行實驗、模擬來求取。
[0087]接下來，對第一流動性控制部6進行進一步說明。
[0088]如圖1或圖2所示，第一流動性控制部6具備噴嘴6a、收容部6b、供給部6c以及保持部6d。
[0089]在噴嘴6a的一端設(shè)置有吐出口 6al，在另一端設(shè)置有供給口 6a2。噴嘴6a使由供給部6c供給的溶劑成為霧狀而進行噴霧。
[0090]收容部6b收容溶劑。溶劑例如能夠與處理液110所含的溶劑相同。在處理液110為光致抗蝕劑液的情況下，溶劑例如能夠為酮系溶劑、乙醇系溶劑等。
[0091]供給部6c經(jīng)由噴嘴6a將收容部6b所收容的溶劑向膜120的處于基板100的外周端附近的區(qū)域供給。供給部6c例如能夠向收容部6b供給氮氣等。通過由供給部6c向收容部6b供給氮氣等，由此收容部6b所收容的溶劑被向噴嘴6a壓送。保持部6d使吐出口 6al側(cè)朝向載放部2a地將噴嘴6a保持在基板100的外周端附近的上方。保持部6d設(shè)置在罩4的上面4e上。
[0092]第一流動性控制部6向膜120的處于基板100的外周端附近的區(qū)域供給溶劑。
[0093]如果向膜120的處于基板100的外周端附近的區(qū)域供給溶劑，則能夠提高該區(qū)域的膜120的流動性。
[0094]因此，能夠抑制在圖5中例示的隆起部分120a的形成，因此能夠?qū)崿F(xiàn)膜120的膜厚均勻化。
[0095]接下來，對第二流動性控制部7進行進一步說明。
[0096]如圖1或圖2所示，第二流動性控制部7具有干燥單元7a和保持部7b。
[0097]干燥單元7a使膜120所含的溶劑蒸發(fā)而降低膜120的流動性。干燥單元7a例如能夠是紅外線加熱器、熱風加熱器等。在該情況下，當對膜120施加外力時，膜厚的均勻性有可能變差。因此，干燥單元7a優(yōu)選為紅外線加熱器等那樣的不對膜120施加外力的構(gòu)成。
[0098]保持部7b設(shè)置在軸部5d2上，并沿著軸部5d2移動。另外，保持部7b將干燥單元7a保持在載放部2a的上方。
[0099]保持部7b通過軸部5d2、支持部5d3以及驅(qū)動部5d4而沿著軸部5d2移動。
[0100]處理液供給部5和第二流動性控制部7的使用時期不同，因此處理液供給部5和第二流動性控制部7能夠共用軸部5d2、支持部5d3以及驅(qū)動部5d4。另外，也可以對處理液供給部5和第二流動性控制部7分別設(shè)置軸部5d2、支持部5d3以及驅(qū)動部5d4。但是，如果共用軸部5d2、支持部5d3以及驅(qū)動部5d4，則能夠?qū)崿F(xiàn)機構(gòu)的簡化、省空間化。
[0101]此處，基板100的表面上所形成的膜120有時未完全硬化。因此，在后工序中，有時通過烘烤爐等使膜120干燥而使其完全硬化。
[0102]在該情況下，當膜120的流動性保持比較高的狀態(tài)時，在從成膜裝置I向烘烤爐等搬送基板100時，膜120有可能變形而膜厚均勻性變差。
[0103]因此，在本實施方式的成膜裝置I中，設(shè)置第二流動性控制部7，能夠降低膜120的流動性。
[0104]而且，通過降低膜120的流動性，能夠抑制膜120變形而膜厚均勻性變差。
[0105]而且，干燥單元7a在載放面2al (基板100)的上方向規(guī)定方向移動。因此，通過基板100的旋轉(zhuǎn)以及干燥單元7a的移動，能夠降低基板100的表面上所形成的膜120的特定區(qū)域的流動性，或者降低膜120的全部區(qū)域的流動性。
[0106]接下來，例示成膜裝置I的作用以及本實施方式的成膜方法。
[0107]圖6是用于例示成膜裝置I的作用以及成膜方法的流程圖。
[0108]如圖6所示，首先，通過未圖示的搬送裝置等將基板100載放到載放部2a的載放面2al上(步驟SI)。
[0109]接下來，通過使用了未圖示的真空泵等的吸附等，對載放面2al上所載放的基板100進行保持(步驟S2)。
[0110]接下來，向旋轉(zhuǎn)的基板100的表面上供給處理液110 (步驟S3)。
[0111]首先，控制部8控制驅(qū)動部3，而使保持部2以第一轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。
[0112]然后，在使噴嘴5a從基板100的中心側(cè)朝向外周端側(cè)移動的同時，從噴嘴5a向旋轉(zhuǎn)的基板100的表面供給處理液110。
[0113]于是，如圖3所示，在基板100的表面上螺旋狀地涂布處理液110。
[0114]然后，使基板100以比涂布處理液110時的基板100的轉(zhuǎn)速慢的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)(步驟S4)。
[0115]S卩，控制部8控制驅(qū)動部3，而使保持部2以比涂布處理液110時的第一轉(zhuǎn)速慢的第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。
[0116]通過使保持有基板100的保持部2旋轉(zhuǎn)，能夠由螺旋狀地涂布的處理液110形成膜 120。
[0117]另外，通過使保持部2以比涂布處理液110時的第一轉(zhuǎn)速慢的第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，能夠使集中在基板100的外周端附近的處理液110的一部分向基板100的中心側(cè)移動。因此，能夠抑制在圖5中例示的隆起部分120a的形成。
[0118]另外，通過使保持部2以比涂布處理液110時的第一轉(zhuǎn)速慢的第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，能夠減少飛散的處理液110的量。
[0119]因此，能夠?qū)崿F(xiàn)處理液110的利用效率提高以及膜120的膜厚均勻化。
[0120]另外，如上所述，控制部8還能夠在使保持部2以第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)之后，使保持部2以比第二轉(zhuǎn)速快的第三轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。
[0121]另外，控制部8還能夠在使保持部2以第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)之后，依次轉(zhuǎn)換到比第二轉(zhuǎn)速快的第三轉(zhuǎn)速以及比第三轉(zhuǎn)速慢的第四轉(zhuǎn)速而使保持部2旋轉(zhuǎn)。
[0122]并且，能夠根據(jù)需要進行以下的處理。
[0123]例如，能夠進行控制，以使膜120的處于基板100的外周端附近的區(qū)域的流動性提聞。
[0124]例如，從噴嘴6a朝向膜120的處于基板100的外周端附近的區(qū)域噴霧霧狀的溶齊U。通過所噴霧的溶劑，膜120的該區(qū)域的流動性提高。因此，膜120難以形成隆起部分120a。
[0125]另外，例如，在膜厚的均勻化結(jié)束之后，還能夠以膜120的流動性變低的方式進行控制。
[0126]在該情況下，首先，通過驅(qū)動部3使基板100 (保持部2)以規(guī)定速度旋轉(zhuǎn)。
[0127]接著，使干燥單元7a工作，并且通過移動部5d使干燥單元7a的位置移動。例如，能夠使干燥單元7a的位置從基板100的中心側(cè)朝向外周端側(cè)移動，或使干燥單元7a的位置從基板100的外周端側(cè)朝向中心側(cè)移動，或以在基板100的中心側(cè)和外周端側(cè)之間往復(fù)的方式使干燥單元7a的位置移動。
[0128]通過干燥單元7a能夠使膜120所含的溶劑蒸發(fā)，所以能夠降低膜120的流動性。另外，通過使基板100旋轉(zhuǎn)并且使干燥單元7a的位置移動，能夠降低膜120的全部區(qū)域或膜120的特定區(qū)域的膜120的流動性。
[0129]在該情況下，膜120的流動性能夠成為如下程度:在對基板100進行搬送等時，能夠防止膜120變形而膜厚均勻性變差的程度。
[0130]通過干燥單元7a的工作條件(例如溫度、移動速度等)、基板100的轉(zhuǎn)速等，能夠控制膜120的流動性。
[0131]此處，干燥單元7a的工作條件、基板100的轉(zhuǎn)速等，會受到溶劑的種類、所要求的膜120的流動性等的影響。
[0132]然而，干燥單元7a的工作條件、基板100的轉(zhuǎn)速等的適當值，能夠預(yù)先通過進行實驗、模擬來求取。
[0133]接著，通過未圖示的搬送裝置等，將形成有膜120的基板100從成膜裝置I中取出。
[0134]而且，所取出的基板100能夠通過烘烤爐等進一步干燥。
[0135]在該情況下，在膜厚均勻化結(jié)束之后，只要預(yù)先以膜120的流動性變低的方式進行控制，則在從成膜裝置I向烘烤爐等搬送基板100時，能夠抑制膜120變形而膜厚均勻性變差。
[0136]接下來，例示使用了本實施方式的成膜裝置I或成膜方法的電子設(shè)備的制造方法。
[0137]作為電子設(shè)備的制造方法，例如能夠例示半導(dǎo)體裝置的制造方法。此處，在半導(dǎo)體裝置的制造工序中，存在所謂的前工序中的通過成膜、抗蝕劑涂布、曝光、顯影、蝕刻、抗蝕劑除去等在基板(晶片)表面上形成圖案的工序、檢查工序、清洗工序、熱處理工序、雜質(zhì)導(dǎo)入工序、擴散工序、平坦化工序等。另外，在所謂的后工序中，存在切片(dicing)、安裝、焊接、密封等裝配工序、進行功能、可靠性檢查的檢查工序等。
[0138]本實施方式的成膜裝置I或成膜方法例如能夠在抗蝕劑涂布工序等中使用。
[0139]雖然說明了本發(fā)明的幾個實施方式，但這些實施方式是作為例子而提示的，并不意圖限定發(fā)明的范圍。這些新的實施方式能夠以其它各種方式實施，在不脫離發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)能夠進行各種省略、置換、變更。這些實施方式、其變形包含于發(fā)明的范圍、主旨，并包含于專利請求的范圍所記載的發(fā)明和與其等同的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種成膜裝置,從移動的噴嘴向旋轉(zhuǎn)的基板的表面供給處理液，在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液，通過上述基板的旋轉(zhuǎn)由所涂布的上述處理液形成膜，其中， 具備: 保持部，保持上述基板； 驅(qū)動部，使上述保持部旋轉(zhuǎn)； 處理液供給部，向上述保持部所保持的上述基板的表面供給上述處理液；以及 控制部，至少控制上述驅(qū)動部， 上述控制部使上述保持部以比涂布上述處理液時的第一轉(zhuǎn)速慢的第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，而由所涂布的上述處理液形成膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中， 上述控制部在使上述保持部以上述第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)之后，使上述保持部以比上述第二轉(zhuǎn)速快的第三轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中， 上述控制部在使上述保持部以上述第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)之后，依次轉(zhuǎn)換到比上述第二轉(zhuǎn)速快的第三轉(zhuǎn)速以及比上述第三轉(zhuǎn)速慢的第四轉(zhuǎn)速而使上述保持部旋轉(zhuǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中， 還具備第一流動性控制部，該第一流動性控制部進行控制，以使由所涂布的上述處理液形成的膜的處于上述基板的外周端附近的區(qū)域的流動性提高。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中， 還具備罩，該罩被設(shè)置為至少包圍上述保持部的周圍。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中， 還具備第二流動性控制部，該第二流動性控制部進行控制，以使由所涂布的上述處理液形成的膜的流動性變低。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中， 上述處理液供給部具有吐出上述處理液的噴嘴、使上述噴嘴的位置變化的移動部以及向上述噴嘴供給上述處理液的供給部， 上述控制部控制上述驅(qū)動部、上述移動部以及上述供給部，在使上述噴嘴從上述基板的中心側(cè)朝向外周端側(cè)移動的同時，從上述噴嘴向旋轉(zhuǎn)的上述基板的表面供給上述處理液。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置，其中， 通過從上述噴嘴向旋轉(zhuǎn)的上述基板的表面供給上述處理液，由此在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中， 上述控制部使上述保持部以比涂布上述處理液時的上述第一轉(zhuǎn)速慢的上述第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，由此使集中在上述基板的外周端附近的上述處理液的一部分向上述基板的中心側(cè)移動。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置，其中， 上述控制部在使上述保持部以上述第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)之后，使上述保持部以比上述第二轉(zhuǎn)速快的上述第三轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，由此使集中在上述基板的外周端附近的上述處理液的一部分向上述基板的中心側(cè)移動，然后使移動到上述基板的中心側(cè)的上述處理液的一部分向上述基板的外周端側(cè)移動。
11.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置，其中， 上述控制部在使上述保持部以上述第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)之后，依次轉(zhuǎn)換到比上述第二轉(zhuǎn)速快的上述第三轉(zhuǎn)速以及比上述第三轉(zhuǎn)速慢的上述第四轉(zhuǎn)速而使上述保持部旋轉(zhuǎn)，由此使上述處理液的一部分在上述基板的外周端側(cè)與上述基板的中心側(cè)之間反復(fù)移動。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置，其中， 上述控制部根據(jù)上述噴嘴的位置的變化來使上述基板的轉(zhuǎn)速變化。
13.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成膜裝置，其中， 上述第一流動性控制部向上述區(qū)域供給溶劑。
14.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成膜裝置，其中， 上述第二流動性控制部具有使上述膜所含的溶劑蒸發(fā)的干燥單元。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的成膜裝置，其中， 上述干燥單元是紅外線加熱器以及熱風加熱器中的至少某一種。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中， 上述處理液是光致抗蝕劑液。
17.—種成膜方法,從移動的噴嘴向旋轉(zhuǎn)的基板的表面供給處理液，在上述基板的表面上螺旋狀地涂布上述處理液，通過上述基板的旋轉(zhuǎn)由所涂布的上述處理液形成膜，其中， 使上述基板以比涂布上述處理液時的第一轉(zhuǎn)速慢的第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，而由所涂布的上述處理液形成膜。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的成膜方法，其中， 在使上述基板以上述第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)之后，使上述基板以比上述第二轉(zhuǎn)速快的第三轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的成膜方法，其中， 在使上述基板以上述第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)之后，依次轉(zhuǎn)換到比上述第二轉(zhuǎn)速快的第三轉(zhuǎn)速以及比上述第三轉(zhuǎn)速慢的第四轉(zhuǎn)速而使上述基板旋轉(zhuǎn)。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的成膜方法，其中， 以由所涂布的上述處理液形成的膜的處于上述基板的外周端附近的區(qū)域的流動性變高的方式，向上述區(qū)域供給溶劑。
【文檔編號】B05C11/08GK104209239SQ201410265714
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2014年5月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月31日
【發(fā)明者】佐藤強, 貴志壽之 申請人:株式會社東芝