光刻膠供給裝置及涂布的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種光刻膠供給裝置，其特征在于，所述光刻膠供給裝置包括光刻膠容器、光刻膠供給系統(tǒng)及緩沖容器，所述緩沖容器通過管道分別與所述光刻膠容器及光刻膠供給系統(tǒng)連通，所述緩沖容器與所述光刻膠容器之間產(chǎn)生的壓力差使緩沖容器內(nèi)的光刻膠進(jìn)入所述光刻膠容器內(nèi)，并通過所述緩沖容器與光刻膠供給系統(tǒng)之間產(chǎn)生的壓力差將光刻膠傳送至光刻膠供給系統(tǒng)。本發(fā)明還提供一種具有所述光刻膠供給裝置的涂布機(jī)。
【專利說明】光刻膠供給裝置及涂布機(jī)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種光刻膠供給裝置及涂布機(jī)。

【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的光刻工藝中均包括涂膠的步驟，涂膠工藝的目的是為了在光刻的晶片表面形成光刻膠膜；常用的涂膠方法是動(dòng)態(tài)噴涂，為了保證光刻工藝的質(zhì)量及持續(xù)性，會(huì)設(shè)置有供應(yīng)光刻膠的供應(yīng)裝置。比如常見的供應(yīng)裝置包括光刻膠存儲(chǔ)器、供給系統(tǒng)及連接光刻膠存儲(chǔ)器與供給系統(tǒng)的管道。向需要密封的光刻膠存儲(chǔ)器加壓將光刻膠通過管道傳遞到供給系統(tǒng)，而光刻膠存儲(chǔ)器需要頻繁更換來保證膠體供給量又要保證密封性；因此光刻膠容器與管道連接處承受很大壓力，在這種情況下既要保持容易更換的可操作性，又要有很強(qiáng)的密封性和承壓能力，因此造成連接處極易發(fā)生損壞，松脫和漏液等現(xiàn)象，并且因容易造成生產(chǎn)線的產(chǎn)能損失和人員處理的負(fù)擔(dān)，操作性能較低。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種光刻膠供給裝置，可避免高壓對(duì)光刻膠容器產(chǎn)生的損壞，并保證密封。
[0004]本發(fā)明還提供一種具有所述光刻膠供給裝置的涂布機(jī)。
[0005]提供一種光刻膠供給裝置，所述光刻膠供給裝置包括光刻膠容器、光刻膠供給系統(tǒng)及緩沖容器，所述緩沖容器通過管道分別與所述光刻膠容器及光刻膠供給系統(tǒng)連通，所述緩沖容器與所述光刻膠容器之間產(chǎn)生的壓力差使緩沖容器內(nèi)的光刻膠進(jìn)入所述光刻膠容器內(nèi)，并通過所述緩沖容器與光刻膠供給系統(tǒng)之間產(chǎn)生的壓力差將光刻膠傳送至光刻膠供給系統(tǒng)。
[0006]其中，所述緩沖容器還連接有吸真空裝置，通過吸真空裝置降低所述緩沖容器內(nèi)部壓力。
[0007]其中，所述緩沖容器還連接有壓縮空氣裝置，通過壓縮空氣裝置增加所述緩沖容器內(nèi)部壓力。
[0008]其中，所述緩沖容器與吸真空裝置之間設(shè)置有第一閥門。
[0009]其中，所述緩沖容器與所述壓縮空氣裝置之間設(shè)置有第二閥門。
[0010]其中，所述光刻膠容器通過管道與外界連通，以便為光刻膠容器內(nèi)提供大氣壓力。
[0011]其中，所述緩沖容器與所述光刻膠容器之間以及與光刻膠供給系統(tǒng)之間均設(shè)有控制閥。
[0012]其中，所述光刻膠容器設(shè)有光阻轉(zhuǎn)接頭，所述管道穿過光阻轉(zhuǎn)接頭。
[0013]其中，所述緩沖容器與所述光刻膠供給系統(tǒng)相對(duì)固定。
[0014]一種涂布機(jī)，包括權(quán)利要求以上所述的光刻膠供給裝置。
[0015]本發(fā)明的光刻膠供給裝置在光刻膠容器與光刻膠供給系統(tǒng)之間連接有密封的緩沖容器，通過三者之間的壓力差進(jìn)行光刻膠的傳輸，所述光刻膠容器的光阻轉(zhuǎn)接頭不需要承受壓力，減少光阻轉(zhuǎn)接頭損壞發(fā)生。反復(fù)拆卸也時(shí)密封性要求較低，降低及泄露產(chǎn)生。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0017]圖1是本發(fā)明實(shí)施例的光刻膠供給裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0018]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0019]請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明佳實(shí)施方式提供一種光刻膠供給裝置100，其用于為涂布機(jī)工作中光刻膠原料的供給。所述光刻膠供給裝置100包括光刻膠容器10、光刻膠供給系統(tǒng)20及緩沖容器30。所述緩沖容器30通過管道15分別與所述光刻膠容器10及光刻膠供給系統(tǒng)20連通。所述緩沖容器30與所述光刻膠容器10之間產(chǎn)生的壓力差使光刻膠進(jìn)入所述光刻膠容器10內(nèi)，并通過所述緩沖容器30與光刻膠供給系統(tǒng)20之間產(chǎn)生的壓力差將光刻膠傳送至光刻膠供給系統(tǒng)20。
[0020]本實(shí)施例中，所述光刻膠容器10通過管道11與外界連通，外界提供干燥的空氣通過管道進(jìn)入所述光刻膠容器10內(nèi)，使所述光刻膠容器10內(nèi)的壓力增大，以便將光刻膠容器內(nèi)的光刻膠壓出。所述光刻膠容器10內(nèi)的光刻膠通過管道11進(jìn)入所述緩沖容器30。所述光刻膠容器10 口部設(shè)有光阻轉(zhuǎn)接頭12，所述管道11穿過光阻轉(zhuǎn)接頭12。在更換所述光刻膠容器10時(shí)，所述光阻轉(zhuǎn)接頭與所述光刻膠容器10之間無需進(jìn)行特定的密封。所述緩沖容器30與所述光刻膠容器10之間以及與光刻膠供給系統(tǒng)20之間的管道13上均設(shè)有控制閥。所述緩沖容器30與所述光刻膠容器10之間的控制閥控制光刻膠進(jìn)入所述緩沖容器30。所述緩沖容器30與光刻膠供給系統(tǒng)20之間的控制閥控制光刻膠進(jìn)入進(jìn)入所述光刻膠供給系統(tǒng)20內(nèi)。
[0021]進(jìn)一步的，所述緩沖容器30連接有吸真空裝置35，通過吸真空裝置降低所述緩沖容器30內(nèi)部壓力。本實(shí)施例中，所述緩沖容器30通過管道32與所述吸真空裝置35連通，并且所述緩沖容器30與吸真空裝置35之間設(shè)置有第一閥門351。通過所述第一閥門351的打開或者關(guān)閉來控制真空裝置35為所述緩沖容器30提供吸真空動(dòng)作。當(dāng)吸真空裝置35開啟后，所述緩沖容器30內(nèi)的壓力小于所述光刻膠容器10內(nèi)的壓力，所述光刻膠從所述光刻膠容器10吸取至所述緩沖容器30內(nèi)。
[0022]進(jìn)一步的，所述緩沖容器30還連接有壓縮空氣裝置40，通過壓縮空氣裝置40增加所述緩沖容器30內(nèi)部壓力。本實(shí)施例中，所述壓縮空氣裝置40與所述緩沖容器30之間設(shè)置有第二閥門45。通過所述第二閥門451的打開或者關(guān)閉來控制所述壓縮空氣裝置40為所述緩沖容器30增加壓力的動(dòng)作。當(dāng)壓縮空氣裝置40開啟后，所述緩沖容器30內(nèi)的壓力大于所述光刻膠供給系統(tǒng)20的壓力，所述光刻膠從所述緩沖容器30吸取至所述光刻膠供給系統(tǒng)20內(nèi)。在此制程之前，需要先開啟吸真空裝置35將光刻膠吸入所述緩沖容器30內(nèi)，然后關(guān)系吸真空裝置35，在開啟壓縮空氣裝置40。
[0023]進(jìn)一步的，所述緩沖容器30與所述光刻膠供給系統(tǒng)20相對(duì)固定。所述緩沖容器30內(nèi)處以密封狀態(tài)，在填充光刻膠時(shí)或者更換光刻膠容器10時(shí)，無需拆解，保證密封性。
[0024]本發(fā)明的光刻膠供給裝置在光刻膠容器10與光刻膠供給系統(tǒng)20之間連接有密封的緩沖容器30，通過三者之間的壓力差進(jìn)行光刻膠的傳輸，所述光刻膠容器10的光阻轉(zhuǎn)接頭12不需要承受壓力，減少光阻轉(zhuǎn)接頭12損壞發(fā)生。反復(fù)拆卸也時(shí)密封性要求較低，降低及泄露產(chǎn)生；而所述緩沖容器30不足要反復(fù)更換，保證了密封性。
[0025]本發(fā)明還提供一種涂布機(jī)，其包括權(quán)利要求以上所述的光刻膠供給裝置。通過改變光刻膠供液裝置，消除所述光刻膠容器10的光阻轉(zhuǎn)接頭12承受重壓的現(xiàn)狀，降低涂布機(jī)產(chǎn)線異常發(fā)生頻率和產(chǎn)能損失，降低生產(chǎn)線人員工作負(fù)擔(dān)。
[0026]以上所揭露的僅為本發(fā)明較佳實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利范圍，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的全部或部分流程，并依本發(fā)明權(quán)利要求所作的等同變化，仍屬于發(fā)明所涵蓋的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種光刻膠供給裝置，其特征在于，所述光刻膠供給裝置包括光刻膠容器、光刻膠供給系統(tǒng)及緩沖容器，所述緩沖容器通過管道分別與所述光刻膠容器及光刻膠供給系統(tǒng)連通，所述緩沖容器與所述光刻膠容器之間產(chǎn)生的壓力差使緩沖容器內(nèi)的光刻膠進(jìn)入所述光刻膠容器內(nèi)，并通過所述緩沖容器與光刻膠供給系統(tǒng)之間產(chǎn)生的壓力差將光刻膠傳送至光刻膠供給系統(tǒng)。
2.如權(quán)利要求1所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述緩沖容器還連接有吸真空裝置，通過吸真空裝置降低所述緩沖容器內(nèi)部壓力。
3.如權(quán)利要求2所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述緩沖容器還連接有壓縮空氣裝置，通過壓縮空氣裝置增加所述緩沖容器內(nèi)部壓力。
4.如權(quán)利要求3所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述緩沖容器與吸真空裝置之間設(shè)置有第一閥門。
5.如權(quán)利要求4所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述緩沖容器與所述壓縮空氣裝置之間設(shè)置有第二閥門。
6.如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述光刻膠容器通過管道與外界連通，以便為光刻膠容器內(nèi)提供大氣壓力。
7.如權(quán)利要求6所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述緩沖容器與所述光刻膠容器之間以及與光刻膠供給系統(tǒng)之間均設(shè)有控制閥。
8.如權(quán)利要求6所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述光刻膠容器設(shè)有光阻轉(zhuǎn)接頭，所述管道穿過光阻轉(zhuǎn)接頭。
9.如權(quán)利要求8所述的光刻膠供給裝置，其特征在于，所述緩沖容器與所述光刻膠供給系統(tǒng)相對(duì)固定。
10.一種涂布機(jī)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的光刻膠供給裝置。
【文檔編號(hào)】B05C11/10GK104281007SQ201410385311
【公開日】2015年1月14日 申請(qǐng)日期:2014年8月6日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月6日
【發(fā)明者】何文超, 陳聰文, 李俞廷 申請(qǐng)人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司